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Fターム[4J043RA06]の内容

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【課題】耐熱性、電気特性、および柔軟性に優れる硬化物が得られ、また、硬化前の保存安定性も優れる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール系化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた残基を有するポリウレタン構造、並びに1分子中に少なくとも2個のアルコール性水酸基を有するポリオール化合物から2つの水酸基を除いた残基を有するポリウレタン構造を有し、後者の含有率が50〜90重量%であるポリイミド樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)とを含有する熱硬化性ポリイミド樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高い透明性、極めて高い膜靭性、高いガラス転移温度および溶液加工性を併せ持ち、各種電子デバイスにおける電気絶縁膜、LCD用透明基板、有機エレクトロルミネッセンスディスプレー用透明基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、半導体素子の保護膜、層間絶縁膜、特にフレキシブルLCD用プラスチック基板としてとして有益なポリイミドとその前駆体、並びに該前駆体の原料となる新規なエステル基含有テトラカルボン酸二無水物を提供する。
【解決手段】明細書に示す式(1)または(2)で表されるエステル基含有テトラカルボン酸二無水物、式(3)または(4)で表される繰り返し単位を少なくとも一部に有するポリイミド前駆体、式(5)または(6)で表される繰り返し単位を少なくとも一部に有するポリイミド、及び、該ポリイミドを少なくとも一部に含有して成るディスプレー用透明プラスチック基板。 (もっと読む)


【課題】i線(365nm)において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体を用いて、半導体素子の保護膜及びディスプレー用プラスチック基板として有用なポリベンゾオキサゾールイミド膜を提供する。
【解決手段】下記一般式(4):


(式(4)中、Aは4価の芳香族基を表し、Bは2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 (もっと読む)


【課題】骨格中にハロゲン原子を含まず、化学線に対する透明性が高く高感度であり、半導体装置の製造工程で通常使用される現像液(2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)による現像コントロール可能であり、熱硬化レリーフパターンの耐溶剤性が高いポリアミドを提供する。
【解決手段】ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルホン及びジカルボン酸を脱水縮合した化合物の繰り返し構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体ユニット、ならびにフェノール性水酸基を有さないジアミン及びフェノール性水酸基を有さないテトラカルボン酸を脱水縮合した化合物の繰り返し構造を有するポリイミドユニットの両方のユニット構造を有するポリアミドであり、例えば、下記一般式(1)で表されるポリアミド。
【化1】
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【課題】220℃以下の低温下の加熱処理でも十分な耐熱性と機械特性を与えるネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物は、(a)一般式(I)で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体と、(b)活性光線照射により酸を発生する化合物と、及び(c)酸の作用により前記(a)成分と架橋あるいは重合し得る化合物とを含有してなる。
【化1】


(式中、U又はVは二価の有機基を示し、U又はVの少なくとも一方は炭素数1〜30の脂肪族鎖状構造を含む基である。) (もっと読む)


【課題】ゴムとの接着性、接着耐久性に優れる易接着性ポリエステルフィルム、及び該易接着性ポリエステルフィルムにゴムを貼りあわせてなる、弾力性、シール性に優れる積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも一軸方向に配向したポリエステルフィルムの片面に、ポリアクリロニトリルブタジエン構造を分子中に有するポリアミドイミド系樹脂を含む接着層(a)が形成されてなることを特徴とする易接着性ポリエステルフィルム。さらに、ゴムと前記の易接着性ポリエステルフィルムとを、接着層(a)を介して貼り合わせてなる積層体。 (もっと読む)


【課題】屈折率が高く、透明性に優れ、さらに耐熱性にも優れた特定の構造を有するイミド化重合体を主成分とする硬化膜を与える樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(3)で示される構造を有するポリアミック酸の1種以上、及び(E)有機溶剤を含有するを含む樹脂組成物。


[式(3)中、Rは4価の有機基を示し、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示し、aはそれぞれ独立して0〜4の整数を示し、bはそれぞれ独立して0〜3の整数を示し、mは1〜100,000の数を示す。] (もっと読む)


【課題】より高屈折率で、透明性及び耐熱性に優れたイミド化重合体を製造するための新規なジアミン化合物、それを用いて製造されたポリアミック酸及びイミド化重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示されるジアミン化合物;下記ジアミン化合物と、テトラカルボン酸二無水物を重縮合させて得られるポリアミック酸;及びそれを加熱して得られるイミド化重合体。


[Rはそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示し、aはそれぞれ独立して0〜4の整数を示し、bはそれぞれ独立して0〜3の整数を示す。] (もっと読む)


【課題】高感度で、熱処理後のパターン形状に優れる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂、(b)一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂以外の樹脂、(c)光酸発生剤および(d)前記(c)以外の光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】高難燃性、低線熱膨張係数、低吸湿膨張率、金属、特に銅との高接着強度、高ガラス転移温度及び可撓性を併せ持つポリエステルイミド及びその前駆体を提供する。
【解決手段】一般式(9)で表される反復単位を有するエステル構造及び特定の芳香族骨格を有するポリエステルイミドは、フレキシブルプリント配線基板(FPC)基材、テープオートメーションボンディング(TAB)用基材、各種電子デバイスにおける電気絶縁膜および液晶ディスプレー用基板、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレー用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、特にFPC基板材料として好適に利用できる。
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【課題】液滴吐出法による成膜性が良好であり、しかもスジムラがなく、均質で平坦な液晶配向膜を形成することのできる、液晶配向膜形成用組成物、及びこの組成物を用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出法で液晶配向膜を形成する際に用いられる液晶配向膜形成用組成物である。表面張力が32mN/m以上の、分子内に窒素を有する第1有機溶剤Aと、表面張力が32mN/m未満の第1有機溶剤Bとを含む混合溶剤と、この混合溶剤に溶解されてなる液晶配向膜形成用材料と、を含有してなる。 (もっと読む)


