説明

Fターム[4G001BC73]の内容

セラミック製品 (17,109) | 製造方法 (5,177) | 焼結体の処理 (303) | 機械加工 (125)

Fターム[4G001BC73]に分類される特許

61 - 80 / 125


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することができるターボチャージャ用転がり軸受を提供する。
【解決手段】一端でインペラ14と結合し、他端でタービン13と結合する回転軸12を支持するターボチャージャ用転がり軸受1は、内輪21と、外輪22と、内輪21と外輪22との間の環状領域に配置された転動体23とを備え、内輪21、外輪22および転動体23のうちの少なくとも一つの軸受要素は、Si6−ZAl8−Zの組成式で表され、0.1≦Z≦3.5を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成される。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することができるスターター用転がり軸受を提供する。
【解決手段】スターターのピニオン軸6を支持する転がり軸受1は、内輪21と、外輪22と、内輪21と外輪22との間の環状領域に配置された転動体23とを備え、内輪21、外輪22および転動体23のうちの少なくとも一つの軸受要素は、Si6−ZAl8−Zの組成式で表され、0.1≦Z≦3.5を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成される。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することができるファンクラッチ用転がり軸受を提供する。
【解決手段】入力側回転部材に相当するドライブディスク18は、粘性流体を介して出力側回転部材に相当するケース10にトルクを伝達する。このドライブディスク18を回転自在に支持するファンクラッチ用転がり軸受1であって、内輪21と、外輪22と、内輪21と外輪22との間の環状領域に配置された転動体23とを備え、内輪21、外輪22および転動体23のうちの少なくとも一つの軸受要素は、Si6−ZAl8−Zの組成式で表され、0.1≦Z≦3.5を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成される。 (もっと読む)


【課題】 炭化硼素の持つ高い比剛性を利用した高比剛性複合材料でありながら研削性が優れた複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 炭化硼素・炭化珪素・炭素源を主成分とする原料を成形して充填率が60−80%の成形体を製造する成形工程と、該成形体に熔融シリコンを含浸させることにより炭素を炭化珪素に転換させる反応焼結工程を備えたことを特徴とする、炭化硼素・炭化珪素・シリコンを主成分とする複合材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性、耐チッピング性を改善した窒化珪素質焼結体および切削工具ならびに切削加工装置、切削方法を提供する。
【解決手段】窒化珪素結晶を主とする結晶相と、ランタン、アルミニウム、マグネシウム、珪素及び酸素を含み、窒化珪素結晶の粒界にある非晶質の粒界相とを有し、焼結体の表面から深さ0.3mmの面におけるマグネシウム含有量が酸化物換算で1.3質量%以下であるとともに、焼結体表面から深さ0.3mmの面におけるマグネシウム含有量が、焼結体表面から深さ1mmの面におけるマグネシウム含有量よりも少なく、かつ、焼結体表面から深さ0.3mmの面と深さ1mmの面とのマグネシウム含有量の差が、酸化物換算で0.5質量%以下である。 (もっと読む)


【課題】 高い耐欠損性と耐摩耗性を有する切削工具を提供する。
【解決手段】 希土類金属(RE)をRE換算量で0.1〜3質量%、アルミニウム(Al)をAl換算量で0〜0.6質量%、マグネシウム(Mg)をMgO換算量で0〜1質量%、酸素を0〜2.5質量%の割合で含有する窒化珪素質焼結体からなる基体の表面に、Ti1−a−b−c−dAlSi(C1−x)(ただし、MはNb、Mo、Ta、Hf、Yから選ばれる1種以上であり、0.45≦a≦0.55、0.01≦b≦0.1、0≦c≦0.05、0.01≦d≦0.1、0≦x≦1である。)の被覆層が被着形成されている切削工具である。 (もっと読む)


