【課題】 液晶ディスプレイの表示色再現範囲を拡大させる特性を有する液晶用フィルムを提供する。
【解決手段】 少なくとも３層からなり、その内層に光線吸収剤を含有し、光線波長５３５〜５５５ｎｍ、５７０〜５９０ｎｍ、６００〜６２０ｎｍにおける光線透過率の各平均値（それぞれＴ_{５３５−５５５}、Ｔ_{５７０−５９０}、Ｔ_{６００−６２０}）が下記式（１）および（２）式を同時に満足し、全光線透過率が７５％以上である積層ポリエステルフィルムの両面に当該フィルム製造工程内で設けられた塗布層を有し、一方の塗布層の塗布量が０．０３〜０．５ｇ／ｍ^２であり、当該塗布層上にハードコート層を有し、もう一方の塗布層の塗布量が０．００１〜０．３ｇ／ｍ^２であり、当該塗布層上に拡散層を有することを特徴とする液晶用複合フィルム。
Ｔ_{５３５−５５５}−Ｔ_{５７０−５９０}≧３％ …（１）
Ｔ_{６００−６２０}−Ｔ_{５７０−５９０}≧３％ …（２） （もっと読む）

【課題】基材フィルムよりも屈折率が高いハードコート層を有し干渉斑のないハードコートフィルム、反射防止性が高く大量生産性に適した光学フィルム、干渉ムラ防止性に優れた光学フィルム、及び前記光学フィルムを具備した偏光板および画像表示装置の提供。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上に、低屈折率微粒子と硬化性樹脂を含有し、膜厚が１μｍ以上の硬化層を有し、該硬化性樹脂の硬化後の屈折率が該透明プラスチックフィルム基材の屈折率よりも０．０３〜０．３０高く、かつ該低屈折率微粒子が該透明プラスチックフィルム基材面側に偏在している光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】
優れた防眩性、高精細、高ヘイズ、低光沢度の実現に加えて、高い歩留まり性、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造時の作業性および安全性の向上させた防眩フィルムを提供すること。
【解決手段】
本発明の防眩フィルムは、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルムを用い、基材フィルム上に防眩層を設けた防眩フィルムにおいて、防眩層の表面構造制御および防眩層用コーティング組成物の微粒子量を調整により、優れた防眩性を実現し、高精細、高ヘイズ、低光沢度の実現に加えて、高い歩留まり性、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。 （もっと読む）

