【課題】複数枚の個別基板となる領域に跨ってポジレジスト材料が形成された基板を露光する露光装置において、個別基板となる領域間のポジレジスト材料を露光できる露光装置及び露光装置用マイクロレンズアレイ構造体を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光すべき複数個のパターンがスキャン方向に直交する方向に所定の間隔をおいて設けられたマスク１２に光源からの露光光３を透過させ、マイクロレンズアレイ１３の複数個のマイクロレンズ１３１ａによりパターンの正立等倍像を基板２上に結像させる。マイクロレンズアレイ１３は、マイクロレンズアレイチップ１３１が第２方向に接続されて構成されており、マイクロレンズアレイチップ１３１を支持する枠状のホルダ１３０には、マイクロレンズアレイチップ１３１間の位置に整合する位置に露光光透過用の開口１３２が設けられている （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】矩形状の面に２次元的にマイクロレンズ４ａが配列されたマイクロレンズアレイ４は、その４辺でマイクロレンズアレイプレート３により支持されている。このマイクロレンズアレイプレート３はその長手方向に直交する方向に移動することにより、基板１の露光すべき領域が露光光で走査される。このマイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部（多孔質部分５）が設けられている。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】高い生産性を維持しつつ、設備費を軽減することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに隣接して且つ平行に配置された一対の露光ユニット１，２と、該一対の露光ユニット１，２のそれぞれが共用する光源手段３と、を含む。露光ユニット１，２の各々は、帯状基板４をその長手方向に沿って間欠的に送るための搬送機構５，６，７，８と、帯状基板４の搬送経路に配置された露光部９にして、少なくとも一つのフォトマスク１０を有する露光部９と、を備える。光源手段３は、フォトマスク１０に描かれたパターンを帯状基板４の露光面に転写するために、一対の露光ユニット１，２におけるそれぞれの露光部９へと交互に光を照射可能となされている。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、感光膜の硬化を十分に得られる光源ユニット及びこの光源ユニットを具備した製版露光装置を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係る製版露光装置は、複数の固体発光素子を備える光源ユニットと、該光源ユニットからの紫外線を照射される被照射物が載置される載置台と、を有する製版用露光装置において、該光源ユニット又は該載置台には、該光源ユニットと該載置台とを相対的に移動させる駆動手段が設けられ、該複数の固体発光素子は、紫外線を出射する第１の固体発光素子と、該第１の固体発光素子が出射する紫外線より短い波長の紫外線を出射する第２の固体発光素子との少なくとも２つの紫外線を出射する固体発光素子からなり、該光源ユニットが該載置台に対して相対的に移動される方向のならびで、第１の固体発光素子の後に第２の固体発光素子が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。
【解決手段】複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状(121)とその周囲の傾斜部（122）との概略形状をなす第１形状(110)を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、第１露光走査工程と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、目的の平面形状(121)とその周囲の傾斜部(122)の最終形状をなす第２形状（120）を形成する第２露光走査工程と、を含む。第２ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーは第１ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーよりも低い方が好ましい。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。
【解決手段】単独のビームにて照射される記録媒体上の領域を「照射領域」と呼ぶとき、露光する照射領域に照射するビームの光量を、当該照射領域周辺の他の照射領域の露光状態に基づいて制御するものとし、露光する照射領域の周辺近傍の照射領域が先に露光されていない場合に、当該露光する照射領域に対して第１光量のビームを照射し(ch1)、露光する照射領域の周辺近傍の照射領域が先に露光されている場合に、前記第１光量よりも小さい第２光量のビーム（ch2）を当該露光する照射領域に対して照射する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザ光（電磁ビーム）の位置決めを高い精度で、かつ、容易に行うことができるパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】パターン形成体の製造方法は、ワーク５に複数の位置決めマークＰ１〜Ｐ４を設けるマーキング工程と、電磁ビーム出射装置（レーザ光出射装置３）から出射される電磁ビームでワーク５の表面を走査する走査工程と、位置決めマークＰ１〜Ｐ４で反射された電磁ビームを電磁ビーム出射装置の検出装置で検出する検出工程と、検出した電磁ビームに基づいて各位置決めマークの位置を算出する算出工程と、算出した各位置決めマークの位置に基づいてワーク５のずれ量を算出し、このずれ量に基づいてパターンデータを補正する補正工程と、補正されたパターンデータに基づいて電磁ビームを明滅させることで、電磁ビームでワーク５に所定パターンの穴部を形成する露光工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。
【解決手段】ストライプパターンＬ１のＸ方向の長さは、ストライプパターンＬ２のＸ方向の長さよりも大きい。この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（照準移動領域）ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、レーザ光を出射するヘッド部の移動速度が相対的に低く設定される。照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部の移動速度が相対的に高く設定される。 （もっと読む）

