【目的】 炭化珪素本来の特性を損なうことなく曲げ強度等の機械的強度を大幅に向上させ得る高強度炭化珪素焼結材を提供する。
【構成】 高強度炭化珪素焼結材は、フラーレン製造過程で副生する炭素材料又はフラーレン類を添加した炭化珪素焼結原料を成形，焼成してなるもので、結晶粒界に偏析の少ない微細結晶構造をなすものである。添加する炭素材料としては、ＣｕＫα線を使用したＸ線回折測定結果における回折角３〜３０°の範囲内で最も強いピークが回折角１０〜１８°の範囲に存在し且つ回折角２３〜２７°にピークが存在せず、励起波長５１４５Åでのラマンスペクトル結果において、バンドＧ１５９０±２０ｃｍ^−１ とバンドＤ１３４０±４０ｃｍ^−１ にピークを有し、夫々のバンドのピーク強度をＩ（Ｇ）及びＩ（Ｄ）とした際におけるピーク強度比Ｉ（Ｄ）／Ｉ（Ｇ）が０．４〜１．０であるものを使用する。 （もっと読む）

立方晶窒化ホウ素成形体は、ＡｌＭｇＢ_１４のような少なくとも１種のホウ化アルミニウムマグネシウム化合物を含有する第２の硬質相を含有する。第２の硬質相中に存在するホウ化アルミニウムマグネシウムは、ＡｌＭｇＢ_１４のみから成るか、又は、ＡｌＭｇＢ_１４と他の１種以上のホウ化アルミニウムマグネシウム化合物との混合物から成る場合がある。更に、１種以上のホウ化アルミニウムマグネシウム化合物は、ケイ素、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル及び鉄のような単体；又は、それらのホウ化物、炭化物並びに窒化物；でドーピングすることができる。 （もっと読む）

【課題】 緻密かつ高剛性・高熱伝導率の窒化ケイ素焼結体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 窒化ケイ素80〜99質量%と、粒界相がIVa族元素の窒化物のうち少なくとも1種の窒化物0.1〜5質量%、残部がMg、SiおよびIVa族元素の少なくとも1種を含む酸化物もしくは酸窒化物からなり、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲内であり、密度が3.1g/cm³以上、ヤング率が300GPa以上かつ熱伝導率が50W/mK以上であることを特徴とする窒化ケイ素材料。 （もっと読む）

【課題】酸化処理後の拡散可能時間を更に延長させたホウ素拡散材を提供するる。
【解決手段】本発明は、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分とＢＮ成分とを含み、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分の合計含有率が２０〜８０質量％、ＢＮ成分の含有率が２０〜８０質量％であり、しかもＡｌ２Ｏ３／ＳiＯ２のモル比が1.０〜２．４、開気孔率が１３〜４３％のセラミックス焼結体で構成されてなることを特徴とするホウ素拡散材である。また、本発明は、Ａｌ２Ｏ３／ＳiＯ２のモル比が２.４〜1.０である、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分とを含む混合物及び／又は化合物を２０〜８０質量％と、窒化ホウ素を２０質量％〜８０質量％とを含む混合粉末をＣＩＰ成型した後、非酸化雰囲気で焼結することを特徴とする上記ホウ素拡散材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】例えば容積が３０００ｃｍ^３以上の大形品にして３０ＭＰａの曲げ強度を有する窒化ホウ素焼結体を、焼結助剤を用いなくても、容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】六方晶窒化ホウ素粉を含む一軸加圧成形体に、第１と第２の少なくとも２回の冷間等方圧加圧処理を増圧して行った後、焼成することを特徴とする窒化ホウ素焼成体の製造方法。この場合において、第２の冷間等方圧加圧処理の圧力が、第１の冷間等方圧加圧処理の圧力の１．５〜５倍であることなどが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れた均熱性を有するセラミックス部材を提供する。
【解決手段】セラミックス部材１０は、セラミックス焼結体１１と、セラミックス焼結体１１に接して形成された、金属元素を含む金属部材１２とを備える。セラミックス焼結体１１における金属部材１２周辺の変質層１１ａの厚さｔは３００μｍ以下に抑えられている。 （もっと読む）