【課題】液晶表示素子を構成する電極種によらず焼き付き特性が良好な液晶配向剤、この液晶配向剤から得られる液晶配向膜およびこの膜を具備する液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】イミド結合単位およびアミック酸結合単位を有する重合体100重量部および分子内にエポキシ基を含有する下記式(I−3)で表される化合物とを少なくとも5重量部含有してなる液晶配向剤。上記イミド結合単位と上記アミック酸結合単位の合計結合単位数に対する上記アミック酸結合単位の割合が60〜95%である。


(ここで、Rは2価の有機基である。) (もっと読む)


【課題】環境が異なっても安定したベルトの走行性と端部のソリが発生しないポリイミド製エンドレスシームレスベルト、その製造方法および画像形成装置を提供する。
【解決手段】吸湿線膨張率の測定条件として、高湿条件35℃/85%(相対湿度)かつ低湿条件35℃/35%(相対湿度)で測定されるベルト周方向吸湿線膨張率(TD)とベルト軸方向吸湿線膨張率(MD)の比(TD/MD)が、0.9≦吸湿線膨張率比(TD/MD)≦1.1の範囲にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塗布性、垂直配向性に優れると共に、信頼性に優れる垂直配向型液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記垂直配向型液晶配向剤は、p−フェニレンジアミン、1位がステロイド構造を有する置換基で置換された特定の2,4−ジアミノベンゼンおよび1位がステロイド構造を有する置換基で置換された特定の3,5−ジアミノベンゼンを含有するジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応して得られるポリアミック酸およびそのイミド化重合体よりなる群から選ばれる少なくとも1種の重合体を含有する。 (もっと読む)


【課題】高い垂直配向性能を有しつつ、印刷性や良好な電気特性を有する垂直配向型液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】アミック酸繰返し単位およびイミド繰返し単位の少なくとも一方の繰返し単位からなる重合体と、分子内に少なくとも2つのエポキシ基を含有する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種のエポキシ含有化合物を、上記重合体100重量部に対して上記エポキシ含有化合物を1〜50重量部の割合で、含有する垂直配向型液晶配向剤。 (もっと読む)


【課題】低温での貼り付け性及び耐熱性の両方を十分に優れたものとできる接着剤組成物を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を1以上有するアミドイミド樹脂と、エポキシ基を1以上有するエポキシ樹脂との反応により得られる変性アミドイミド樹脂を含有する接着剤組成物、該組成物をフィルム状に成形してなるフィルム状接着剤および支持基材と、その支持基材上に形成された前記フィルム状接着剤とを備える接着シート。 (もっと読む)


【課題】 極めて高温での使用にも耐える電子部品の基材として好適であり、高い剛性を持ち、かつ極めて高い耐熱性を有するポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを提供すること。
【解決手段】 ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸無水物類とが重縮合してなるポリイミドベンゾオキサゾールフィルムであって、
該ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを、不活性ガス雰囲気下、170℃で7分間保持することで予備乾燥した後、500℃で10秒間加熱した場合における、前記500℃で10秒間加熱する間に揮発する水分量が、予備乾燥前の該ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムに対して10000ppm以下であることを特徴とするポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度といったポジ型のリソグラフィー性能にすぐれるばかりでなく、残留応力が低減された塗膜を低い熱処理温度で得ることができる、ポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド100質量部と、特定のイソシアヌル酸誘導体20〜80質量部と、感光性ジアゾキノン化合物1〜100質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。


(式中、X1 は少なくとも2個以上の炭素原子を有する4価の有機基、X2 ,Y1 およびY2 は少なくとも2個以上の炭素原子を有する2価の有機基、mは2〜1000の整数、nは0〜500の整数であって、m/(m+n)≧0.5である。) (もっと読む)


【課題】 耐熱性、電気絶縁性、透明性及び光学特性等の特性を有するポリイミド樹脂組成物、屈折率の制御可能なポリイミド樹脂組成物の提供。
【解決手段】 脂環式炭化水素化合物を含むポリイミド樹脂組成物原料物質から得られるポリイミド前駆体ワニス組成物を、反応させて得られるポリイミド樹脂組成物。前記脂環式炭化水素を含むポリイミド樹脂組成物は、(1)脂環式炭化水素ジアミンと脂肪族炭化水素テトラカルボン酸又は芳香族炭化水素テトラカルボン酸若しくはその二無水物、(2)脂肪族炭化水素ジアミン又は芳香族炭化水素ジアミンと脂環式炭化水素テトラカルボン酸又はその二無水物、及び(3)脂環式炭化水素ジアミンと脂環式炭化水素テトラカルボン酸若しくはその二無水物から選ばれる。 (もっと読む)


【課題】厚み変動率が小さく、破断強度や破断伸度が高く、またハンダ耐熱性の高い耐熱シートを得ること
【解決手段】
溶剤に溶解されたガラス転移温度が200℃以上のポリマー溶液を押し出し成型することにより得られ、厚み変動率が5%以下であることを特徴とする耐熱シート、および溶剤に溶解されたガラス転移温度が200℃以上のポリマー溶液をスクュリー及びTダイスを備えた押し出し成型機に導入し、加熱しながら真空下、溶剤の一部または全部を除去しながら成型することを特徴とする耐熱シートの製造方法。 (もっと読む)


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