【課題】現像欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】パターン形成方法は、基板１上にレジストパターンとなるレジスト膜２を形成する。レジスト膜２に第１の光６を照射してレジスト膜２に対してパターン露光を行う。前記レジストパターンを形成するために、前記パターン露光を行ったレジスト膜２に対して現像を行う。前記現像を行う時における欠陥の発生を抑制するために、前記パターン露光を行った後、かつ、前記現像を行う前に、前記パターン露光を行ったレジスト膜２に第２の光１０を照射してレジスト膜２の表面に対して改質処理を行う。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板の外周部にレジスト残渣が発生することを抑制可能な厚膜レジストの現像方法、及び半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】回路素子層の上面に、厚膜レジストを形成する工程と、厚膜レジストを露光する工程と、露光後に、３０〜５０ｒｐｍの範囲内の一定の回転速度で炭化珪素基板を回転させながら、厚膜レジストの上方から現像液を供給することで、厚膜レジストの上面に現像液よりなるパドルを形成し、該パドルにより厚膜レジストを現像して、厚膜レジストに回路素子層の上面を露出する開口部を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】未露光部の除去性に優れたフレキソ印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】（工程ａ）フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層に画像様に露光を行う露光工程、（工程ｂ）露光したレリーフ形成層の外面に吸収材料を配置する工程、（工程ｃ）露光したフレキソ印刷版原版の未露光部が液化物を生じるのに十分な温度に加熱する加熱工程、及び、（工程ｄ）前記液化物の少なくとも一部を吸収材料に接着させて除去する除去工程を有し、前記工程ｄの前に、（工程ｅ）フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層の少なくとも未露光部にレリーフ形成層の外面方向から活性光線を照射する工程を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、短時間でＰＥＢを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長６００〜２０００ｎｍの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長６００〜２０００ｎｍの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク（ＰＥＢ）を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感熱マスク層の高い描画感度と遮光性を両立する感光性樹脂印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも感光性樹脂層（Ａ）、および顔料を含有する感熱マスク層（Ｂ）をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版であって、前記顔料を含有する感熱マスク層（Ｂ）が、ＯＤ（ＵＶ）／ＯＤ（Ｋ）≧１．２を満たすことを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ウレタン系感光性樹脂硬化物の変色抑制効果を実現する感光性樹脂組成物、当該硬化物を含有するフレキソ印刷版、及びフレキソ印刷版の製造方法を提供すること
【解決手段】エチレン性不飽和基を有するポリウレタンプレポリマー１００質量部と、エチレン性不飽和化合物１０〜１５０質量部と、を含み、前記エチレン性不飽和基を有するポリウレタンプレポリマーと前記エチレン性不飽和化合物の合計質量に対し、０．０１〜１０質量％の光重合開始剤と、０．００５質量％以上のヒドロキシフェニル基を有さない含窒素複素環化合物と、を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高性能の印刷版をえるために感光性樹脂自身によってインカールすることを解決した凸版印刷用感光性樹脂組成物および凸版印刷用感光性樹脂原板を提供する。
【解決手段】 少なくとも可溶性高分子化合物、光重合性化合物及び光重合性開始剤を含有する凸版印刷用感光性樹脂組成物において、該可溶性高分子化合物が６−ナイロンを構成成分する水溶性又は水分散性ポリアミドであり、且つ感光性樹脂組成物中のε−カプロラクタムの含有率が２質量％以下であることを特徴とする凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる水現像性凸版印刷用感光性樹脂原版。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基又は１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基を有する１、３、５−トリス（パラ−（パラ−ヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジレジストが塗布され、そのレジストにパターンを形成するために液浸露光が行われる前あるいは行われた後の基板について、そのレジストの表面のみを酸触媒反応を起こすための加熱処理前に露光して、良好な形状のパターンを形成すること。
【解決手段】基板上のレジスト膜の表面に露光用の光を照射する光照射面を有する露光ヘッドと、前記露光ヘッドと基板の表面との間にその屈折率がレジスト膜の屈折率よりも大きい液体を供給する液体供給部と、基板に供給された前記液体を除去する液体除去部と、露光ヘッドに設けられ、前記光照射面から照射されて基板の表面から反射された光を吸収する光吸収体と、を備えるように表面露光装置を構成し、前記光照射面は、前記液体を介してレジスト膜の表面に供給された光が当該レジスト膜の表面にて全反射するようにその向きを設定して表面露光を行う。 （もっと読む）

【課題】
水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層に対して感光性樹脂層と基材の両方と優れた接着力を示し、またコート液作成作業工程が簡便で製造時のコート膜の外観品位に優れた接着層を提供することである。
【解決手段】
（１）寸法安定性に優れる基材上に光重合性接着層を介して合成ゴム系感光性樹脂層を設けてなる感光性樹脂版材であって、該光重合性接着層がウレタン結合によって共重合ポリエステル、合成ゴム及び光重合性基含有化合物を架橋せしめた光重合性接着層であることを特徴とする感光性樹脂版材。
（２）光重合性ウレタン系接着層に含有する共重合ポリエステル、合成ゴム及び光重合性基含有化合物がいずれも分子中に少なくとも一つ以上の水酸基を含有し、多価有機イソシアネートによって架橋せしめた接着層であって、ウレタン反応を１５０℃〜１７０℃で反応させることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂版材。
（３）合成ゴム系感光性樹脂層が水現像可能であることを特徴とする請求項1又は２記載の感光性樹脂版材。 （もっと読む）

