【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】導体パターン３が形成された絶縁基板２上にソルダレジスト４ａを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム５を介しソルダレジスト４ａを紫外線で露光する工程において、ソルダレジスト４ａの全面を露光する第１の露光工程と露光用マスクフィルム５を剥離したのち選択的に露光する第２の露光工程を用いてソルダレジストを形成する。 （もっと読む）

【課題】 情報データを適宜変更しながら回路パターンも転写できる露光装置を提供する。
【解決手段】 紫外線を含む第１光を放射する第１光源（２０）と、第１光を使ってフォトマスクに描かれた第１パターン情報を基板に転写する投影露光ユニット（７０）と、第１パターン情報を転写するように投影露光ユニットに対して基板を載置して移動する基板ステージ（６０）と、基板ステージを配置する架台（１１）と、第１光源とは異なって配置され紫外線を含む第２光を放射する第２光源（４１）と、第２光を使って電子的に作成された第２パターン情報を基板に転写する空間光変調ユニット（４０）と、架台に配設され空間光変調ユニットを基板ステージの移動方向に平行な方向に移動させる空間光変調ユニット移動手段（５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをウエハ上に解像する。
【解決手段】照明光学系ＩＯＰにより、波長の異なる第１の光と第２の光とが、切り替えて（又は同時）に、第１面上に配置された第１パターンを有するレチクルＲ１、及び第２面上に配置された第２パターンを有するレチクルＲ２に副光学系６０を介して、照明光ＩＬとして照射される。そして、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が、その像面にウエハステージＷＳＴによって保持されたウエハＷ上に形成される。従って、物体上に第１の光、第２の光にそれぞれ感度を有する第１、第２のレジスト層が形成されている場合には、第１の光と第２の光とを同時にレチクルＲ１、Ｒ２にそれぞれ照明光として照射することにより、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が第１、第２のレジスト層に形成される。 （もっと読む）

【課題】多くの複雑なプロセスを用いることなく、より迅速に様々な微細な立体構造が形成できるようにする。
【解決手段】レジスト膜１０２に電子ビームおよびイオンビームを照射して電子ビームが照射された第１露光部１０３およびイオンビームが照射された第２露光部１０４を形成する。なお、イオンビームの照射により第１露光部１０３を形成し、電子ビームの照射により第２露光部１０４を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】複数の記録ヘッドを使用した画像記録装置において、比較的小さな装備で複数ヘッドを並行して動作させることができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】例えば、画像変換手段１０６は、元画像データｉｍ１を、予め格納されていたパラメータに従って画像データｉｍ３に画像変換する。そして、画像変換手段１０６は、この画像データｉｍ３を第１画像処理手段８１に送る。また、画像変換手段１０６は、元画像データｉｍ２を、画像変換手段１０７に予め格納されていた回転パラメータに従って画像データｉｍ４に画像変換する。そして、画像変換手段１０６は、この画像データｉｍ４を第１画像処理手段８１に送る。これにより、記録ヘッド１０、２０のそれぞれは、いずれか一方によって、各色成分画像の輪郭が略一致するように、対応する印刷版上に画像記録ができる。 （もっと読む）

【課題】要求解像力の異なる２種類の露光パターンを同一の露光工程で同時に形成し、露光処理効率を向上する。
【解決手段】ＴＦＴ用基板８を一方向に搬送しながら、フォトマスク３を介してＴＦＴ用基板８に光源光２４を間欠的に照射し、フォトマスク３に形成された複数のマスクパターンに対応してＴＦＴ用基板８上に露光パターンを形成するもので、フォトマスク３は、一面に要求解像力が異なる電極配線パターン１４と信号配線パターン１７とを形成し、複数の電極配線パターン１４から成る電極配線パターン群１６と複数の信号配線パターン１７から成る信号配線パターン群１８とをＴＦＴ用基板８の搬送方向に先後して形成し、他面には、要求解像力の高い電極配線パターン１４に対応して該パターンをＴＦＴ用基板８上に縮小投影するマイクロレンズ１９を形成し、該マイクロレンズ１９側がＴＦＴ用基板８側となるように配置されたものである。 （もっと読む）