【課題】鹸化処理工程、水洗工程において抽出物を安定化し、被鹸化フィルム上に残留しない界面活性を用いたアルカリ鹸化方法、および該鹸化方法により得られた表面鹸化セルロースアシレートフィルム、光学フィルム、偏光板、液晶表示デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともアルカリ剤および界面活性剤を含有するアルカリ溶液を用いて、ポリマーフィルムをアルカリ鹸化処理するポリマーフィルムのアルカリ鹸化方法において、前記界面活性剤が、一般式（１）で表わされるノニオン系界面活性剤であり、
Ｒ_１−Ｌ_１−Ｑ_１ （１）
ノニオン系界面活性剤のＨＬＢ値が１７．０〜１９．０であり、かつ、アルカリ溶液中のノニオン系界面活性剤の濃度が０．１〜１．０質量％であることを特徴とするポリマーフィルムのアルカリ鹸化方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高色濃度カラーフィルタの赤色着色層の欠陥修正を行っても、目視で発見されにくい高色濃度カラーフィルタおよびその修正方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基材と、上記基材上に形成された画素部を画定する遮光部と、上記遮光部の開口部に形成された赤色着色層とを有する高色濃度カラーフィルタであって、上記赤色着色層は、製造時に修正された修正部と、修正されていない非修正部とからなり、上記修正部は、主顔料として赤色顔料を用い、調色用顔料として緑色顔料を用いた着色剤を含有する着色層であることを特徴とする高色濃度カラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】正面方向の輝度が高いバックライト用輝度向上装置を簡単、かつ、低廉なコストで提供することである。
【解決手段】 バックライトに用いられるレンズシートの製造方法であって、
前記レンズシートの一面側に設けられたレンズ部の先端部にのみ離型剤を設ける離型剤形成工程と、前記離型剤形成工程で設けられた離型剤の箇所より後方のレンズ部の側面全域に亘って反射層を形成するレンズ部表面反射層形成工程と、前記レンズ部表面反射層形成工程で形成された反射層の中の前記離型剤表面に形成された反射層を除去する反射層除去工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理に伴う欠陥の発生を防止し、かつ、液晶の配向均一性に優れた液晶配向層が形成された傾斜配向位相差フィルムを提供する。
【解決手段】親水性樹脂とレベリング剤と溶媒とを含有する配向膜形成組成物溶液を基材上に塗布する配向膜形成工程、該配向膜形成組成物溶液が塗布された基材を乾燥して配向膜を固化する配向膜乾燥工程、及び該配向膜をラビング処理するラビング工程を有し、 該配向膜乾燥工程における所定の温度範囲内である配向基材の製造方法により、上記課題を解決し得る配向基材が得られる。傾斜配向位相差フィルムは、かかる基材上に液晶層を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面に均一なラビング処理が施されることにより、液晶性分子が均一に配向され、均一な光学特性を有する光学フィルムを提供する。
【解決手段】長手方向に搬送される長尺のプラスチックフィルムＦの表面をラビングロールによって擦るラビング処理工程と、前記ラビング処理工程を経たプラスチックフィルムの表面に液晶性分子を塗布する塗布工程と、前記塗布した液晶性分子を固定する固定工程とを含む製造方法により製造される光学フィルムであって、前記ラビング処理工程において、前記プラスチックフィルムの一方の表面に接触して当該プラスチックフィルムを搬送する一対の搬送ロール１Ａ，１Ｂが配置されると共に、当該一対の搬送ロールの間に前記プラスチックフィルムの他方の表面に接触するラビングロール２が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、偏光子の少なくとも片面に、接着剤層、透明保護フィルムおよび光学補償層をこの順で有する偏光板であって、当該偏光板を液晶パネルに適用した場合にも表示ムラを小さく抑えることができる、偏光板を提供すること。
【解決手段】偏光子の少なくとも片面に、接着剤層、透明保護フィルムおよび光学補償層をこの順で有する偏光板であって、前記光学補償層は、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ（但し、面内屈折率が最大となる方向をＸ軸、Ｘ軸に垂直な方向をＹ軸、厚さ方向をＺ軸とし、それぞれの軸方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとする）の関係を満足し、かつ、前記透明保護フィルムはグルタルイミド単位および（メタ）アクリル酸エステル単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含有してなり、かつ、面内位相差が４０ｎｍ未満、厚み方向位相差が８０ｎｍ未満であることを特徴とする偏光板。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの塗布ムラを解消する。
【解決手段】平坦化層の上に緑色のカラーフォトレジストをスピン塗布する（ｓｔ１）。露光，現像，加熱処理の各処理を行ない（ｓｔ２）、ストライプ状に形成された厚みが均一な緑色のカラーフィルタを得る。次に、青色のカラーフォトレジストをスプレー塗布する（ｓｔ３）。緑色のカラーフィルタが形成されていない溝状部に青色のカラーフォトレジストが入る。上述した各処理を行ない（ｓｔ４）、厚みが均一な青色のカラーフィルタを得る。次に、赤色のカラーフォトレジストをスプレー塗布し（ｓｔ５）、溝状部に入る。上述した各処理を行ない（ｓｔ６）、厚みが均一な赤色のカラーフィルタを得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、色特性に優れ、輝度の高い着色層を形成可能なカラーフィルタ形成用基板を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成され、開口部を備える多段遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板であって、上記多段遮光部が、上記基材上に形成された最下段遮光層を含む下段遮光部と、上記下段遮光部上に形成され、少なくとも頂部が撥液性である、最上段遮光層とからなり、上記最上段遮光層を除く上記各遮光層が、直上の遮光層よりも平面視面積が広く、着色層乗り上げ部を有するものであることを特徴とするカラーフィルタ形成用基板を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する基板と入射光を偏光させる機能を有する偏光層とが高い寸法精度で強固に接合され、かつ、耐久性に優れるとともに、白抜け現象の発生が抑えられた偏光板、かかる偏光板を備えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の偏光板１は、光透過性を有する基板２と偏光フィルム４１とを有し、基板２と偏光フィルム４１とが接合膜３を介して接合されており、接合膜３は、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）結合を含みランダムな原子構造を有するＳｉ骨格と、該Ｓｉ骨格に結合する脱離基とを含み、接合膜３は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、接合膜３の表面付近に存在する脱離基が前記Ｓｉ骨格から脱離し、接合膜３に発現した接着性によって、基板２と偏光フィルム４１とを接合している。 （もっと読む）