【課題】室温から高温度までの広い使用温度範囲において優れた構造強度,耐食性,耐久性等を有し、小型で複雑形状を有する構造体であっても高い寸法精度で容易かつ効率的に製造することが可能な反応焼結炭化ケイ素構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】中子7を用いて成形され、その中子7の形状に対応する細孔5を内部に有する成形体であって、炭化ケイ素粉末と炭素粉末とを含有する成形体を形成し、この得られた成形体に対して脱バインダー処理を実施した後にこの脱脂体を加熱し、溶融シリコンを含浸して反応焼結せしめて一体の焼結体とすることを特徴とする反応焼結炭化ケイ素構造体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】イオン損傷を受けにくく、寿命の長い電子放出源を提供する。
【解決手段】本発明は、Ta、Hf、Nb、及びZrからなる群の1種以上から選ばれた金属元素の炭化物からなる、電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置用の電子銃である。他の発明は、電子ビームの加速電圧が10kV以上であることを特徴とする請求項1記載の電子放出源である。また、他の発明は、Ta、Hf、Nb、及びZrからなる群から選ばれた1種以上の金属元素の炭化物からなる電子放出源を装着した電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置である。 (もっと読む)


【課題】摺動特性、強度や破壊靭性などの機械的特性に優れるとともに、脆化を抑制してSiC粒子の脱落などを防止してなる、ポンプなど液体を用いる回転機器での液体軸封装置として用いられるメカニカルシール装置、並びにこのメカニカルシール装置に用いるSiC系焼結体回転リング及びその製造方法を提供する。
【解決手段】SiC系焼結体回転リング及びカーボン系シールリングを含むメカニカルシール装置において、前記SiC系焼結体回転リングは、平均結晶粒径が5μm以下、気孔率が1.0%以下であるSiC系焼結体回転リングとする。この回転リングは、酸化物還元法で作製したSiC系原料粉末中に、気相合成法(CVD法)により作製した純度が99.9%以上のSiC粉末を0〜100%の割合で混合し、造粒・成形した後で、雰囲気制御加圧焼結法によって製造する。 (もっと読む)


【課題】
所要の形状および寸法を高精度で有する金属−セラミックス複合材料を比較的容易に得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】
金属フィラーを含有する硬化性シリコーン組成物を硬化させて得られた硬化物を、非酸化性雰囲気下、400〜1500℃の範囲内でかつ前記金属フィラーの融解点未満の温度において加熱することを含む、金属光沢を示す金属−セラミックス複合材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 釣糸の案内や時計等に用いられる装飾部品の色調の好みは十人十色であるが、銀色に赤みを帯びるという装飾的価値が高い色調を醸し出すとともに、耐磨耗性に優れた装飾部品用セラミックスは提供されていなかった。
【解決手段】 炭窒化チタン質焼結体からなり、表面にニッケル,クロムおよびこれらの珪化物と窒化珪素とを含む装飾部品用セラミックスである。本発明の装飾部品用セラミックスによれば、耐磨耗性に優れるとともに、炭窒化チタンが呈する金属光沢を有する茶褐色系の色調と、クロム、ニッケルおよびこれらの珪化物が呈する銀色系の色調と、窒化珪素が呈する黒色系の色調とのバランスが合って、CIE1976L*a*b*表色系において、明度指数L*が60〜71であり、クロマティクネス指数a*が4〜9であり、b*が7〜10であり範囲の、銀色に赤みを帯びるという装飾的価値の極めて高い色調を醸し出すことができる。 (もっと読む)


