【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と半導体装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料を塗布し、周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）エッチング処理により前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光部材の作製方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）露光によりラジカルを発生しうる基材上に、ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を接触させた後、露光を行うことにより、前記基材上に直接結合したポリマーを生成させてポリマー層を形成する工程と、（ｂ）該ポリマー層に金属イオン又は金属塩を付与する工程と、（ｃ）該金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元して、体積平均粒径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下の金属粒子を析出させる工程と、を有することを特徴とする遮光部材の作製方法。 （もっと読む）

【課題】
主波長がｈ線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
マスクレス直接描画露光装置から照射される主波長のｈ線に対して低感度で、紫外光を含有するエネルギー線に対して高感度の第一の感光性材料を基板上に成膜する工程と、前記主波長のｈ線に対して高感度の第二の感光性材料を前記第一の感光性材料の上に形成する工程と、前記第二の感光性材料に対してマスクレス直接描画露光装置を用いて第二のパターンを描画する工程と、第二の感光性材料を現像する工程と、第二のパターンが形成された前記第二の感光性材料及び第一の感光性材料を一括露光する工程と、第二の感光性材料を剥離する工程と、第一の感光性材料を現像して目的とする第一のパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】製造期間および製造コストを抑制しつつ高精度に光学樹脂を加工すること。
【解決手段】基板上に加工対象となる光学樹脂層を積層し、光学樹脂層上にこの光学樹脂層に対するＸ線遮光の役割を兼ねる第１のメッキシード層およびＸ線レジスト層からなるＸ線マスク形成層を積層し、Ｘ線マスク形成層上にこのＸ線マスク形成層に対するＵＶ遮光の役割を兼ねる第２のメッキシード層およびＵＶレジスト層からなる中間マスク形成層を積層した積層基板を用意し、中間マスク形成層に形成された中間マスクを用いることによってＸ線マスク形成層に高コントラストＸ線マスクを形成し、Ｘ線マスク形成層に形成された高コントラストＸ線マスクを用いることによって光学樹脂層を加工する。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、感度および解像度に優れたフォトスペーサ用感光性樹脂組成物感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 芳香族エポキシ樹脂を変性してなる（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、ヒンダードフェノール構造を有する化合物（Ｃ）、及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有するアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）を使用する。 （もっと読む）

【課題】 レンズの形状と面内配置の精度が高いマイクロレンズを簡便に且つ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を有する化合物を含有する樹脂シートに活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、発生した低沸点揮発性物質により樹脂シート中に平面方向及び厚さ方向に分布を持つように微細な気泡を形成させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】帯電によるパターンの描画異常を抑制し、かつ多段の微細な３次元構造パターンを形成するのに適したパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、段差を有する基板上に、導電性を有する非水溶性の樹脂からなる樹脂層を形成することを特徴とする。本発明の構成によれば、段差を埋める樹脂層は非水溶性かつ導電性を有するため、樹脂層は帯電防止層として働く。このため、荷電粒子線を用いてパターニングを行うとき、樹脂層上のレジストに描画異常が発生することを抑制することが出来る。 （もっと読む）

【課題】感光性レジストを用い、レジストからなるパターンを形成する半導体装置の製造方法において、インキジェット塗布方式と、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィとを組み合わせた製造方法を提供し、工程の削減、レジスト消費量の削減、すること。
【解決手段】レジスト塗布基板にパターン形成の露光処理と、レジスト膜を現像の現像処理からなるフォトグラフィ法により機能パターン形成する際に用いる、所望の、機能が異なる複数の機能パターン用レジスト溶液を所定の区画毎に塗り分けて、機能が異なる複数のレジスト膜を塗布形成した機能パターン用多種レジスト塗布基板と、機能パターン用多種レジスト塗布基板に用いた機能パターン基板の製造方法であって、前記露光工程は、パターンを形成する露光装置を用いて、所望の、機能パターン用の各々のマスクパターンを備えたフォトマスクを介して、機能パターン基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】照射雰囲気における空気循環を効果的に行うことができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線照射装置は、ランプユニットと、ワークを載置するためのステージ２０と、ステージ２０をランプユニットに対して走査させる走査機構とを備えている。載置面２１には排気口２５が配設されている。排気口２５は吸引ポンプに連通されており、載置面２１上のワークに紫外線が照射される状態において、照射雰囲気の空気を強制排気する。 （もっと読む）

