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国際特許分類[H01L31/04]の内容

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【課題】光劣化率を低減可能な光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子10は、光電変換部3を備える。光電変換部3は、p型非晶質半導体層31、バッファ層32、i型非晶質半導体層33およびn型非晶質半導体層34を積層した構造からなる。バッファ層32における炭素原子の含有量は、基準値よりも少なく、基準値は、3×1014(個/cm)〜1.2×1016(個/cm)の範囲、または3×1014(個/cm)〜1.4×1016(個/cm)の範囲からなる。 (もっと読む)


【課題】異相を含まない高純度のAZTS超微粒子を得ることができるようにする。
【解決手段】Ag、Zn、及びSnの各金属元素をそれぞれ含有した第1〜第3の含イオウ金属化合物をオレイルアミン等の脂肪族アミン中で加熱処理し、化学式AgZnSnSで表される化合物半導体を作製する際に、第1及び第2の含イオウ金属化合物を前記化合物半導体の化学量論組成比で秤量する一方、第3の含イオウ金属化合物を前記化合物半導体の化学量論組成比の3〜6倍となるように秤量し、前記脂肪族アミンに添加する。含イオウ金属化合物としては、例えばジアルキルジチオカルバミン酸化合物を使用することができ、加熱処理は280℃以上の温度で行うのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】アノードになる電極とカソードになる電極を確定できる光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子1の半導体層10に凸層11を形成する。導電層40を凸層11の一側面に接触するようにして半導体層10の表面に積層する。第1電極21を凸層11の反対側の面に接触するようにして半導体層10の表面に設ける。第2電極22を導電層40に設ける。更に、凸層11又は導電層40に多数の周期構造33を含む金属ナノ構造30を積層する。各周期構造33は複数の第1凸部31からなり、第1凸部31の配置間隔が周期構造33に応じて異なる。 (もっと読む)


【課題】優れた特性を有する透明導電膜を簡便な製造プロセスにて安価に製造することができる透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ素ドープ酸化スズ膜からなる透明導電膜を透明基板100の被成膜面101上に形成するに際して、加熱部14において被成膜面101の温度が500℃以上となるように透明基板100を加熱し、成膜部15において透明導電膜の原料溶液を被成膜面101に対して噴霧して透明導電膜を成膜し、熱処理部16において透明導電膜を400℃以上500℃以下の大気雰囲気中において5分以上45分以下にわたって熱処理する。 (もっと読む)


【課題】光劣化率を低減可能な光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子10は、n型単結晶シリコン基板1と、シリコン薄膜2と、バッファ層3と、p型非晶質半導体層4と、透明導電膜5と、電極6とを備える。シリコン薄膜2は、n型単結晶シリコン基板1の一主面に接して配置される。バッファ層3は、シリコン薄膜2に接して配置される。p型非晶質半導体層4は、バッファ層3に接して配置される。透明導電膜5は、p型非晶質半導体層4に接して配置される。電極6は、n型単結晶シリコン基板1のシリコン薄膜2と反対側の表面に接して配置される。シリコン薄膜2は、非晶質相が支配的な膜構造からなり、微結晶相中に含まれるSiの結晶粒よりも小さい結晶粒が非晶質相中に含まれている膜構造からなっていてもよい。バッファ層3は、i型a−SiCからなる。 (もっと読む)


【課題】耐久性の向上可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板10と、基板上に配置された第1電極層11と、第1電極層上に配置された正孔輸送層12と、正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層14と、バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第2電極層16と、第2電極層の表面に配置した不動態膜24とを備える。 (もっと読む)


【課題】粒径が大きく、かつ、ボイドの少ないCZTS膜を光吸収層に用いた光電素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】下部電極の上に、(a)Cu、Zn又はSnを含む複数の薄膜が積層された積層膜からなり、(b)積層膜の成膜時及び硫化の過程においてCu−Zn相又はCu−Zn−S相を生成させることがなく、かつ、(c)膜厚が200〜700nmであるプリカーサを形成し、これを所定の条件下で硫化させる。このような方法により、(a)CZTS系化合物からなり、(b)膜厚方向に見たときに、1個の結晶粒のみからなる領域を含み、(c)気孔率が10%以下であり、かつ、(d)膜厚が300〜1000nmである光吸収層を備えた光電素子が得られる。 (もっと読む)


【課題】廉価にゲッタリング効果を得つつ高品質化を図る。
【解決手段】溶融シリコンを坩堝内の下方から上方に向けて一方向に凝固させることにより生成させた多結晶シリコンインゴットであって、上端部および下端部における酸素濃度が、この上端部とこの下端部との間の中央部における酸素濃度より高い。また、上端部における酸素濃度が下端部における酸素濃度より高い。 (もっと読む)


【課題】大面積で作製した場合でも、優れた光電変換特性を有するセルを歩留まり良く製造することができる化合物半導体太陽電池セルを提供する。
【解決手段】格子定数差の大きいサブセルの間に中間第一層83、中間第二層82および中間第三層81を含む中間層35を設けて格子不整合を緩和した化合物半導体太陽電池セルであって、第2のサブセル36に最も近い位置に配置されている中間第一層83と中間第一層83に隣接する中間第二層82との間の格子定数差の比である第1格子定数差比が、中間第二層82に隣接する中間第三層81と中間第二層82との間の格子定数差の比である第2格子定数差比よりも大きく、かつ第1格子定数差比が0.78%以下であって、複数層の隣接する層間のそれぞれの格子定数差比が第1のサブセル34に近づくにつれて小さくなる化合物半導体太陽電池セルである。 (もっと読む)


【課題】 Na、Caを含有するソーダ石灰ガラス等の汎用ガラスを、高耐久性の反射防止膜付きガラス基材として利用することを目的とする。すなわち、反射防止機能を付与することにより、入射光の透過量を増加させると同時に、高温高湿下でのガラス基材中のNaやCaの反射防止膜表面への拡散を抑え、反射防止膜の白濁を抑制する反射防止膜付きガラス基材を提供することを目的とする。
【解決手段】 表面に、反射防止膜3を備えるガラス基材2であって、ガラス基材2は、NaおよびCaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を含有し;反射防止膜3は、SiOを含有し、屈折率が1.35〜1.50であり;かつガラス基材2表面と反射防止膜3との界面に、Pを1〜12原子%含有する拡散抑制膜4を備える、ことを特徴とする、反射防止膜付きガラス基材1である。 (もっと読む)


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