【課題】AlN基板の高放熱特性を活かした上で、金属薄膜との密着性や金属薄膜の形成精度等を向上させることによって、マイクロ波集積回路等の薄膜デバイスの信頼性を高めることを可能にする。
【解決手段】AlN結晶粒の平均粒径が3〜5μmの範囲で、かつ粒径分布の標準偏差が2μm以下であり、かつ常温での熱伝導率が160W/m・K以上であるAlN焼結体を作製する。AlN焼結体の表面を、加工後の表面のスキューネスRskが−1以上となるように中仕上げ加工する。中仕上げ加工されたAlN焼結体の表面を、算術平均粗さRaが0.05μm以下となるように鏡面加工し、加工表面のスキューネスRskを0以上1以下に仕上げ加工する。AlN基板の加工表面上に金属薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる自在継手用トルク伝達部材およびその製造方法、さらに当該自在継手用トルク伝達部材を備えた自在継手を提供する。
【解決手段】固定ジョイント1を構成する自在継手用トルク伝達部材であるボール13は、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、ボール13の接触面であるボール転走面13Aを含む領域には、内部13Cよりも緻密性の高い層であるボール緻密層13Bが形成されている。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる摺動部材とその製造方法、および当該摺動部材を備えた摺動装置を提供する。
【解決手段】摺動装置である球面滑り軸受1を構成する摺動部材である外輪11および内輪12は、Si6−ZAl8−Zの組成式で表され、0.1≦z≦3.5を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、内輪12および外輪11と接触する面である外輪滑り面11Aおよび内輪滑り面12Aを含む領域には、内部11C,12Cよりも緻密性の高い層である外輪緻密層11Bおよび内輪緻密層12Bが形成されている。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる転動部材およびその製造方法、さらに当該転動部材を備えた転がり軸受を提供する。
【解決手段】深溝玉軸受1を構成する外輪11、内輪12および玉13は、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、外輪11、内輪12および玉13の転走面である外輪転走面11A、内輪転走面12Aおよび玉転走面13Aを含む領域には、内部11C,12C,13Cよりも緻密性の高い層である外輪緻密層11B、内輪緻密層12Bおよび玉緻密層13Bが形成されている。 (もっと読む)


【課題】減圧環境下で使用されるセラミックス部品において、処理物への汚染の少ないセラミックス部品の装着方法および有機物の汚染の少ない半導体製造装置用セラミックス部品の製造方法を提供する。
【解決手段】X線光電子分光法で表面の深さ方向の測定をし、表面から5nm以深の深さで検出される炭素量が5mass%以下である状態で半導体製造装置に装着することを特徴とする半導体製造装置用非汚染性セラミックス部品の装着方法である。 (もっと読む)


【課題】SiO膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるHfO・SiO膜の形成に好適な、耐脆化性に富むハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】HfSi0.82−0.98からなるゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットに関する。HfSi0.82−0.98からなる組成の粉末を合成し、これを100メッシュ以下に粉砕したものを1700°C〜2120°C、150〜2000kgf/cmで、ホットプレス又は熱間静水圧プレス(HIP)することによりゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットを製造する。 (もっと読む)


【課題】 内部に流体を流すための流路を有するウエハ保持体について、長期にわたって使用しても液漏れのない、信頼性の高い接続構造を提供する。
【解決手段】 内部に流体を流すための流路が形成されたウエハ保持体であり、流路に接続して外部から流体を供給し排出するためのパイプ部材と、流路の両端部付近の内周面に形成された雌ネジ部と、パイプ部材の先端部付近に形成された雄ネジ部と、雄ネジ部のパイプ部材先端と反対側の端部に設けたフランジ部と、パイプ部材の先端から挿入されてフランジ部に当接するO−リングとを有する。ウエハ保持体及びフランジ部のO−リングと接触する各接触面の表面粗さは、Raで2.0μm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 水に触れながら摺動する水潤滑下で優れた耐摩耗性を示す耐摩耗性部材を提供する。
【解決手段】 水潤滑下で使用される耐摩耗性部材において、前記耐摩耗性部材は、窒化けい素を75〜97質量%、Ti,Hf,Zr,Nb,W,Moの少なくとも1種を0.2〜5質量%、残部をSi−R−Al−O−N化合物(ただし、Rは希土類元素)を主とする粒界相を有する窒化けい素焼結体を具備すると共に、前記Si−R−Al−O−N化合物の焼結体内部の存在比率M1と表面の存在比率M2との比M2/M1が0.9〜1.1の範囲内であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 実用的な条件によって加工変質層を除去するSiC基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のSiC基板11は、実質的に平行な第1および第2の主面11a、11bを有し、第2の主面11bのみが鏡面仕上げされており、反りが±50μm以下であるSiC基板であって、第2の主面11bの表面粗度Raは1nm以下であり、第1の主面11aの加工変質層が除去されている。 (もっと読む)


61 - 80 / 125