【課題】安定した染色を簡便で経済的に、かつ環境にも配慮して行うことを可能とする、インクジェット式塗布装置による染色に適用される眼用レンズ用染料組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、インクジェット式塗布装置により眼用レンズを染色するために用いられる染料組成物であって、［Ａ］α、β−不飽和カルボニル基、スチリル基、ビニルベンジル基及びアリル基から選択される炭素−炭素二重結合を有する基を分子内に少なくとも１つ有する染料、［Ｂ］ラジカル重合開始剤、並びに、［Ｃ］上記［Ａ］成分及び［Ｂ］成分の少なくとも一部を溶解させることができる溶媒及び／又は［Ｄ］ラジカル重合性基を分子内に少なくとも１つ有する単量体を含むことを特徴とする眼用レンズ用染料組成物である。当該染料組成物は、［Ｄ］ラジカル重合性基を分子内に少なくとも１つ有する単量体を含まない態様であってよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学デバイスにおける反射防止膜などとして使用するのに適した、硬化時の膜収縮が少なく、塗布面状が良好で、耐湿性および密着性に優れ、高温条件下においても屈折率変化の小さい、低屈折率膜の形成が可能な光学材料用組成物を提供することを目的とする。さらに、本発明は、該光学材料組成物を用いて製造される反射防止膜、および該反射防止膜を有する光学デバイスを提供することも目的とする。
【解決手段】下記平均組成式（１）（Ｒ¹ＳｉＯ_1.5）_x（Ｒ²ＳｉＯ_1.5）_y（式（１）中、Ｒ¹は、重合性基を表す。Ｒ²は、非重合性基を表す。ｘは２．０〜１４．０の数を表し、ｙは２．０〜１４．０の数を表す。ただし、ｘ＋ｙ＝８〜１６を満たす。なお、複数のＲ¹およびＲ²は、同一であっても異なっていてもよい。）で表され、１種または２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類、より得られる重合体を含有する光学材料用組成物。 （もっと読む）

傾斜ナノボイド含有物品、傾斜ナノボイド含有コーティング、及び傾斜低屈折率コーティングの製造方法及び装置が記載される。方法は、溶媒中に重合性物質を含む第１の溶液を提供することと、コーティングの第１の領域に近接した第１の環境、及び前記コーティングの隣接領域に近接した異なる第２の環境を提供することと、を含む。方法は、重合性物質を少なくとも部分的に重合して、不溶性ポリマーマトリックスと第２の溶液とを含む組成物を形成することを更に含む。不溶性ポリマーマトリックスは、第２の溶液で充填された複数のナノボイドを含み、第２の溶液の溶媒の大部分は除去される。コーティングの第１の領域に近接する複数のナノボイドの第１の体積分率は、コーティングの隣接に近接する前記複数のナノボイドの第２の体積分率よりも小さい。方法のための装置も記載され、装置は、ウェブラインと、コーティングセクションと、部分重合セクションと、溶媒除去セクションと、を含む。
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【課題】表示画面を指で触れて操作した場合でも、表示画面に皮脂等の生体由来脂質成分による指紋等が付着することに対して優れた防汚性を有し、しかもフィルムの干渉縞の発生を抑制した光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルムの少なくとも一方の面に一層以上の樹脂層を設けた光学フィルムにおいて、最表の樹脂層にたとえばセルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステルを含有させる。 （もっと読む）

【課題】高温低湿度環境下に置かれた場合であっても、優れた帯電防止性能を維持でき、極めて優れた耐熱性を有する光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材上に、ハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、第４級アンモニウム塩と半極性構造を有する化合物とを含有し、上記ハードコート層における、上記半極性構造を有する化合物の含有量が０．１〜５質量％であり、上記第４級アンモニウム塩と半極性構造を有する化合物との合計含有量が１〜２０質量％であり、更に、上記第４級アンモニウム塩と前記半極性構造を有する化合物との合計１００質量％中、上記半極性構造を有する化合物の含有割合が、１質量％以上、３５質量％未満であることを特徴とする光学積層体。 （もっと読む）

【課題】塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において、溶剤に親水性溶剤を用い、シリカゲルにて脱水処理を行うことにより、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有しながらハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、低屈折率層がマイクログラビア方式により形成され、低屈折率層形成用塗液とする電離放射線硬化型樹脂組成物に、シリコーン系撥水剤と、レべリング剤が含まれており、さらに、粒径０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の低屈折率微粒子が含まれており、且つ、シリカゲルを含ませ脱水剤として使用することを特徴とする反射防止フィルムである。 （もっと読む）