一部の実施形態において、複合的なレーザー投影パターニング（ＬＰＰ）及びセミアディティブパターニング（ＳＡＰ）を用いた同一層マイクロエレクトロニクス回路パターニングが提供される。これに関して紹介される方法は、ラミネートされた基板表面の第１密度領域を、ＬＰＰを用いてパターニングし、前記ラミネートされた基板表面の第２密度領域を、ＳＡＰを用いてパターニングし、且つ前記ラミネートされた基板表面の第１及び第２密度領域をめっきすることを含み、第１及び第２密度領域に跨って延在する造形部が直接的に結合される。その他の実施形態も開示される。
（もっと読む）

特に、微細リソグラフィ投影のための能動スポットアレイ投影システム(１０)は、個別制御可能素子(１６)を有する、デジタルマイクロミラーデバイスのような、空間光変調器(１４)を備える。マイクロレンズアレイのような、集束素子アレイ(２４)の個々の素子が光ビームの交軸セグメントを集束させてスポット(３４)にする。空間光変調器と集束素子アレイの間の結像光学系(２２)内において、空間周波数フィルタ(１２０)が、スポットの光分布を調整すると同時に隣接スポット間のクロストークを制限するため、個別制御可能素子の不整構造から生じる角度分布光はある程度減衰させるが、個別制御可能素子の周辺境界から生じる大角度分布光の減衰は回避する。
（もっと読む）

マスクレスリソグラフィ投影システムのような能動スポットアレイ投影システム(１８)の集束スポット(３２)が投影システムのリレー光学系(３０)内で最適化される。感光性基板(３６)上に集束スポット(３２)を結像させながら集束スポット(３２)の形状を仕立て直すために、リレー光学系のひとみに近接して周波数変調器(７０)が配置される。
（もっと読む）

【課題】ウェーハ露光のスループットを容易に向上できるウェーハ露光方法およびＥＵＶ露光装置を得ること。
【解決手段】ウェーハ５上で製品チップとなる製品領域をＥＵＶ露光処理部１でＥＵＶ露光するＥＵＶ露光ステップと、ウェーハ５上の周辺領域をＥＢ露光部２０ＣでＥＢ露光するＥＢ露光ステップと、を含み、ＥＢ露光部２０Ｃは、ＥＵＶ露光処理部１がウェーハ５のＥＵＶ露光を行なっている間に、ＥＵＶ露光されているウェーハ５とは異なるウェーハ５のＥＢ露光を行なう。 （もっと読む）

【課題】製造期間および製造コストを抑制しつつ高精度に光学樹脂を加工すること。
【解決手段】基板上に加工対象となる光学樹脂層を積層し、光学樹脂層上にこの光学樹脂層に対するＸ線遮光の役割を兼ねる第１のメッキシード層およびＸ線レジスト層からなるＸ線マスク形成層を積層し、Ｘ線マスク形成層上にこのＸ線マスク形成層に対するＵＶ遮光の役割を兼ねる第２のメッキシード層およびＵＶレジスト層からなる中間マスク形成層を積層した積層基板を用意し、中間マスク形成層に形成された中間マスクを用いることによってＸ線マスク形成層に高コントラストＸ線マスクを形成し、Ｘ線マスク形成層に形成された高コントラストＸ線マスクを用いることによって光学樹脂層を加工する。 （もっと読む）

【課題】 光量の損失を必要最小限に抑えつつ、単純な構造で、露光ビームの光軸自動調節を行う。
【解決手段】 光源で発生させた露光ビームＬ１を、可動鏡１０，ジンバル機構を用いた可動鏡２０，固定鏡３０の順に導き、光軸調節した後の露光ビームＬ４を露光面へと導く。可動鏡２０の反射面Ｍ２上の基準点Ｐは、ジンバル機構の固定点である。検出器２２により、反射光Ｌ２の実際の入射位置が検出され、制御手段２４により、当該入射位置が基準点Ｐに一致するように、可動鏡１０の調節機構１１に対する制御が行われる。検出器３２により、反射光Ｌ３の実際の入射位置が検出され、制御手段３４により、当該入射位置が基準点Ｑに一致するように、可動鏡２０の調節機構２１に対する制御が行われる。入射した光ビームＬ１は、必ず２つの固定点Ｐ，Ｑを通るように制御され、固定鏡３０から射出される露光ビームＬ４は、予め設定された基準光路ＬＬを通る。 （もっと読む）