方法は、媒体が画像形成ヘッドに対して動かされる間にその媒体に画像を形成するために提供される。媒体は、レジストレーションサブ領域のパターンを含みうる。画像は、レジストレーションサブ領域のパターンと見当を合わせられ得る、例えば、色フィルタ特徴又は有色照射源等の、特徴のパターンを含みうる。画像形成方法は、媒体に画像を形成するよう媒体を走査しながら複数の独立制御可能な放射線ビームを発するように画像形成ヘッドを動作させるステップを有してよい。画像形成ヘッドの画像形成チャネルは、第１走査の間媒体を第１の方向で走査しながら第１の強さを有する放射線ビームを発し、第２走査の間媒体を反対の第２の方向で動作しながら異なる第２の強さを有する放射線ビームを発するよう動作することができる。 （もっと読む）

【課題】ビーム部材を移動させて処理を行う処理装置の組み立て作業の負担を軽減する。
【解決手段】基板処理装置１のビーム部材４０に処理ツール４１を取り付けるとともに、ビーム部材４０のＹ軸方向の両端部に第１支持ブロック３２と第２支持ブロック３３とをそれぞれ固設する。また、基板処理装置１のステージ３にガイド部材３１を固設する。第１支持ブロック３２をガイド部材３１に迎合させることによりビーム部材４０の移動方向がＸ軸方向となるように規制するとともに、第２支持ブロック３３をいわゆる静圧軸受けで構成することにより、ビーム部材４０の（−Ｙ）方向の端部側を非接触式で垂直方向に支持する。 （もっと読む）

【課題】離散配置されてなるレーザーダイオードのいくつかが破損等の理由によって発光しない状態が生じても、継続的に使用可能なＣＴＰ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一部のチャンネルが非発光状態である場合には、正常時に露光ヘッドを移動させる基準区間の前後に設けられた補完区間においても露光ヘッドを移動させるようにしながら、非発光状態のチャンネルの存在位置に基づいて定められた、発光状態にある特定のチャンネルを用いて露光を行うように、チャンネル別露光データを生成し、移動手段によって、基準区間および補完区間において露光ヘッドを移動させつつ、露光制御手段がチャンネル別露光データに従って前記特定のチャンネルから露光用光を出射させることによって被露光領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】周波数選択透過型の電磁波シールド材において、所定の周波数の電磁波のみを選択的に透過し、他の周波数の電磁波を遮蔽する、透視性および生産性を向上する電磁波シールド材およびその製法を提供する。
【解決手段】透明基材２の少なくとも一方の面に、所定周波数の電磁波が透過するためのスリット５を有する金属メッシュパターン３が配設された周波数選択透過型の電磁波シールド材１であって、透明基材２の上に写真製法により現像銀層を生成することにより前記金属メッシュパターン３の金属層を構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を迅速、かつ効率よく行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。
【解決手段】間欠搬送される感光材料上に線画露光を行う露光装置であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニット１，２を少なくとも２基備え、該露光ユニット１，２は該感光材料を挟んで左右に配置され、該感光材料の搬送方向及び該感光材料の搬送方向及びそれに直交する感光材料幅手方向と直角の方向の２次元平面を移動可能に設置されて線画露光を行うことを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】マスク上のパターンを高精度で基板上に投影露光する。
【解決手段】マスク１１に照明光を照射する照明光学系１０と、照明光を基板上に投影する投影光学系１２とを備えた露光装置において、マスクのパターン面に所定の第１曲面を形成させる第１保持体２１ａ，２１ｂと基板の結像面に所定の第２曲面を形成させる第２保持体２２ａ，２２ｂとを有し、第１曲面と第２曲面とを維持しつつ、マスク上のパターンを基板上に投影露光する。また、第２曲面は第１曲面に合わせて形成されるものとする。 （もっと読む）

