【課題】高温で高い熱電特性を示す新規な熱電変換材料を提供する。
【解決手段】本発明の熱電変換材料は、（Ｃａ_3-xＢｉ_x）（Ｃｏ_4-yＭ_y）Ｏ₉で表される酸化物を有するものである。ここで、ＭはＧａ，Ｆｅ，Ｔｉ及びＮｂのうちの１つ以上の元素であり、ｘは０＜ｘ≦０．３を満たし、ｙはＭがＧａ，Ｆｅ及びＴｉのうち１つ以上の元素である場合には０＜ｙ≦０．１５を満たし、ＭがＮｂである場合には０＜ｙ＜０．１を満たす。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットや蒸着用タブレットとして利用され、成膜中にクラック等が発生し難いＺｎ−Ｓｎ−Ｏ系酸化物焼結体とその製法を提供する。
【解決手段】上記酸化物焼結体は、錫がＳｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）の原子数比として０．０１〜０．６含有され、焼結体中における平均結晶粒径が４．５μｍ以下で、ＣｕＫα線を使用したＸ線回折によるＺｎ_２ＳｎＯ_４相における（２２２）面、（４００）面の積分強度をそれぞれＩ_{（２２２）}、Ｉ_{（４００）}としたとき、Ｉ_{（２２２）}／［Ｉ_{（２２２）}＋Ｉ_{（４００）}］で表される配向度が０．５２以上であることを特徴とする。この酸化物焼結体は機械的強度が改善されているため、焼結体を加工する際に破損が起こり難く、スパッタリングターゲット若しくは蒸着用タブレットとして使用された際においても透明導電膜の成膜中に焼結体の破損やクラック発生が起こり難い。 （もっと読む）

【課題】 透光性が良好なＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＬａＡｌＯ３の粉末を４０℃／分以上の昇温速度で１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱した後、前記焼結温度に３分以上４５分以下の時間保持して焼結する焼結工程をＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。ＬａＡｌＯ３の粉末を１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱して焼結して焼結体を得る焼結工程、前記焼結体を９００℃以上１３００℃以下の温度でアニールするアニール工程を有するＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱伝導率が高く、効率のよい放熱性を達成でき、電子機器等の発熱部位における冷却用途に利用でき、しかも機械的強度や耐熱衝撃性にも優れる、アルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの製造方法、および上記の機能が発揮できる結晶粒の成長を抑えたアルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの提供。
【解決手段】アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）の含有量が９９．５質量％以上で、かつ、平均粒子径が０．２〜１μｍであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を５０〜１００μｍの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、１，４８０〜１，６００℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程とを有する熱放射部材用セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】付加元素を水に溶出させることができ、かつ、付加元素が短期間に消尽することを抑制できるセラミックスを製造する方法を提供すること。
【解決手段】熱水保持装置用セラミックスの製造方法において、ケイ素酸化物とケイ素含有酸化物とから選ばれる少なくとも一種のケイ素材料粉末と、アルカリ土類金属、アルカリ金属、バナジウム、亜鉛、セレン、リン、硫黄、塩素、鉄、ホウ素、フッ素、アルミニウム、ケイ素、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、ヒ素、モリブデン、ヨウ素、炭素から選ばれる少なくとも一種の付加元素と、を含む混合物を、付加元素が非酸化物状体で含まれるような雰囲気で焼成・冷却する。 （もっと読む）

【課題】負の熱膨張特性を有する熱膨張抑制部材および熱膨張の小さい金属系の対熱膨張性部材を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される酸化物を少なくとも含む熱膨張抑制部材および２０℃において正の線膨張係数を有する金属と下記一般式（１）で表される酸化物を少なくとも含む固形物を接合してなる対熱膨張性部材。一般式（１）（Ｂｉ_１−ｘＭ_ｘ）ＮｉＯ_３（ＭはＬａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｉｎのうちの少なくとも１種の金属である。ｘは０．０２≦ｘ≦０．１５の数値を表す。） （もっと読む）

【課題】イオン伝導度を有する、新規な結晶構造を有する物質を開発する。
【解決手段】（ａ）ないし（ｃ）の条件を満足する新規な結晶構造を有する金属複合酸化物であって、（ａ）空間群がＦｄ−３ｍに属し、（ｂ）格子定数が１７．０±１．０Åの範囲にあり、（ｃ）単位格子内の結晶学的配置が、陽イオンにより下記表のサイト占有率で占有されている金属複合酸化物。好ましくは、バリウム−タングステン複合酸化物および／またはその誘導体。
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【解決手段】ＳｎをＳｎＯ₂換算で５質量％以下含有し、残留応力が−６５０〜−２００ＭＰａであることを特徴とするＩＴＯスパッタリングターゲットである。前記残留応力は、ＩＴＯスパッタリングターゲットがボンディングされるバッキングプレートの熱膨張係数が２．３８６×１０^-5／℃以下である場合には−６００〜−２００ＭＰａ、熱膨張係数が２．３８６×１０^-5／℃より大きい場合には−６５０〜−２５０ＭＰａであることが好ましい。
【効果】本発明のＩＴＯスパッタリングターゲットは、ＳｎＯ₂の含有量が５質量％以下であっても割れにくく、銅製のバッキングプレート等にボンディングするときであっても割れを生じにくい。 （もっと読む）

