【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
ｘｙｚ直交座標系を定義したとき、ｚ方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがｙ方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のｙ方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板に与えるダメージを抑えつつ、フォトレジスト層上の異物を除去する。
【解決手段】基板１１上に、ヒートモードの形状変化が可能な有機色素からなるフォトレジスト層１２を形成する。フォトレジスト層１２にレーザ光を照射し、フォトレジスト層のレーザ光が照射された部分に穴部１３を形成する。真空中で所定のガスを用いてフォトレジスト層１２をエッチングし、レーザ光を照射して穴部１３を形成する際に発生した異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光において、安定して急峻化した凸小点形状を形成する。
【解決手段】複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、１回の走査において前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状に隣接する第１の領域を第１の光量で露光するとともに前記第１の領域の周辺の第２の領域を第２の光量で露光し、２回目以降の露光走査のうち少なくとも１回は１回目の露光走査時よりも大きい光量で前記第２の領域を露光走査するマルチビーム露光走査方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤを用いた光照射装置において、積算光量の突出を抑制し、被照射面における照度分布の均一化を図ること。
【解決手段】光照射装置はセグメント光源２を複数並べられて構成され、各セグメント光源２は、複数のＬＥＤ２３からの光が照射されるインテグレータレンズ２８と集光レンズ２９１とを有し、ＬＥＤ２３からの光はワーク５である光照射面に照射される。インテグレータレンズ２８１のＬＥＤ２３に対向する側の各セルレンズの開口サイズは、大きさの異なる複数のサイズＳ，Ｍ，Ｌから構成され、このため光照射面では、中心部分では最も照度が高く、中心から外縁に向かって順次照度が小さくなるような照度分布となる。このため、２つのセグメント光源が重ね合わされる部分は、照度が小さい部分が重ね合わせられることとなり、セグメント光源間における積算光量の突出を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】識別マークが変形することなく、また、複数のレーザ照射ユニットにおいて光路長が異なることがなくレーザビーム露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム露光装置（５）は、レーザビーム光源（５ａ）から基板までのレーザビームの光路長を調整する光路長調整ユニット（６）と、基板の移動経路上で基板の上方に設けられ、光路長調整ユニットで光路長を調整したレーザビームを基板に照射する複数のレーザ照射ユニット（７）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板を微細機械加工する改良された方法を提供すること。
【解決手段】本発明の好ましい実施形態は、荷電粒子ビーム・マスキングおよびレーザ・アブレーションを利用する改良された方法を提供する。荷電粒子ビーム・マスク製造と超短パルス・レーザ・アブレーションの利点の組合せを使用して、基板の加工時間を著しく短縮し、レーザ・アブレーションによって機械加工されるフィーチャの横方向解像度およびアスペクト比を向上させる、好ましくは機械加工レーザの回折限界よりも小さくする。 （もっと読む）

一部の実施形態において、複合的なレーザー投影パターニング（ＬＰＰ）及びセミアディティブパターニング（ＳＡＰ）を用いた同一層マイクロエレクトロニクス回路パターニングが提供される。これに関して紹介される方法は、ラミネートされた基板表面の第１密度領域を、ＬＰＰを用いてパターニングし、前記ラミネートされた基板表面の第２密度領域を、ＳＡＰを用いてパターニングし、且つ前記ラミネートされた基板表面の第１及び第２密度領域をめっきすることを含み、第１及び第２密度領域に跨って延在する造形部が直接的に結合される。その他の実施形態も開示される。
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特に、微細リソグラフィ投影のための能動スポットアレイ投影システム(１０)は、個別制御可能素子(１６)を有する、デジタルマイクロミラーデバイスのような、空間光変調器(１４)を備える。マイクロレンズアレイのような、集束素子アレイ(２４)の個々の素子が光ビームの交軸セグメントを集束させてスポット(３４)にする。空間光変調器と集束素子アレイの間の結像光学系(２２)内において、空間周波数フィルタ(１２０)が、スポットの光分布を調整すると同時に隣接スポット間のクロストークを制限するため、個別制御可能素子の不整構造から生じる角度分布光はある程度減衰させるが、個別制御可能素子の周辺境界から生じる大角度分布光の減衰は回避する。
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【課題】ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を用いず構成が複雑にならずに大面積露光が高速でかつ高精度に実施可能なマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】このマスクレス露光装置は、被露光物Ｓに露光する光を出力するための光源２１と、光路中に設けられた光スイッチング手段２３と、光源からの光を被露光物へ導く光学系１２と、により被露光物上に多数の集光スポットＳ２を投影可能な露光ヘッド２０と、露光ヘッドと被露光物とを相対移動させる移動手段と、を備え、各集光スポットのオンオフを光スイッチング手段により制御するとともに移動手段による相対移動を制御することで被露光物上に任意のパターンを露光する。 （もっと読む）

