【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ（ａ）と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｂ）と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光ミラーを再現性よく位置決めするとともに、ＥＵＶ集光ミラーにおける歪みの発生を抑制する。
【解決手段】基板材と、基板材の第１の面に設けられた反射膜と、基板材の第１の面と異なる第２の面に設けられた複数の突起部とを含むミラーと、複数の突起部をそれぞれ支持する複数の支持部であって、複数の突起部をガイドするための複数の溝がそれぞれ形成された複数の支持部と、複数の突起部を、複数の支持部の溝に向けてそれぞれ押し付ける複数のクランプ部と、を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ光学基材用での成膜面における凹欠点の発生が抑制されたＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０の上下定盤１２，１４の研磨面でキャリア２０に保持されたガラス基板２２を挟持し、上定盤１２に設けられた供給孔から研磨粒子を含む流体を供給しつつ、上下定盤１２，１４と、キャリア２０に保持されたガラス基板２２と、を相対的に移動させてガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）光学基材用ガラス基板２２の研磨方法であって、ＥＵＶＬ光学基材での成膜面が、下定盤１４の研磨面と対面するようにガラス基板２２を挟持ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置３と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光３１を内部に導入するための少なくとも１の入射口が設けられたチャンバ２と、前記レーザ装置３から出力される前記レーザ光３１のビーム断面を拡大する拡大光学系５０と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光３１を集光する集光光学系２２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置のマスクや光学系の表面に付着した炭素コンタミネーションを、当該マスクや光学系にダメージを与えることなく、効率的に分解・除去する。
【解決手段】クリーニング装置４０は、表面に炭素コンタミネーション４４が付着した多層膜ミラー４１を収容する処理室４３を備えている。処理室４３の上面には、水銀ランプ４５を備えた光照射装置４６が設置され、この水銀ランプ４５から発する波長２５４ｎｍの深紫外光が処理室４３の内部に照射される。また、処理室４３の内部には、酸素供給源５１から酸素ガスが導入され、不飽和炭化水素供給源５２からエチレンガスが導入される。処理室４３の内部に導入された酸素ガスおよびエチレンガスに深紫外光が照射されると、これらのガスから生じたイオンやラジカルが炭素コンタミネーション４４を分解する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】照明光学系において、光源からの光の角度分布の不均一性を解消しつつ、均一な光強度分布を高い効率で形成するために有利な技術を提供する。
【解決手段】 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系は、前記光源からの光を分割して複数の光束を生成する分割部と、前記分割部によって生成された前記複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する第１反射型インテグレータと、前記第１反射型インテグレータからの光を集光する集光部と、前記集光部からの光を受けて前記被照明面を照明する第２反射型インテグレータと、前記第２反射型インテグレータと前記被照明面との間に配置される開口絞りとを備え、前記分割部は、前記開口絞りが配置される面に対して、前記光源から前記分割部に提供される光の断面形状とは異なる断面形状を有する光が入射するように、前記複数の光束を生成する。 （もっと読む）

【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】本発明は、所定の原子のプラズマ励起によりＥＵＶ光を生じさせる発光部(10)と、発光部から照射されたＥＵＶ光を集光させる集光部(20)と、集光部により集光したＥＵＶ光をマスクを介して基板上に照射する露光部(30)と、発光部内のＥＵＶ光の発光点の位置を検出する第１プラズマ位置モニタ(11a)と、発光部の位置を調整する発光部駆動装置(13)と、を有する露光装置を用いる。そして、プラズマ位置モニタにより検出された発光点と発光基準位置との第１ズレ量を判断し、第１ズレ量に基づいて、発光部駆動装置を駆動する。さらに、集光部により集光したＥＵＶ光の集光点の位置を検出する第１集光位置モニタ(21a)と、集光部の位置を調整する集光部駆動装置(23)と、を有する露光装置を用いる。そして、集光点と基準集光点の位置との第２ズレ量を算出し、第２ズレ量の算出結果に基づいて集光部駆動装置(23)を駆動する。 （もっと読む）

【課題】熱交換を速やかに行うことができる反射光学素子、光学ユニット、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】露光光を反射させる第１面４７と、第１面４７とは異なる第２面４９と、第２面４９に形成された凹部６８とを有する反射光学素子４３と、凹部６８の底面と、凹部６８の側面の少なくとも一部とのそれぞれに接触し、反射光学素子４３との間で熱交換を行う突出部材６９とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学部材と温度調節機構との間で熱交換を速やかに行うことができる光学ユニット、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａと、該支持面５０ａとは異なる裏面５０ｂとを有し、支持面５０ａから裏面５０ｂを貫通する第１貫通孔６３ａが形成された支持部材５０と、入射側フライアイミラー４８に係合する先端側部位６５ｂと、第１貫通孔６３ａ内に配置される基端側部位６５ａとを有する軸部６５を備え、軸部６５の一端部から軸部６５の他端部を貫通する第２貫通孔６７が形成されるとともに、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０とを係合するボルト６４と、ボルト６４の第２貫通孔６７に挿入され、入射側フライアイミラー４８との間で熱交換を行う突出部材６９と、突出部材６９を介して、入射側フライアイミラー４８の温度を調整する温度調節装置４４とを備える。 （もっと読む）