【課題】薄肉化されても十分な耐熱衝撃性を発揮するスパークプラグ用絶縁体及びその製造方法、並びに、十分な耐熱衝撃性を有する小型のスパークプラグを提供すること。
【解決手段】アルミナ基焼結体で形成されたスパークプラグ用絶縁体２であって、その脚長部２ｉのうち０．９５ｍｍ以下の肉厚を有する部分の表面をＸ線回折分析したときに、アルミナの（１１３）面のピーク強度とムライトの（１２１）面のピーク強度との合計ピーク強度に対する前記ムライトの前記ピーク強度が１５％以上であるスパークプラグ用絶縁体２、１４００℃以上の温度で前記成形体に与える熱量が１２００ｋＪ以上となる焼成条件で焼成するスパークプラグ用絶縁体２の製造方法、並びに、前記スパークプラグ用絶縁体２を備えたスパークプラグ１００。 （もっと読む）

本発明は、負の熱膨張率および酸化物セラミック粒子を有することを特徴とする、セラミック成分を含む複合材料、およびその獲得プロセス、およびマイクロエレクトロニクス、精密光学部品、航空学、航空宇宙産業におけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】寸法精度に優れたセラミック焼結体を得る。
【解決手段】平均粒子径及び／又はＢＥＴ比表面積の異なる２種類以上のセラミック粉末、分散剤及び溶媒を混合することにより、スラリーを調製する工程（ａ）と、スラリーを鋳型に挿入し、脱型して、成形体を得る工程（ｂ）と、成形体を焼成し、セラミック焼結体を得る工程（ｃ）とを含む、セラミック焼結体の製造方法である （もっと読む）

【課題】金属ワイヤを内包するセラミック焼成体の製造において、クラックの発生しない製造方法を提供する。
【解決手段】金属ワイヤ（コイル１１）を型（金型２１）内に配置し、その型内に「熱ゲル化特性又は熱硬化性を有するセラミックスラリー」を注ぐ。次に、セラミックスラリーを硬化及び乾燥させ焼成前セラミック成形体を作成し、そのセラミック成形体を焼成する。この焼成工程においては、先ず、セラミック成形体の脱脂を行い、その後、セラミック成形体の温度を「金属ワイヤが軟化し且つセラミック成形体が焼成する第２温度」まで第２昇温速度にて上昇させる。第２昇温速度は、セラミック成形体の温度が第２温度にまで上昇した時点において「セラミック成形体の収縮率が所定閾値収縮率以下の収縮率となる」ように、即ち、金属ワイヤの軟化がセラミック成形体の実質的な焼成開始よりも先行するように、設定されている。 （もっと読む）

【課題】配向度の高い結晶配向セラミックスの製造方法を提供すること。
【解決手段】結晶粒の特定の結晶面Ａが配向する結晶配向セラミックスの製造方法である。製造にあたっては、まず結晶面Ａと格子整合性を有する結晶面が配向して配向面を形成している異方形状の配向粒子からなる異方形状粉末と成形助剤と溶媒とを混合して異方形状粉末スラリーを作製する。また、異方形状粉末と共に焼結させることにより目的組成を生成する微細粉末と成形助剤と溶媒とを混合して微細粉末スラリーを作製する。次いで、異方形状粉末２１の配向面２２が略同一の方向に配向するように異方形状粉末スラリーを所定の厚みで成形し乾燥させることにより、異方形状粉末成形体２を形成する。異方形状粉末成形体２上に、微細粉末スラリーを乾燥させてなる微細粉末成形体３を所定の厚み比で積層形成し、積層成形体４を作製する。積層成形体４を加熱し、結晶配向セラミックスを得る。 （もっと読む）