【課題】ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を用いず構成が複雑にならずに大面積露光が高速でかつ高精度に実施可能なマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】このマスクレス露光装置１０は、被露光物Ｓに露光する光を出力するために半導体発光素子からなる光源１１と光源からの光を被露光物へ導く光学系１２とにより被露光物上に多数の集光スポットを投影可能な露光ヘッド２０と、露光ヘッドと被露光物とを相対移動させる移動手段１３と、を備え、光源のオンオフにより各集光スポットのオンオフを制御するとともに移動手段による相対移動を制御することで被露光物上に任意のパターンを露光する。 （もっと読む）

リソグラフィ装置において、ダンパ（６３，６４，６５）が提供される。ダンパは、光学要素が取り付けられる構成要素に対する光学要素の動作を制振するために光学要素（６０）のためのマウント内で使用することができる。
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【課題】露光パターン形成作業の生産性の低下を抑えた露光装置を提供する。
【解決手段】搬入された基板が載置される載置台と、原版を載置台の上方に保持し、原版を水平方向に移動させて原版を載置台上の基板に対して位置決めするとともに、原版を上下方向に移動させて原版を載置台上の基板に対し密着および離間させる原版移動部と、基板の位置と原版の位置を測定するセンサと、原版移動部を制御することにより、基板上に原版を密着させ、原版の基板に対する位置ずれが第１の閾値を超えていたときに原版を基板から一旦離間させ位置調整の上再度密着させる原版移動制御部と、基板に原版を一回目に密着させたときの基板の位置と原版を基板から一旦離間させて基板に原版を再度密着させたときの基板の位置との差分が第２の閾値を超えたときに警告を出力する警告部と、基板に原版を密着させた状態で基板に光を照射し基板を原版の透過光で露光する露光部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を実現する。
【解決手段】フォトレジストを塗布したガラス基盤５に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する。パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピットを形成する。２は露光光学系、４はフォーカスアクチュエータである。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲやＬＷＲが良好な凹部または凸部を有する凹凸パターンを形成し得るパターン描画方法を提供する。
【解決手段】基材上の樹脂層に描画用ビームを照射して露光領域Ａ０を露光して露光パターンを描画する際に、描画用ビームの中心位置を樹脂層に対して第１の方向（矢印Ｒの向き）に沿って相対的に移動させつつ第１の方向と交差する第２の方向（左右方向）において所定のピッチＰ１〜Ｐ５で隣り合う照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの１つに描画用ビームを照射するビーム照射処理を照射領域Ａａ１〜Ａａ６に対して実行して露光領域Ａ０を露光する描画方法であって、露光領域Ａ０のうちの１つを露光する際に、照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの第２の方向における両端部の照射領域Ａａ１，Ａａ６と、隣り合う照射領域Ａａ２，Ａａ５とのピッチＰ１，Ｐ５について、各照射領域Ａａ１〜Ａａ６の各々のピッチＰ１〜Ｐ５を平均した長さよりも短くする。 （もっと読む）

本発明は、電磁波から少なくとも部分的にコヒーレントビームを生成するための線源（４）、複数の個々に切り替え可能な変調器素子を備えた変調器（６）、変調器（６）を照らすためのビームを形成する光学素子（８）、変調器（６）によって発されたビームを縮小させるための縮小光学素子（１０）、および縮小光学素子に対してストレージ媒体（２）を動かすための移動テーブル（１２）を含む微細構造化ストレージ媒体（２）のためのデバイスに関する。本発明の目的は、微細構造および個々の回折光学素子（ＤＯＥ）、特に高速および高い書き込みエネルギーを有する計算機合成ホログラムの書き込みによって生じる技術上の問題を解決することである。この目的は、縮小光学素子（１０）が限定された回折で設定され、そして該素子（１０）が、個々の変調器素子の表面から少なくとも２５の表面縮小を生成することで達成できる。 （もっと読む）

【課題】スポットビーム型電子ビーム露光装置及び電子ビーム位置変動抑制方法に関し、各種の外乱に起因する電子ビームの位置変動をリアルタイムに抑制する。
【解決手段】電子源１から放出された広い断面積の電子ビームを一つの描画用電子ビーム３とそれを取り囲む四つの検出用電子ビーム４とに分ける五つの孔を配置したビーム制限絞り２と、四つの検出用電子ビーム４を四極子のレンズと双極子の偏向との重畳電場内に通過させる電場発生機構５と、描画用と検出用の双方電子ビームに作用するコンデンサレンズ６と、描画用電子ビーム３を照射面に集束させる対物レンズ８の主面付近の上下に検出エッジ及び検出器の組み合わせからなる電子ビーム検出機構９をｘ，ｙ方向に計四つ配置し、一方の方向から二つの検出信号を処理する検出信号処理回路１１を各々の方向に備え、各検出信号処理回路１１からの出力により描画用電子ビーム３を偏向させる偏向器７を備える。 （もっと読む）