【課題】映り込み防止性に優れ、黒締まり、大量生産性にも優れる防眩フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチック基材フィルム上に少なくとも防眩性ハードコート層を有する防眩フィルムであって、該透明プラスチック基材フィルムの表面に独立したくぼみを有し、該くぼみの深さが３μｍ以下であり、該くぼみの平均長径長が０．５〜２０μｍであり、該透明プラスチック基材フィルムの表面における該くぼみの個数が２５〜３０００個／ｍｍ^２であり、かつ該防眩性ハードコート層は少なくとも１種の透光性樹脂と少なくとも１種の透光性粒子を含有する層であることを特徴とする防眩フィルム （もっと読む）

【課題】簡易な手段である一液型塗工方法によって、光学用及び建材用等として有用な、例えば帯電防止膜等の機能膜が設けられた積層構造体であって、層間の密着性が良い積層構造体を製造する方法、該製造方法で得られた積層構造体及び該積層構造体を有する光学用部材、並びに層分離構造を有する塗工膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】１液型塗工液による積層構造体の製造方法であって、下記工程１〜３をこの順に有する、イオン液体層とハードコート層を有する積層構造体の製造方法。
工程１：（Ａ１）活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、（Ａ２）ハードコート層形成成分用溶剤、（Ｂ１）イオン液体、（Ｂ２）イオン液体用マトリクスポリマー、及び（Ｃ）前記（Ａ２）成分及び（Ｂ２）成分の両者と相溶性を有する、前記（Ａ２）成分より沸点の低い媒介溶剤を混合し、１液型塗工液を得る工程。
工程２：工程１で得られた１液型塗工液を基材に塗布した後、前記（Ｃ）成分を揮発させることにより層分離構造を有する塗工膜を形成する工程。
工程３：工程２の後、塗工膜中の前記（Ａ２）成分を揮発させる工程と、塗工膜へ活性エネルギー線を照射する工程とを有する工程。 （もっと読む）

【課題】温度ムラによる染料の濃淡ムラの発生と、被染色面とは反対側の面に対する染料の付着を同時に抑制する。
【解決手段】レンズ保持用シート１７の一方の面に塗布された粘着剤１８によってプラスチックレンズ３の被染色面３ａとは反対側の面３ｂを全面にわたって保持する。昇華性染料２が塗布された染色基板８を保持部材９内に装着する。プラスチックレンズ３が貼着されたレンズ保持用シート１７を保持部材９の上方側開口部にプラスチックレンズ３の被染色面３ａを染色基板８に対向させて装着する。真空容器４を真空排気し、加熱装置６によって染色基板８を加熱して昇華性染料２を昇華させることにより、プラスチックレンズ３の被染色面３ａを染色する。 （もっと読む）

【課題】マイクログラビア法での塗布を安定させるとともに、塗布液の寿命を向上させ、更に再利用も視野に入れた塗液の脱水装置及びその脱水装置を用いた反射防止フィルムの製造方法を提供することである。
【解決手段】０．３ｎｍの細孔を無視した比表面積を測定することができるＮ_２ガスＢＥＴ７点法において、ゼオライトの結晶が５μｍ以上の結晶体であり、比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上３５ｍ^２／ｇ以下であるモレキュラーシーブを、平板状の焼成体形状として塗液脱水機構に組み込むことを特徴とする脱水塗布装置であり、脱水塗布装置を用いて形成されることを特徴とする反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】透明基材上に反射防止層を備える反射防止フィルムにあって、十分な反射防止機能と帯電防止機能を有し、全光線透過率が高く、干渉縞の発生の無い反射防止フィルムを提供するものである。
【解決手段】透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層がバインダマトリックス形成材料に、４級アンモニウム塩と、内部に２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の空隙を有するシリカ粒子を含み、且つ前記低屈折率層中に含まれる４級アンモニウム塩の重量比が５％以上２０％未満、且つ内部に空隙を有するシリカ粒子の重量比が３０％以上７０％未満であることを特徴とする反射防止フィルムである。 （もっと読む）

【課題】基材上に密着層塗工液を塗布する際に静電気の発生がしなくなり、密着層を均一の厚みに設けることができるようになる。また、反射率に悪影響を及ぼさない優れた貼着用反射防止フィルムを提供することである。
【解決手段】透明基材の片面に反射防止処理が施された反射防止フィルムにおいて、反射防止面と反対側の面が、透明基材から易接着層、中間層、密着層の順で積層されており、各層の屈折率が下記の式の関係になっている貼着用反射防止フィルムとする。
基材の屈折率≧易接着層の屈折率≧中間層の屈折率≧密着層の屈折率 （もっと読む）

【課題】少なくとも表面に微小空孔を形成することにより表面反射を抑制した反射防止フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】所定の波長以上の光反射を抑制する反射防止フィルムの製造方法であって、溶媒に不溶の有機樹脂材料中に溶媒に可溶性を有するナノサイズの無機材料微粒子を分散させて複合材料を形成するステップ（Ｓ１０５）と、複合材料をフィルム状複合材料として加工するステップ（Ｓ１０６）と、フィルム状複合材料を溶媒に浸漬して無機材料微粒子を溶解除去（Ｓ１０７）し、微小空孔が形成された反射防止フィルムを形成するステップ（Ｓ１０８）とを備えた。 （もっと読む）