【課題】ＤＭＤの微小ミラー群からの光が導かれる感光材料上の照射領域群を主走査して感光材料上のストライプ領域に光の照射を行い、主走査を繰り返して副走査方向に関して部分的に重なる複数のストライプ領域に光を順次照射することにより感光材料上にパターンを描画するパターン描画装置において、２回に分けて光が照射される感光材料上の重複領域における感光と非重複領域の感光とを同程度として描画されるパターンのムラを抑制する。
【解決手段】先行照射領域群６ａおよび後続照射領域群６ｂが感光材料上の重複領域７３ａを重複して通過する際に、微小ミラー群のうち重複領域７３ａに対応するものの一部を無効化することにより、重複領域７３ａの各位置において先行照射領域群６ａおよび後続照射領域群６ｂが通過する累計時間を、非重複領域７２１，７２２の各位置において先行照射領域群６ａまたは後続照射領域群６ｂが通過する時間よりも短くする。 （もっと読む）

【課題】複数の露光ヘッドを備える露光装置によりスキャニング露光を行うに際し、繋ぎ部分でムラが生じたり、形状不良が発生することのないスキャニング露光方法を提供する。
【解決手段】スキャニング露光装置を用い、それぞれの露光ヘッドＡ，Ｂに装着された複数の露光マスクのストライプパターンを、前記露光ヘッド下を走行する大面積の露光基板上の被露光領域に、端部が重ねられて繋がるように順次露光する方法であって、前記複数の露光マスクのそれぞれは、正規のピッチの主ストライプパターン２ａ，３ａと、その端部に設けられた、前記主ストライプパターンよりも広いピッチの端部ストライプパターン２ｂ，３ｂとを有し、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、前記露光ヘッドによる露光によって被露光領域上で組合わされて、正規のピッチのストライプパターンを構成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録ドラムの回転速度にかかわらす、ガスによる記録画像の劣化を防止することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】記録ドラム１を低速で回転させる場合には、記録ドラム１を矢印Ｄの方向に回転する。エア吹き出し口８２からは照射点Ｐに向けて矢印Ｂ方向に空気の吹きつけが行われ、記録ドラム１回転方向の上流側に照射点Ｐを中心とした略半円形のエアカーテンが形成される。これにより、ガスは照射点Ｐよりも記録ドラム１の回転方向下流側に拡散しにくくなる。そして、ガスはガス吸引口８３から回収される。このため、ガスが画像記録後の画像記録材料１００と接触することを確実に防止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】被照射物に対して均一に紫外線を照射することにより、均一に光化学処理を行うことが可能な光化学処理装置及び光化学処理方法を提供する。
【解決手段】被照射物１を光化学処理するための処理室２と、処理室２内に設けられ、被照射物を搬送するための搬送手段３と、処理室２内に、水平方向に一定の周期Ｔで配置され、被照射物１に紫外線を照射する複数の管状の紫外線光源４と、被照射物１を、複数の紫外線光源４の配置方向に、距離ｄ＝（２ｎ−１）Ｔ／２（ｎは１以上の整数）水平移動させる移動手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。
【解決手段】露光パターンを形成したマスク11を保持するマスクホルダ12と、レジストを塗布した透明基板21を保持するウエハステージ22と、マスクホルダ12とウエハステージ22の相対位置を変化させ、マスク11を透明基板21に密着させる密着用移動機構30と、露光のためにマスクに光を照射する光源15と、を備えるコンタクト露光装置であって、マスクホルダ12とウエハステージ22に対して、光源15を光の照射方向に垂直な方向に相対的に移動させる露光用移動機構17-19を備える。 （もっと読む）