【課題】高線速で光ファイバを製造する際にも、被覆層に泡が混入し難い光ファイバ用樹脂被覆装置及び被覆方法の提供。
【解決手段】線引きされた光ファイバ裸線の外周にコーティング樹脂液を塗布し、これを硬化させて被覆層を形成し、光ファイバ素線を製造する光ファイバ素線製造装置に用いられ、ニップルとダイス間にコーティング樹脂液が供給され、外周にコーティング樹脂液を塗布したファイバがダイスから導出される光ファイバ用樹脂被覆装置において、光ファイバ裸線の導入側に、パージガスを導入する多段のパージ部を有することを特徴とする光ファイバ用樹脂被覆装置。 （もっと読む）

【課題】低損失の光ファイバ素線を効率よく製造できる製造方法の提供。
【解決手段】光ファイバ母材を加熱炉で加熱溶融し、次いで光ファイバ裸線を引き出し、次いで得られた光ファイバ裸線を徐冷し、次いで前記光ファイバ裸線を樹脂コーティング可能な温度まで冷却し、次いで光ファイバ裸線の周りにコーティング液を塗布し硬化させて、得られた光ファイバ素線を巻き取る光ファイバ素線の製造方法において、光ファイバ裸線を徐冷する際に徐冷炉を使用し、徐冷炉内の雰囲気ガスとしてＨｅガス又はＨｅ含有ガスを用い、且つ徐冷炉内を１２００℃〜１５００℃の温度に設定して徐冷を行うことによって、コア近傍のクラッドの残留応力が圧縮応力であり、コアの残留応力が前記クラッドより小さい圧縮応力、残留応力ゼロ、又は引っ張り応力のいずれかになっている残留応力分布を有する光ファイバ素線を得ることを特徴とする光ファイバ素線の製造方法。 （もっと読む）

【課題】着色層の接着力が改善された光ファイバ心線及びテープ心線を提供する。
【解決手段】光ファイバ被覆層樹脂の硬化の際の紫外線照射量及び雰囲気酸素を制御して、着色層樹脂の塗布の接着性に対し光ファイバ素線の表面状態の最適化を図る。最適化の評価は、ウィルヘルミ法にて算出した、純水に対する動的接触角（α−β）が２９°以上になるようにすることで行なわれる。特に、テープ心線から光ファイバ線の単身分離の際に、着色層の剥離が防がれる。 （もっと読む）

【課題】常態では光が届かないようなところであっても、光触媒機能を十分に発揮できる光触媒ファイバーを提供するもので、光学的な面からだけではなく、電気化学的な面からみても、触媒活性が優れたものとなる。さらにこの光触媒ファイバーを利用し、効率の良い液体浄化ができる装置を提供する。
【解決手段】コア１０の外周に、透明導電体層からなる第１クラッド１１、その外周に光触媒層からなる第２クラッド１２を有する光触媒ファイバー１である。 （もっと読む）

【課題】安価で信頼性が高く高出力動作が可能な側面励起方式の光ファイバ型光増幅装置及びこれを用いた光ファイバ型レーザ装置を提供する。
【解決手段】外周面で光を反射する内部円筒部材１１の外周に、希土類元素が部分的に添加された光ファイバ１２が少なくとも一回巻かれており、その内部円筒部材１１に巻かれた光ファイバ１２よりも外周に、内面で光を反射する外部部材１３が設けられ、この外部部材１３に一部が開放された開放部が形成され、上記外部部材１３の外側に、上記開放部を通して上記光ファイバ１２に励起光を照射する励起光源が設けられた。 （もっと読む）

【課題】 導波帯域幅が広く、伝送損失が低いフォトニックバンドギャップファイバ（ＰＢＧＦ）の提供。
【解決手段】 石英部分に多数の空孔がファイバ長手方向に沿って設けられたＰＢＧＦであって、ファイバ横断面において第１のピッチで多数の空孔が一列に並べられた第１の空孔列と、前記第１のピッチの２倍である第２のピッチで多数の空孔が並べられ、該空孔と前記第１の空孔列の空孔とが三角格子を形成するように配置された第２の空孔列とが交互に並べられた拡張三角格子状の空孔周期構造をクラッドに有し、且つ多数の空孔が一定のピッチで三角格子状に並べられて構成されたコアとを有することを特徴とするＰＢＧＦ。 （もっと読む）

【課題】 導波帯域幅が広く、伝送損失が低いフォトニックバンドギャップファイバ（ＰＢＧＦ）の提供。
【解決手段】 石英部分に多数の空孔がファイバ長手方向に沿って設けられたＰＢＧＦであって、ファイバ横断面において第１のピッチで多数の空孔が一列に並べられた第１の空孔列と、前記第１のピッチの２倍である第２のピッチで多数の空孔が並べられ、該空孔と前記第１の空孔列の空孔とが三角格子を形成するように配置された第２の空孔列とが交互に並べられた拡張三角格子状の空孔周期構造をクラッドに有し、且つ空孔コアとを有することを特徴とするＰＢＧＦ。 （もっと読む）