【課題】高いスループットを達成することのできる光学ユニット、光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光学ユニット２０は、光源装置と被照射面との間に配置され、光源装置からの露光光ＥＬを波面分割して反射する複数の入射側ミラー要素４７を有する入射側フライアイミラー４５と、入射側フライアイミラー４５で波面分割された露光光ＥＬを反射する複数の射出側ミラー要素６７を有する射出側フライアイミラー６５とを備える。また、光源装置と入射側フライアイミラー４５との間に挿入可能に配置され、光源装置からの露光光ＥＬを波面分割して、その反面分割した露光光ＥＬを、射出側フライアイミラー６５の位置に配置される射出側フライアイミラーに入射させる射出側フライアイミラー５０を備える。 （もっと読む）

【課題】中間集光点以降における照度分布測定を、露光装置側に照度分布を測定する手段を設けることなく、極端紫外光光源装置単体でも行うことができるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、集光鏡６と中間集光点ｆの間に、中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光だけを抽出する多孔板２０１と蛍光板２０２と折り返しミラー２０３と受光検出器２０５を設ける。多孔板２０１には、中間集光点ｆに向かう光のみが通過するように配置された多数の貫通孔が設けられており、受光検出器２０５には中間集光点ｆに集光する光のみが受光される。受光検出器２０５で検出した点状の照度分布は画像処理部１０で補間処理され、中間集光点ｆに集光する光の照度分布が復元される。これにより、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができ、また、ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させ照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光量のきめ細かな監視および調整を可能にする。
【解決手段】実施形態の露光装置は、ＥＵＶ光を発光し、パターンが作成された第１の基板に照射する光源と、光学素子を有し、前記第１の基板から発せられる光束を縮小して第２の基板に照射することにより前記パターンを前記第２の基板に転写する縮小光学系と、前記ＥＵＶ光の照射により前記光学素子から発生する光電子を検出する光電子検出手段と、前記光電子検出手段の検出信号と前記光学素子表面の座標情報とから前記光学素子表面の状態分布を表す面内分布情報を作成する面内分布情報作成部と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップを交換するタイミングを適切に判断することが可能な光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマによる光を発生するプラズマ生成部（１、２、３）と、プラズマ生成部で発生した光を集光する集光鏡（６）と、プラズマ生成部で発生したデブリが集光鏡に到達することを抑制するホイルトラップ（８）と、ホイルトラップと接地部との間に流れる電流を測定する電流測定部（１１）とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学部材の反射面を洗浄できる洗浄方法、洗浄装置、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】照明光学系２および投影光学系ＰＬが備える光学部材の少なくとも一つに設けられ、光学部材の反射面に対して複数の方向から、洗浄光ＣＬを射出する洗浄用光源ＣＳを備える露光装置１００を提供する。洗浄用光源ＣＳは、コンデンサーミラー１９ａの反射面の前方に、開口部３１を有する環状部材で形成されている。 （もっと読む）

【課題】光学素子の表面に付着した物質を効率良く除去する。
【解決手段】照明された原版のパターンからの露光光を基板に投影して該基板を露光する露光装置は、光学素子を含み、前記露光光を前記基板に投影する投影系と、前記投影系を取り囲む容器と、前記容器の中に酸素が存在する環境で前記光学素子に紫外光を照射して前記光学素子を洗浄する洗浄機構とを備え、前記洗浄機構は、紫外光を発生する光源ユニットと、前記光源ユニットと前記光学素子との間の光路の一部を取り囲み、射出窓を有する管部材と、前記管部材の外側かつ前記容器の内側の空間における酸素分圧よりも前記管部材の内側の空間における酸素分圧が低くなるように前記管部材の内側の空間の環境を調整する調整部とを含み、前記光源ユニットが発生した紫外光を、前記管部材の中を通過させ、前記射出窓を射出させて前記光学素子に入射させる。 （もっと読む）

【課題】輸送管内壁への酸化物の付着を低減できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】対象物１１に水素ラジカルを供給することによって前記対象物１１を洗浄する洗浄装置２７であって、加熱された触媒１に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、前記生成手段から前記対象物１１への気体の供給を制限可能な制限手段と、前記制限手段により気体の供給が制限された状態で、前記触媒１の周囲の気体を前記対象物１１を介さずに排気可能な排気手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラスの製造方法であって、フッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることが出来る方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）前記多孔質ガラス体を、反応槽内にて、４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）前記フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有し、前記工程（ｂ）において、前記反応槽内にフッ素単体（Ｆ_２）を連続的または断続的に供給し、かつ前記反応槽内のガスを連続的または断続的に排出する。 （もっと読む）

【課題】放射ビームの反射効率を向上させることができる反射光学部材、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】射出側フライアイミラーは、射出側ミラー要素ＭＡ１，ＭＡ２，ＭＡ３を有するミラーブロック５０Ａと、射出側ミラー要素ＭＢ１を有するミラーブロック５０Ｂと、射出側ミラー要素ＭＣ１，ＭＥ１を有するミラーブロック５０Ｃ，５０Ｅと、射出側ミラー要素ＭＤ１，ＭＤ２を有するミラーブロック５０Ｄとを備えている。 （もっと読む）