ポジ型画像形成性要素は、輻射線吸収化合物、親水性表面を有する基板上に内層及び外層を含む。内層は、一方が少なくとも３０の酸価を有する２種類のポリマーバインダーの組合せを含み、ポリマーバインダーの組合せは、改良された現像後ベーキング性（低温でより速くベークされるか又は硬化される）及び望ましいデジタル・スピード及び耐印刷機化学薬品を提供する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光のために基板表面が疎水性である基板であっても、所定のレジストパターンを均一に安定して形成することができるパターン形成方法およびそれに用いられるパターン形成装置を提供すること。
【解決手段】現像液を塗布してレジストパターンを形成する前に、液浸露光によりレジスト膜が所定のパターンに露光された基板の表面に薬液を供給して現像液が全面に濡れる程度に基板表面を親水化する。 （もっと読む）

【課題】固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位からラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法によって基板のパターン加工を実施する際に製造効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面に形成されたレジスト膜Ｒに、液膜ＬＬを介して、マスクパターン像を露光する液浸露光を実施する（ＳＴ２１）。そして、その液浸露光を実施した後に、その液膜ＬＬをレジスト膜Ｒから除去する（ＳＴ３１）。そして、その液膜ＬＬが除去されたレジスト膜Ｒを現像する（ＳＴ６１）。ここでは、その現像（ＳＴ６１）を実施する前に、液膜ＬＬを除去した後に基板の表面に残留する残留液滴ＬＤを検出する（ＳＴ４１）。そして、その残留した液滴ＬＤの結果に基づいて、現像の実施の可否を判断する（ＳＴ５１）。 （もっと読む）

【課題】水系現像液で現像でき、また、水性インキに対する耐性があり、且つ現像速度を早くすることができ、高速印刷に耐え得る機械的強伸度を有する新聞用フレキソ印刷原版。
【解決手段】（１）なくとも支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であって、かつ前記感光性樹脂層の厚みが１０００μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。（２）感光性樹脂積層体が新聞印刷用原版である前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（３）感光性樹脂層に水分散ラテックスから得られる疎水性重合体が含有されていることを特徴とする前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（４）ＩＲアブレーション層とカバーフィルムとの間に、有機高分子層を有する前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（５）ＩＲアブレーション層が、ＩＲ吸収性金属層のみからなる、前記（１）記載の感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】 低出力の可視光レーザーを用いて微細なマスクパターンを形成可能なフレキソグラフ印刷原版製造用積層体、及びそれを用いたフレキソグラフ印刷原版の製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体層２、紫外線感光性樹脂層３、及び金属微粒子分散液を含むポリウレタン樹脂組成物からなるマスク層４をこの順に積層してなることを特徴とするフレキソグラフ印刷原版製造用積層体１、及び該フレキソグラフ印刷原版製造用積層体１のマスク層４に可視光レーザー光を照射して所定のマスクパターンを形成する工程、露光工程、及び現像工程からなることを特徴とするフレキソグラフ印刷原版１１の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。単色光は±１５％以内の照度分布で照射するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】フレキソ印刷要素を熱現像して表面にレリーフ像を露呈する改良された装置、及びフレキソ印刷要素を露光及び現像する該装置の使用方法。
【解決手段】該装置は、通常、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性ポリマーを軟化又は溶融する手段、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面の軟化又は溶融した未架橋感光性ポリマーを除去するためにフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能、及びフレキソ印刷要素の画像形成表面の少なくとも一部上を移動可能な少なくとも１つのロール、及び、少なくとも１つのロールとフレキソ印刷要素の露光された画像形成表面との接触を維持する手段を含む。フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性樹を軟化又は溶融する手段は、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接配置される加熱器、及び／又はフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能な少なくとも１つのロールの加熱を含む。装置は、また、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を架橋及び硬化する露光装置を含む。 （もっと読む）

【課題】リフトオフ処理時間を大にすることなく、寸法精度に優れた微細パターンを容易に形成することのできる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】表面レジスト層１５は、前述のパターン露光領域外のみ通常のポジ型レジストとして現像される。そして、下層のレジスト層１３はネガ型に反転した表面レジスト層１５のパターン露光領域下部も現像されるため、下層のレジスト層１３は表面レジスト層１５に対し、アンダーカットされた断面形状となる。なお、表面レジスト層１５は、下層のレジスト層１３との相互拡散の影響により逆テーパ形状を有する。 （もっと読む）

【要約書】インクジェットプリンタを使用して、印刷スリーブすなわちシリンダーへの取り付けに適切な寸法及び形状に版を整えた（即ち、切断した）後で該刷版の端部及び角部に、感光性刷版の硬化に効果的な少なくとも１つの波長領域で化学線に対してほぼ不透過なインクを塗布する。インクジェット印刷の使用により、版の切断面が迅速且つ正確に紫外線不透過性インクで被覆可能となり、感光性刷版の切断面の望ましくない硬化を防止、又は実質的に排除する。インクは、切断プロセスにより露呈された光硬化面を覆い、刷版が適切に露光及び現像されるまで、刷版の切断面の望ましくない硬化を防止する。 （もっと読む）