【課題】使用時に熱衝撃による破壊が防止されるように高耐熱衝撃性を有するとともに、めっき鋼板とのすべりを低減して、めっき鋼板の走行速度の変化に追従しやすい溶融金属めっき浴用のセラミックスロールを提供する。
【解決手段】鋼板と接触する中空状胴部１０と、前記胴部に接合された軸部２０，２１とからなる溶融金属めっき浴用ロールであって、少なくとも前記胴部が常温における熱伝導率が50W/(m・K)以上の窒化珪素系セラミックスからなり、前記胴部の平均表面粗さRaが0.2μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ダイカスト用スリーブの曲がりを防止するとともに、内筒とプランジャチップとの間の摩擦抵抗を小さく抑えることができるダイカスト用スリーブを提供する。
【解決手段】 金属材料からなる外筒の内面に、常温における熱伝導率が５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の窒化ケイ素を主成分とするセラミックス焼結体からなる内筒を焼嵌めて構成したことを特徴とする。前記セラミックス焼結体が実質的に窒化ケイ素粒子とその周囲の粒界相とで構成され、溶融金属と接触する面において窒化ケイ素粒子が面積率で７０〜９９．９％を占めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】セラミックス焼結体の曲げ強度を改善できる窒化アルミニウム粉末、その容易な製造方法およびその窒化アルミニウム粉末を用いて製造されたセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】化学分析により測定されたB含有量が１０ｐｐｍ以上、特に１０〜１０００ｐｐｍである窒化アルミニウム粉末。金属アルミニウム粉末を含む窒化性ガスを、内面が窒化ホウ素で構成され反応管の内面に衝突させながら供給し、金属アルミニウム粉末を窒化させることを特徴とする窒化アルミニウム粉末の製造方法。本発明の窒化アルミニウム粉末、又は本発明の窒化アルミニウム粉末とこの窒化アルミニウム粉末以外のセラミックス粉末を含む粉末を焼結してなるセラミックス焼結体。 （もっと読む）

【課題】 導電体や抵抗体として有用な導電性窒化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】 窒化アルミニウム−希土類化合物、窒化アルミニウム−アルカリ土類化合物、又は窒化アルミニウム−希土類化合物−アルカリ土類化合物系にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を外掛けで０．３〜１２重量％含む混合物を成形し、焼結してなる導電性窒化アルミニウム焼結体であり、相対密度９５％以上の窒化アルミニウム焼結体の粒界部にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含む窒化アルミニウム燒結体である。
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【課題】 半導体製造装置、液晶デバイス製造装置用の絶縁性部材等として好適に用いることができ、また、前記部材等の大型化、高精度化、複雑化にも対応することができる高比抵抗炭化ケイ素焼結体を提供する。
【解決手段】 常圧焼結法により、窒素含有量が０．４ｗｔ％以上０．５ｗｔ％以下であり、前記窒素の一部が炭化ケイ素結晶に固溶しており、残部が炭化ケイ素結晶粒界に窒化ホウ素結晶として存在し、かつ、比抵抗が０．１ＧΩ・ｃｍ以上である高比抵抗の炭化ケイ素焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】曲げ強度を容易に向上させることができるｈＢＮ質焼結体の製造方法を提供すること。
【解決手段】比表面積が３０ｍ^２／ｇ以上で、粒度分布の最大値が１０μｍ以上４０μｍ以下の領域にある窒化硼素粉末単身又はそれを含む原料粉末を成形した後、常圧焼結又はホットプレス焼結することを窒化硼素質焼結体の製造方法。本発明においては、成形体を窒化硼素製容器又は窒化硼素で内張りされた容器に入れ、窒素体積分率が８０％以上の非酸化性ガス雰囲気中、温度１８００℃以上で焼結することが好ましい。また、原料粉末が、本発明に係る窒化硼素粉末を２０重量％以上含むものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】溶融金属による浸食を軽減することにより長寿命化を達成することができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体（ボート）を提供する。また、溶融金属のスプラッシュを低減させることができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体（ボート）を提供する。
【解決手段】二硼化チタン（ＴｉＢ_２）及び／又は二硼化ジルコニウム（ＺｒＢ_２）と、窒化硼素（ＢＮ）と、必要に応じて窒化アルミニウム（ＡｌＮ）とを含有してなるセラミックス焼結体であって、これらの成分から選ばれた少なくとも一種の成分の濃度が、厚み方向において、有位に異なっている部分があることを特徴とするセラミックス焼結体。このセラミックス焼結体からなる金属蒸着発熱体（ボート）。 （もっと読む）