【課題】基材表面に形成された微細凹凸部に対する干渉等による破損を防止しつつ反射防止機能等の光学性能の向上を図る。
【解決手段】光学素子１０の基材表面に多数の凹部１７及び凸部１８を有する微細凹凸部１６が形成され、凸部１８は連続的に連なって形成されている。そして、微細凹凸部１６を、平面視隣接する凹部１７の中心を通る直線で凹凸方向に切断したときに、隣接する凹部１７の凹部中心間距離ａの最大値が可視光波長よりも小さく、かつ凹部深さｄの１／２位置での凸部幅ｂが、凹部深さｄの１／２位置での凹部幅ｃの最小値よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】テンション支持方式にて支持された可撓性支持体上にスロットダイを使用して塗布膜を形成する方法において、原反の外観形状にかかわらずスジムラと呼ばれる塗布膜の厚みムラの発生を抑制する。
【解決手段】スロットダイ１０の塗布液２が吐出されるスロット１３に対して可撓性支持体１の走行方向２５の下流側に配されたリップ１２の先端面は円筒面２１を有している。円筒面の可撓性支持体の走行方向の下流側端２１１における円筒面の接平面２１１ｐと可撓性支持体とがなす角度をθ１、円筒面の可撓性支持体の走行方向の上流側端２１２における円筒面の接平面２１２ｐと可撓性支持体とがなす角度をθ２としたとき、１°≦θ１＋θ２≦１５°、θ１≦６°を満足する。 （もっと読む）

【課題】表面に微小空孔を形成することにより表面反射を抑制した反射防止膜を提供する。
【解決手段】溶媒に不溶の有機樹脂材料中に溶媒に可溶性を有するナノサイズの無機材料微粒子を分散させて複合材料を形成するステップ（Ｓ１０５）と、複合材料を光学デバイス表面に膜状に形成するステップ（Ｓ１０６）と、膜状に形成された複合材料を溶媒に浸漬して無機材料微粒子を溶解除去し、微小空孔が形成された反射防止膜を形成するステップ（Ｓ１０９）とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面反射を抑制した光吸収構造体を提供する。
【解決手段】所定の波長以上の光反射を抑制する光吸収構造体の製造方法であって、溶媒に不溶の有機樹脂材料中に溶媒に可溶性を有するナノサイズの無機材料微粒子を分散させて複合材料を形成するステップ（Ｓ１０４、Ｓ１０５）と、複合材料を溶媒に浸漬して無機材料微粒子を溶解除去し、所定の光の波長以下のピッチを有する複数の微小凹部を形成するステップ（Ｓ１０７）とを備える。 （もっと読む）

【課題】外力や接触等による微細凹凸構造の変形や破損を低減し、反射防止効果等の光学性能の劣化を防止する。
【解決手段】凸部１の凸頂部２を連ねた網目状に連続する稜線部３に取り囲まれるように凹部５が配置された微細凹凸構造８を光学素子の表面に沿って形成する。凸部１の断面は、稜線部３（凸頂部２）から深さ方向に凸部幅Ｗｈが増加するような両幅方向に凸の曲線を呈している。凸部１は網目状に連続しているため、外力や接触による変形に対する強度が高く、凹部５の間には平坦面が存在せず、良好な反射防止効果が得られる。 （もっと読む）

【課題】膜強度が強く、ハードコート性、透明性、帯電防止性に優れ、かつ耐熱性、耐湿熱性、耐光性に優れた帯電防止層を備えた光学フィルム及び反射防止フィルム、これを用いた偏光板、並びに画像表示装置を提供すること。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも以下に示す（Ａ）〜（Ｄ）を含有する組成物を硬化させてなる帯電防止層を少なくとも１層有する光学フィルム。
（Ａ）導電性ポリマー
（Ｂ）重合性基を二つ以上有する多官能モノマー
（Ｃ）特定の化合物
（Ｄ）光重合開始剤 （もっと読む）

【課題】 加熱処理による不均化反応を用いた低屈折率を有する光学膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 ＭｇおよびＦを含有する多孔質膜からなる光学膜の製造方法であって、下記一般式（１）で表されるフッ素含有有機マグネシウム化合物を含有する溶液を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を遮蔽した空間内で、フッ素化合物を含有する雰囲気中で加熱処理して、ＭｇおよびＦを含有する多孔質膜を得る工程を有する光学膜の製造方法。


（式中、Ｘは単結合を表すか、または置換基を有していてもよい−（ＣＦ_２）_ｎ−、−（ＣＨ_２）_ｍ−あるいは−（ＣＦ_２）_ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−を表す。ｎ、ｍは１から４の整数を表す。） （もっと読む）