パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
蛍光増白剤が、非イオン性核を有する化合物である請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
非イオン性核が、スチルベン核、ジスチリルベンゼン核、ジスチリルビフェニル核、ジビニルスチルベン核、フェニルピラゾリン核、及びスチリルピラゾリン核から選択される少なくとも１種である請求項２に記載のパターン形成材料。
【請求項４】
非イオン性核を有する化合物が、スチリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基から選択される少なくとも１種を有する請求項２から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
クッション層が、熱可塑性樹脂を含む請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
熱可塑性樹脂の軟化点が、８０℃以下である請求項５に記載のパターン形成材料。
【請求項７】
クッション層が、アルカリ性液に対して膨潤性乃至可溶性である請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
クッション層が、アルカリ性液に対して不溶性である請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
クッション層の厚みが３〜５０μｍである請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１０】
クッション層と感光層との間に物質の移動を抑制可能なバリア層を形成する請求項１から９のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１１】
感光層が、重合禁止剤と、バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤とを含む請求項１から１０のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層を、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、該感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１４】
感光層への露光が、支持体を介して行われる請求項１３に記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
支持体を剥離した後、感光層に対して露光を行う請求項１３に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
露光が、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光し、現像する請求項１３から１５のいずれかに記載のパターン形成方法。

【図２５】