【課題】被着体に対して、高い寸法精度で強固に接合することができる接合膜付き偏光板、かかる接合膜付き偏光板を備え、白抜け現象の発生が確実に防止された画像表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の接合膜付き偏光板１は、光透過性を有する基板２と偏光フィルム４１とを有し、偏光フィルム４１の基板２とは反対側の面に接合膜３が設けられており、接合膜３は、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）結合を含みランダムな原子構造を有するＳｉ骨格と、該Ｓｉ骨格に結合する脱離基とを含み、接合膜３は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、接合膜３の表面付近に存在する脱離基が前記Ｓｉ骨格から脱離し、接合膜３の表面に、被着体との接着性が発現するものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡便にホメオトロピック配向液晶層が形成でき、他部材への転写等も容易となる配向膜を用いて光学フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】ケン化度が７５〜９０％のポリビニルアルコールから少なくともなる配向膜に用いることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は（ａ）リオトロピック液晶化合物が広い濃度範囲で液晶性を示すようなコーティング液の製造方法を提供すること（ｂ）前記のコーティング液を用いて配向度の高い光学異方膜を製造する方法を提供することである。
【解決手段】本発明のコーティング液の製造方法はリオトロピック液晶化合物と溶媒とを含む酸性溶液に、水酸化アンモニウムを混合してコーティング液のｐＨを調整する工程を含む。また本発明の光学異方膜の製造方法は上記のコーティング液の製造方法により製造されたコーティング液を薄膜状に流延し、乾燥して光学異方膜を得る工程を含む。
（もっと読む）

【課題】すでにパターンが施された基板のパターン欠陥部にインキを転写して修正するパターン修正方法において、従来のフィルム転写方式を用いたパターン修正方法の不具合を解決し、パターン修正部の正確な位置決めや修正フィルムの転写後のパターニングを必要としない高精度なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供する。
【解決手段】インキ剥離性フィルム１０７上にパターニングした予備乾燥インキ膜１１３を基板１１５上パターン欠陥部に加圧転写して修正し、前記インキ剥離性フィルム１０７上にパターニングした予備乾燥インキ膜１１３を得る方法として、インキ剥離性フィルム１０７上に修正用インキを塗布し、予備乾燥状態にしてから、必要とするパターンを凹部とする版１０９を接触させ、余分なパターン部を版１０９凸部へ転移させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な防汚性を保ちつつ、防汚剤のブリードアウトを防止し、ロール状に巻き取った場合であっても裏移りの生じない光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材と機能層とを有する光学積層体であって、前記機能層は、防汚剤を含有する機能層形成用組成物を塗布することで形成されたものであり、かつ、前記光透過性基材と反対側の表面から１００ｎｍまでの領域における単位面積あたりの前記防汚剤由来の光吸収強度（Ａ_１００）に対する、前記光透過性基材と反対側の表面から５０ｎｍまでの領域における単位面積あたりの前記防汚剤由来の光吸収強度（Ａ_５０）の比（Ａ_５０／Ａ_１００）が、０．６〜０．９であることを特徴とする光学積層体。 （もっと読む）

【課題】 全方位においてほぼ色付の無いニュートラルな表示が可能な液晶パネルを提供する。
【解決手段】 液晶セル１３の両側に第１の偏光子１４ａ及び第２の偏光子１４ｂを有し、液晶セル１３と第１の偏光子１４ａの間に第１の光学補償層１１ａを有し、液晶セル１３と第２の偏光子１４ｂの間に第２の光学補償層１１ｂを有し、且つ、第１の光学補償層１１ａと第２の光学補償層１１ｂの間に第３の光学補償層１２を有する液晶パネルであって、液晶セル１３の波長分散がＲｅ_４０（４５０）＞Ｒｅ_４０（５５０）＞Ｒｅ_４０（６５０）であり、第１及び第２の光学補償層１１ａ，１１ｂの波長分散が０．７＜Ｒｅ_４０（４５０）／Ｒｅ_４０（５５０）＜１．０５であり、第３の光学補償層１２の波長分散がＲｅ_４０（４５０）＞Ｒｅ_４０（５５０）＞Ｒｅ_４０（６５０）であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】１つの画素に反射表示部と透過表示部とを有する液晶表示装置に関し、ＦＦＳ、ＩＰＳ等の液晶モードの液晶表示装置に適用して、高い生産性を確保してＦＦＳモード等による半透過型液晶表示装置を作成する。
【解決手段】半透過型液晶表示装置は、配向膜の下面を所定方向に延長する溝形状として配向膜に配向能を付与し、前記所定方向は、反射表示部と透過表示部とで異なるように設定された、分割配向の配向膜を備える。 （もっと読む）

【課題】光触媒性粒子の光触媒性能を損なうことなく、反射率を低減した膜を形成することができ、セルフクリーニング性を有する反射防止膜付き基材を提供する。
【解決手段】基材の表面に高屈折率層と低屈折率層をこの順に積層して形成される反射防止膜付き基材に関する。高屈折率層を光触媒性能を有する粒子を含有して形成する。また低屈折率層を多孔質シリコーン樹脂を含有して形成し、且つ低屈折率層の厚みｄを次の式で表されるものに形成する。
ｎｄ＝ａλ／４
（ｎ：低屈折率層の屈折率、ｄ：膜厚（ｎｍ）、ａ：０．５〜１．５の数、λ：可視光波長（ｎｍ）） （もっと読む）