【課題】 オーバーコート層が確実に除去できるオーバーコート心線を提供する。
【解決手段】 本発明のオーバーコート心線１９は、ガラスファイバ３０上に樹脂層３１が被覆された光ファイバ心線１上にさらにオーバーコート層１６が被覆されたオーバーコート心線１９であって、２３℃におけるオーバーコート層１６のヤング率が３００ＭＰａ以下であり、２３℃においてオーバーコート層１６を光ファイバ心線１から５０ｍｍ／分の速さで除去する引抜力の最大値が０．１２Ｎ／ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 広帯域で非線形性が高くＳＣ光を高効率に発生させることができる光ファイバを提供する
【解決手段】 本発明の光ファイバは、中心コア領域と、該中心コア領域より低い屈折率を有し該中心コア領域の周囲にある外部クラッド領域と、を少なくとも有し、波長１５２０ｎｍ〜１６２０ｎｍの範囲に含まれる何れかの波長λ１において、波長分散が−２ps/nm/km〜＋２ps/nm/kmの範囲にあり、分散スロープが−０.００９ps/nm²/km〜＋０.００９ps/nm²/kmの範囲にあり、四次分散が−１.８×１０^−４ps/nm³/km〜＋１.８×１０^−４ps/nm³/kmの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 重水素処理が十分に行われていることを容易に確認することができ、かつ短期間に重水素処理を終えることができるとともに、損失の確認のために測定後廃棄する必要のない光ファイバの処理方法を提供する。
【解決手段】 第１の発明は、重水素に曝露して耐水素特性を高める光ファイバの処理方法において、重水素処理開始後、波長1714nmもしくはその付近での損失が所定の数値幅以上変化するまで処理を行うことを特徴とする光ファイバの処理方法であり、第２の発明は、複数の光ファイバを同時に処理装置内に配置し重水素に曝露して耐水素特性を高める光ファイバの処理方法において、前記複数の光ファイバのうち少なくとも1本の光ファイバの端部を処理装置外に引き出し、光源と受光部を有する測定装置により、波長1714nmもしくはその付近での損失をモニタし、該損失値が所定の数値幅以上変化するまで処理を行なうことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】光ファイバを製造する過程にて中間のプリフォームを作製する方法は、ガラス前駆体を保持するゾルを形成するステップと、１組みの細長い要素２０２を保持する鋳型２０にゾルを注入するステップと、ゾルを経時変化させてゲル体を得るステップと、細長い要素の組みをゲル体から除去してゲル体に相応する組みの穴を形成するステップと、ゲル体を鋳型から除去するステップとを備え、該方法は、ゾルを経時変化する間、組みの細長い要素の動きを付与し、ゲルの細長い要素への接着を防止するステップを更に備え、該動きは、それぞれの軸線の周りの回転又はそれぞれの軸線に沿った交番的な平行移動動作であることが好ましい。方法を実施する手段を備える装置も特許請求されている。
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【課題】 油井探査・採掘事業において１０ｋｍ以上の深度に対応する３００℃以上の高温でも、光センサシステム探査を行うことができる光ファイバケーブルを得る。
【解決手段】 冷却手段２０によって光ファイバ１１の外層側を冷却するので、例えば、油井採掘等の温度監視センサシステムのような高温に晒される場所にも使用することができ、光センサシステムを用いた探査が可能となる。 （もっと読む）