【課題】インプリント法を用いた印刷回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）所望の配線パターンに対応するエンボスパターンが形成されたモールドを準備する工程と、（ｂ）前記モールドのエンボスパターン形成面に重合用酸化剤を付着する工程と、（ｃ）前記モールドを樹脂層に押圧する工程と、（ｄ）前記樹脂層から前記モールドを分離して、前記樹脂層に前記重合用酸化剤が付着したパターンを形成する工程と、（ｅ）前記樹脂層に形成されたパターンの内部に、選択的に導電性高分子のモノマーを充填して重合させることにより、導電性高分子の配線を形成する工程と、を含む印刷回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層に対し、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査して露光し２次元画像の形成を行うパターン露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、を少なくとも経て、カラーフィルタ部材のパターンを形成するパターン形成方法であって、前記感光性樹脂層のγが１〜１５であり、かつ前記パターン露光工程において用いられる露光装置の露光エネルギープロファイルが１０〜５０であることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】形成プロセスが簡便で、かつ、形成プロセスにおける現像残渣及びその後のプロセスにおける装置汚染が生ずることの無い、微細、且つ高解像性のオーバーハング形状または逆テーパー形状の断面形状を有するレジストパターンを形成する。
【解決手段】基板１上に酸失活層２を形成し、さらにレジスト膜層３を積層形成する。その後、フォトマスク４を介して露光光線５によりレジスト膜層３の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することによりオーバーハング形状または逆テーパー形状の断面形状を有するレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】同一面内ピットパターンとグルーブパターンの二領域が露光される光記録媒体用原盤において、ピットパターン形成を容易にすることができ、露光装置の使用環境を厳しくしないことによりコストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤ならびに光記録媒体用原盤の露光方法を提供すること。
【解決手段】基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層、および第二のフォトレジスト層が順次積層されている二層フォトレジスト原盤を使用した光記録媒体用原盤において、該フォトレジスト原盤の露光工程で、同一面内で露光線速を変更させ、線速が異なる各領域で異なったパターンが露光されたものであることを特徴とする光記録媒体用原盤。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク及びマスクの作製工程に使用されるレジスト下層膜形成組成物、それを用いて作製されるマスクブランク及びマスクを提供する。
【解決手段】基板上に転写パターンを形成する薄膜及び化学増幅型レジスト膜の順に含むマスクブランクにおいて、該、転写パターンを形成する薄膜とレジスト膜の間のレジスト下層膜を形成するために用いられ、ハロゲン原子を含有する繰り返し単位構造を有する高分子化合物及び溶媒を含むレジスト下層膜形成組成物である。前記高分子化合物は、少なくとも１０質量％のハロゲン原子を含有する。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、導電性に優れ、断面のアスペクト比が高い導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。
【解決手段】導電性パターン形成用液状組成物を露光面を有する容器に供給する工程と、導電性パターンが形成される表面を有する基材を前記組成物に浸漬する工程と、露光面と基材の表面との間に所定厚みの組成物層が介在するように基材を配置し、組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を形成する工程と、露光面と形成された硬化物層の表面との間に所定厚みの新たな組成物層が介在するように基材を移動させ、その組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を更に形成する操作を１回以上行い、硬化物層の積層膜を形成する工程と、基材の表面から未硬化の組成物を除去する工程と、積層膜を熱処理する工程とを有する導電性パターンの形成方法およびその方法に用いる導電性パターン形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、薄膜パターン層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜パターン層の製造方法は、複数の隔壁を有し、且つ該隣接する隔壁の間にそれぞれ収容空間を形成する基板を提供する工程と、インクを前記複数の収容空間にそれぞれ吐出する工程と、前記複数の収容空間に収容された前記インクの粘度を増加させるように基板の温度をコントロールする工程と、前記インクを固化させ、薄膜パターン層を基板に形成する工程と、を含む。該製造方法は、インクを収容空間に吐出すると共に、基板の温度をコントロールし、複数の収容空間に収容されたインクの粘度を増加させる。従って、収容空間に収容されたインクが隔壁と接触する際に、インクが隔壁を登りにくくなる。そのため、形成される薄膜パターンの均一性の要求が満たされる。 （もっと読む）