セラミック体（２０）、ならびにセラミック体（２０）を作るためのホットプレス法または完全密度までの焼結法。ホットプレスされたセラミック体（２０）は約１５から約３５体積パーセントの間の炭化ホウ素相、および少なくとも約５０体積パーセントのアルミナを含有する。完全密度まで焼結されたセラミック体（２０）は約１５から約５０体積パーセントの間の炭化ホウ素相および少なくとも５０体積パーセントのアルミナを含有する。基体（２１）はさらに次の成分（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つを含み；ここで成分（ａ）および（ｂ）の合計量は完全稠密化を達成するために有効な量であり、ここで成分（ａ）および（ｂ）は、（ａ）アルミニウム、マグネシウムおよび亜鉛のうちの１以上を含む金属成分；および（ｂ）炭素を含有する還元成分を含む。
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【課題】
セラミックス材料を低反射材料として用いる場合、素材自体の反射率は低くても、加工によって高くなることがある。この加工によって高くなった反射率を素材のもつ反射率に戻した露光処理用基板保持盤を提供する。
【解決手段】
少なくとも基板保持側表面がセラミックスからなり、その基板保持側表面の彩度指数ｂ＊がプラスであり、明度指数Ｌ＊が７０以下で、かつ面粗度Ｒａが０．６μｍ以下である露光処理用基板保持盤であり、好ましい態様において、基板保持側表面の光波長２５０〜５５０ｎｍの範囲における全反射率は１３％以下であり、また、基板保持側表面の彩度指数ｂ＊はプラスであり、セラミックスの主成分は、炭化硅素またはアルミナである。
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【課題】 低い温度で十分に原材料からの転換率が得られ、粒子サイズが小さく、不純物が少ない粉末状の炭化ケイ素の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）Ｓｉ元素および一種以上の遷移金属元素を含む合金、金属ケイ素粉末および遷移金属粉末を含む混合物、金属ケイ素粉末および遷移金属化合物を含む混合物のいずれかと、（Ｂ）鎖状飽和炭化水素、鎖状不飽和炭化水素、環状飽和炭化水素、アルコールおよび芳香族炭化水素からなる群から選択される一種類以上の置換または未置換の炭化水素とを、３７０〜８００℃の温度範囲にて反応させる工程を含む炭化ケイ素の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高熱伝導性、高密度および高機械的強度を併せ持ち、高熱伝導性材料として有用な窒化アルミニウム系焼結体ならびに該窒化アルミニウム系焼結体を簡便な方法でかつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ化合物と１次粒子径０．１〜０．８μｍとを物理的に混合し、この混合物を１４００〜１７００℃で焼成することによって、Ｚｒ化合物をＺｒ換算で１〜１０重量％含みかつ残部が窒化アルミニウムである窒化アルミニウム系焼結体であって、グレイン径が０．１〜１μｍおよび密度が理論値の９８％以上であることを特徴とする窒化アルミニウム系焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】 強度や破壊靭性等に優れた導電性窒化ケイ素焼結体を提供する。抵抗体として有用である。
【解決手段】 平均粒子径が１．０μｍ以下の酸化マグネシウム０．１〜５重量％を添加してえられるＳｉ−Ｒ−Ｍｇ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ化合物、或いはＳｉ−Ｒ−Ｍｇ−Ｏ−Ｎ化合物（Ｒは希土類元素を表す。）を主として含む粒界相を２〜２０重量％、及び窒化ケイ素を残量、並びにＣＮＴを外掛けで０．３〜１２重量％含有して成る導電性窒化ケイ素焼結体。
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【課題】誘電層厚さのばらつきを小さくしたジョンソン・ラーベック方式の窒化アルミニウム製静電チャック及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本窒化アルミニウム製静電チャックは、共に主として窒化アルミニウムからなり、ウェーハ載置面が設けられた載置側焼結体と、前記載置側焼結体と接合されているベース側焼結体と、前記両焼結体間に埋設された金属電極を具備し、前記載置側焼結体はイットリウム濃度が１０００〜２０００ｐｐｍ、室温における体積抵抗率が１×１０^１０〜１×１０^１１Ωｃｍでありかつ、前記ウェーハ載置面と前記金属電極の距離のばらつきが１００μｍ以下であり、前記ベース側焼結体はイットリウム濃度が４０００〜８０００ｐｐｍである。 （もっと読む）

【課題】 切削工具の基材の強度を低下させることなく被削材と工具刃先の化学反応による摩耗およびアブレッシブな機械的摩耗を低減し、工具寿命を改善することを目的とする。
【解決手段】 焼結体中の粒界相が５〜２０％であり、サイアロン粒子中のαサイアロンの比率を示すα率が４０％以下であり、Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−Ｚで表されるβサイアロンのＺ値が０．２〜１．０であり、焼結体の（βサイアロンの実測Ｚ値）／（焼結体組成から計算される理論Ｚ値）で表されるＡｌの固溶率Ａが７０％以上であるサイアロン製インサートおよびこれを備えた切削工具。 （もっと読む）