【課題】電気的特性を向上させた圧電材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】焼結体の表面微構造が、粒径５μｍ未満の微細粒と、粒径５μｍ以上１５μｍ未満の中間粒と、粒径１５μｍ以上１００μｍ以下の粗大粒とからなる（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂｉ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料であり、該組成となる化合物を混合、仮焼、粉砕、成形したものを焼結する際に、昇温途中の８００〜９００℃の範囲の熱面積が８００〜２００００（℃＊ｈ）となるようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低温での焼結が可能であり透明性に優れるとともに耐熱衝撃性にも優れた透光性セラミックスを提供することにある。
【解決手段】本発明の透光性セラミックスは、化学式Ｍｇ_(1-x)Ｚｎ_xＡｌ₂Ｏ₄（ただし、０≦ｘ≦１）で示されスピネル型結晶構造を有する第１の酸化物と、化学式Ｍｇ_(1-y)Ｚｎ_yＯ（ただし、０≦ｙ≦０．２）で示されマグネシア型結晶構造を有する第２の酸化物とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 所望の厚さで、成型後、乾燥後の表面のひび割れ、亀裂および変形を改善したフェライトグリーンシートを得るためのフェライトスラリーの提供および焼成後に表面の平坦性を保ったフェライトシートの製造方法を提供すること。
【解決手段】 フェライト原料粉末の重量に対して、アクリル酸とアクリル酸エステルとノニオン性アクリレートを共重合させた水溶性アクリルバインダーを２．０〜２５．０ｗｔ％含有させ、ウレタン変性ポリエーテルを０．１〜１５．０ｗｔ％含有させ、ポリエチレングリコール型非イオン界面活性剤を０．０１〜５．０ｗｔ％含有させ、ポリカルボン酸重合体のアンモニウム塩０．２〜８．０ｗｔ％含有させ、かつそれらを水と共に混合したフェライトスラリー１を用い、ドクターブレード法を用いて０．０１〜３．００ｍｍ厚に成形してフェライトグリーンシート４とし、前記フェライトグリーンシート４を焼成してフェライトシートとする。 （もっと読む）

【課題】圧電セラミック層における結晶配向セラミクスの配向度が高く、優れた変位性能を示すことができ、内部電極の形成率の低下を抑制できる積層型圧電素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】等方性ペロブスカイト型化合物を主相とする多結晶体からなり、これを構成する結晶粒の結晶面｛１００｝面が配向する結晶配向セラミックスよりなる圧電セラミック層と、内部電極を構成する電極部を含む電極配設層とを複数交互に積層してなる積層型圧電素子及びその製造方法である。圧電セラミック層は、一般式（１）[Ａｇ_h{Ｌｉ_x(Ｋ_1-yＮａ_y)_1-x}_1-h]_j(Ｎｂ_1-z-wＴａ_zＳｂ_w)Ｏ_3-k（但し、０≦ｘ≦０．２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦０．４、０≦ｗ≦０．２、ｘ＋ｚ＋ｗ＞０、０＜ｈ≦０．０５、０．９４≦ｊ≦１、０≦ｋ≦０．５）で表される上記等方性ペロブスカイト型化合物を主相とする上記結晶配向セラミックスからなる。 （もっと読む）

【課題】物性の優れたＩＴＯ膜をより一層向上した歩留りで成膜できるＩＴＯ焼結体、ＩＴＯスパッタリングターゲット材およびＩＴＯスパッタリングターゲット、とくにバルク抵抗値の低いＩＴＯ焼結体を用いることで、低抵抗かつ非晶質安定性に優れた膜が得られるＩＴＯスパッタリングターゲット材およびＩＴＯスパッタリングターゲット、ならびにこれらに好適なＩＴＯ焼結体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ焼結体は、主結晶粒であるＩｎ₂Ｏ₃母相内にＩｎ₄Ｓｎ₃Ｏ₁₂からなる微細粒子が存在するＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）焼結体であって、該微細粒子が粒子の仮想中心から放射線状に針状突起が形成された立体星状形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高強度の磁器およびその製造方法を提供する。
【解決手段】９〜５５重量％のＳiＯ_２、３６〜８７重量％のＡl_２Ｏ_３、０〜２.０重量％のＦe_２Ｏ_３、０〜１.０重量％のＴiＯ_２、０〜０.５重量％のＣaＯ、０〜０.５重量％のＭgＯ、１.０〜４.０重量％のＫ_２ＯとＮa_２Ｏの混合物、および０.２５〜２５.０重量％の酸化ビスマスを含有する磁器により、上記課題が解決される。この磁器は、予想外に高い素焼曲げ強度を有しており、誘電体および構造体の応用分野に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 ボトムアッシュを原料の一部として有害重金属溶出の危険性のない、透水・保水性材料、濾過材料、微生物を担持する水浄化材料、吸音材料、耐火断熱材料、植栽用材料等として用いられるセラミック多孔質体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 重量で、フライアッシュ：１％〜７０％、ガラス：４％〜６０％、ボトムアッシュ：１％〜８０％の焼成体又は焼結体からなるセラミック多孔質体。また、重量で、フライアッシュ：１％〜７０％、ガラス又は廃ガラス：４％〜６０％、ボトムアッシュ：１％〜８０％の原料を粒粉体とし、これら原料を混合して空気遮断状態下に、６００℃〜１１００℃の温度域で１分間〜１２０分間の焼成を行った後、空気遮断状態下に冷却するセラミック多孔質体の製造方法。 （もっと読む）