零材料分散波長が２μｍ以上であり、非線形感受率χ^３が１ｘ１０^−１２ｅｓｕ以上と高く、低損失ファイバに加工するのに十分な熱安定性を有するテルライトガラスを用いた光ファイバにおいて、コア領域への閉じ込めの強いＰＣＦ構造またはＨＦ構造を採用した。これにより光が低損失で導波しうる。コア領域に設けた空孔の大きさおよび形状、ならびに隣接した空孔同士の間隔により、零分散波長を通信波長帯（１．２〜１．７μｍ）内に制御すると共に、非線形定数γが５００Ｗ^−１ｋｍ^−１以上の大きな非線形性を持つ。
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【課題】 コート剤の物性確保とガラスファイバ外周表面への密着性を向上しつつ、ファイバの透過率低下やコート被覆ファイバの柔軟性・強靭性低下を発生することが防止されるファイバ製造方法およびファイバを提供する。
【解決手段】 ファイバ１２を製造するファイバ製造方法は、母材１２ａを加熱炉で加熱溶融した状態で前記母材１２ａを線引きしてファイバ母材１２を形成する工程と、ファイバ母材１２の外周表面をコート前処理する工程と、ファイバ母材１２の外周表面に遮光コート剤を塗布する工程と、遮光コート剤を硬化炉で硬化させて遮光コート剤層１４を形成する工程とを備えている。ファイバ母材１２の外周表面をコート前処理する工程は、大気圧プラズマ装置２４によりプラズマガスをファイバ母材１２に吹き付ける前処理を行なう工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバ中に残存するＮＢＯＨＣの量に応じて重水素処理を行うことにより過不足なく重水素処理できる光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】 光ファイバ２を収容した処理容器１ａ内に重水素含有ガスを導入して、前記光ファイバ２を前記重水素含有ガスの雰囲気に曝す重水素処理工程を少なくとも備える光ファイバ２の製造方法であって、前記重水素処理工程を前記光ファイバの６３０ｎｍにおける吸収損失を測定しながら行う光ファイバの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高伝送帯域幅となる波長領域が非常に広く、波長多重に適し、さらに製造が容易な光導波路、それを用いた光伝送路及び光通信システムの提供。
【解決手段】 石英ガラスにそれぞれ異なるドーパントを添加して作製された２種類以上のＧＩ型マルチモードファイバ（ＭＭＦ）を接続して構成されたことを特徴とする光導波路。本発明において、光導波路１０は、Ｇｅ添加ＧＩ型ＭＭＦ１２とＦ添加ＧＩ型ＭＭＦ１１とを接続して構成することが好ましい。 （もっと読む）

中心に配置されたコア（１）と、前記コア（１）の周上に配置された第１クラッド層（２）と、前記第１クラッド層（２）の周上に配置された第２クラッド層（３）と、前記第２クラッド層（３）の周上に配置された第３クラッド層（４）と、を備えた光ファイバであって、前記コアの最大屈折率は、前記第１クラッド層、第２クラッド層、および第３クラッド層の各最大屈折率のいずれよりも大きく、前記第２クラッド層の最大屈折率は、前記第１クラッド層および第３クラッド層の各最大屈折率のいずれよりも小さく、かつ前記コアの半径をａ_１、前記第１クラッド層の外縁の半径をａ_２とするとき、ａ_２／ａ_１の値が２．５以上４．５以下であり、前記第３クラッドの屈折率を基準としたときの前記コアの比屈折率差が０．２０以上０．７０％以下である。
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【課題】 強度低下の要因となる傷、異物、結晶などをプリフォームの表面から除去することができる酸化ビスマス系光ファイバ製造方法を提供する。
【解決手段】 プリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する方法であって、プリフォームを超音波を印加しながら硝酸水溶液によりエッチングし、当該エッチングされたプリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する。 （もっと読む）

【解決手段】光ファイバに重水素処理を行う際に、重水素処理前の非架橋酸素欠陥（ＮＢＯＨＣ）による６３０ｎｍ帯の波長の吸収ピークが重水素処理後に消失したことを確認して製品用光ファイバとする。この確認は、６００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長範囲おいて伝送損失を重水素処理中に所定時間毎あるいは随時測定したり、６３０ｎｍの単一光源を入射して重水素処理中に連続的に伝送損失を測定して行う。
【効果】 光ファイバに重水素処理を行う際に、重水素処理前のＮＢＯＨＣによる６３０ｎｍ帯の波長の吸収ピークが重水素処理後に消失したことを確認して製品用光ファイバとするので、従来の水素処理を行う必要がなく、低損失光ファイバの製品化までの工程を著しく効率化できる。 （もっと読む）

【課題】光軸方向に延びるファイバ孔を有する光ファイバを、良品の製造歩留まりよく製造する方法を提供する。
【解決手段】長手方向に延びるファイバ母材孔２１を有する光ファイバ母材２０のファイバ母材孔２１を加圧しながら、線引炉３０Ｃにおいて光ファイバ母材２０を加熱・軟化し線引きして、ファイバ母材孔２１に対応するファイバ孔１２を有する光ファイバ１０を製造する。この際、光ファイバ１０の光軸方向Ｌに直交する断面１４におけるファイバ孔の大きさを所望の大きさにするための目標圧力Ｐ１より高い初期圧力Ｐ２でファイバ母材孔２１を加圧しながら光ファイバ母材２０を線引きをした後に、目標圧力Ｐ１でファイバ母材孔２１を加圧しながら光ファイバ母材２０を線引きする。その結果、所望の大きさのファイバ孔を有する光ファイバを得るまでの時間を短くなり良品取り可能な光ファイバの量が増加するため、良品の製造歩留まりが向上する。 （もっと読む）