【課題】 光量の損失や波面の劣化を抑え、単純な構造で露光ビームの自動調節を行う。
【解決手段】 光源で発生させた露光ビームＬ１を、光軸調節装置に入射させ、光軸調節した後の露光ビームＬ５を露光面へと導く。光軸調節装置内では、反射面Ｍ１を有する鏡１０と、反射面Ｍ２を有する鏡２０と、を本体部１００に取り付け、鏡２０を反射した光ビームＬ３を、出力部２００内の鏡３０，４０で反射させて光ビームＬ５として射出する。鏡３０の透過光Ｌ３０のモニタ結果に基づき、鏡１０の角度αおよび鏡２０の角度βを調節する角度制御を行う。鏡４０の透過光Ｌ４０のモニタ結果に基づき、本体部１００全体をＸＹ平面に沿って平行移動させる位置制御を行う。各制御手段３１０，３３０によって、各記憶手段３２０，３４０に記憶された位置および角度の設定値に向けてのフィードバック制御を行い、射出光Ｌ５の光軸を安定化させる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンを転写可能にすること。
【解決手段】 基板（Ｐ）に近接するように配置されたマスク（１０）に露光光を照射して、該マスクに形成された所定のパターンを基板に露光する第１露光工程と；前記基板に近接するように配置されて複数の集光部（２０ａ、２０ｂ）を備える集光パターン形成部材（２０）に露光光を照射して、前記基板上に所定形状の集光パターンを露光する第２露光工程とを備え、前記第１露光工程により露光される所定のパターンの少なくとも一部と、前記第２露光工程により形成される前記集光パターンの少なくとも一部とは、重畳される。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板に対して光学系を用いてパターンを露光する露光方法であって、光学系としての干渉式光学系及び可変成形光学系を準備すること、基板と干渉式光学系及び可変成形光学系とを所定の走査方向に沿って相対走査すること、相対走査中に、干渉式光学系を用いて走査方向に平行なパターンを基板上に露光する干渉露光と、可変成形光学系を用いる可変成形露光と行なう。 （もっと読む）

【課題】短時間で効率よく各着色層を形成でき、低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができる露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】感光剤Ｐａが塗布されたガラス基板Ｗを基板ステージ２０に載置し、感光剤Ｐａが厚さの異なる３つのレジスト層Ｒ，Ｇ，Ｂを形成するように、ガラス基板Ｗに照射されるエネルギーを変えながらマスクＭを介してガラス基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

【課題】基板上の描画領域の周囲の非描画領域に容易に光を照射する。
【解決手段】パターン描画装置１では、ネガ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して、第１光照射部４からの光の照射領域を相対移動することにより、描画領域に液晶表示装置の画素パターンが描画される。また、第１光照射部４のアパーチャを交換し、ポジ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して照射領域を相対移動しつつ、主走査方向に関して描画領域を等分割した分割領域に照射領域が一致する毎に瞬間的な光の照射を行うことにより、描画領域の液晶配向制御用の突起パターン以外の部分に光が照射される。第２光照射部５では、描画領域および非描画領域を横断する照射領域を当該基板に対して相対移動しつつ、照射領域のうち光の照射が遮られる領域を変更することにより、非描画領域のみに光が照射される。これにより、非描画領域に容易に光を照射することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光機及びこれを用いた表示装置用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】水平、垂直方向に移動可能なスキャンステージ２０の上面に設けた基板２２の上部には、露光を行う光を発生させる光ユニット３０が設けられる。また、光ユニット３０を通過した光は、ＤＭＤユニット４０に伝達される。前記ＤＭＤユニット４０には、前記基板２２の表面にパターンを形成するために、光を選択的に反射させるＤＭＤ４２が設けられる。前記ＤＭＤ４２は、複数の列に配列され、互いに異なる列に位置するＤＭＤ４２は、一端が部分的に重なって形成される。したがって、前記ＤＭＤ４２において、前記基板２２にスキャンする際に発生するスキャンムラが２つの直線上に不連続的に形成された場合でも、使用者がディスプレイを視聴するとき、これを認識しなくなる。 （もっと読む）