【課題】 出力されるレーザ光の立ち上がり期間を短くしつつ、不要な光の出力を抑制することができるファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ファイバレーザ装置１００は、種レーザ光源１０と、励起光源２０と、増幅用光ファイバ３０と、制御部６０と、命令部６５とを備え、種レーザ光源１０及び励起光源２０は、出力命令が制御部６０に入力されてから一定期間後に出力状態とされ、出力停止命令が制御部６０に入力されてから一定期間後に出力状態が終了され、出力停止命令の入力から次の出力命令までの期間が一定期間よりも短い場合には、出力状態の終了から次に出力状態の開始までの間予備励起状態とされ、出力停止命令の入力から次の出力命令までの間隔が一定期間よりも長い場合には、出力命令の入力から一定期間のみ予備励起状態とされる。 （もっと読む）

【課題】 光アンプを備えた伝送路でＷＤＭ伝送する場合、伝送する信号数が伝送路を通過する総和に対して半数以下の場合や、伝送する信号の波長配置が偏在すると、光アンプは利得平坦性が維持できず、システム許容範囲を超えて利得偏差が生じ、伝送品質に多大な影響が生ずる。
【解決手段】 波長の異なる複数の信号を送信する送信装置と受信装置の間の伝送路にＥＤＦＡを備えた光伝送装置のいずれかの機器や箇所に、ＥＤＦＡの反転分布状態を固定するための反転分布固定信号を発生する反転分布固定信号光源を備えた光伝送装置であって、前記反転分布固定信号光源は、光増幅部を通過する信号帯域付近で且つＥＤＦＡの利得係数のピーク付近に設定された波長において反転分布固定信号を発生するものであり、それら反転分布固定信号のパワーを制御することによってＥＤＦＡの反転分布状態を固定できるようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザの光出力を安定化させるため出力光をモニタリングしているが、出力光を直接ビームスプリッタで分岐させ検出したり、出力光の一部の光路を変更し光学フィルタを通して検出したりしている。ここでの、部品点数が増えて小型化の妨げになったり、光軸を合わせるのが難しいと言う問題を解決する。
【解決手段】基本波を出射する半導体レーザ素子１と、基本波の入射を受け、基本波の波長を変換した波長変換光を出射する変換素子２と、波長変換光の所望の波長領域である波長領域光を選択的に透過させるフィルタ４と、フィルタを透過した前記波長領域光の入射を受け、波長領域光の一部を正反射し波長領域光の残部を実質的に透過する透光部材６を有するとともに、半導体レーザ素子を封止する封止部材５と、透光部材から正反射した正反射光を受光する受光素子３と、を有した構成とする。 （もっと読む）

【課題】高出力レーザであっても微小なレーザを安定して出力する。
【解決手段】レーザ装置（１）は、互いに直列に配置された第一および第二のレーザ励起領域（２１、２２）と、第一のレーザ励起領域に第一のエネルギを注入する第一電源ユニット（ＰＳＵ１）と、第二のレーザ励起領域に第二のエネルギを注入する第二電源ユニット（ＰＳＵ２）と、を具備し、第一電源ユニットは、レーザ発振が開始される臨界注入エネルギ以上の所定の励起エネルギを第一のエネルギとして第一のレーザ励起領域に注入し、第二電源ユニットは、放電管が予備放電するのに必要とされる予備励起エネルギと臨界注入エネルギとの間で第二のレーザ励起領域に注入されるエネルギを第二のエネルギとして第二のレーザ励起領域に注入し、それにより、レーザ出力を制御する。 （もっと読む）

【課題】被増幅光のパワー及び出力モード品質を簡便に調整することが可能な増幅器を提供する。
【解決手段】一方の端面１１から被増幅光６の入射を受け他方の端面１２からこれを出射する固体の利得媒質１と、利得媒質１に励起光７を照射して被増幅光６を増幅させる励起光源５と、利得媒質１と励起光源５との間に介在し励起光７を通過させる回転操作可能な１／２波長板２とを具備するレーザ増幅器を構成した。本レーザ増幅器では、１／２波長板２の回転操作を通じて、利得媒質１に照射される励起光７の偏光方向、ひいては励起光７の吸収の度合いを簡単に増減させることができる。これにより、利得媒質１の熱歪みを抑制して被増幅光６の出力モード品質を担保しつつ、被増幅光６のパワーを必要十分な大きさまで高めることが容易となる。 （もっと読む）

【課題】同じレーザ光源装置を用いて、加工精度を良好に保ちつつ、レーザ光のパルスエネルギーおよび繰返し周波数を変化させる。
【解決手段】シードLD１５１から射出されたレーザ光を、ファイバ増幅器１５３およびファイバ増幅器１５５により増幅した後、固体レーザ増幅器１５８により増幅する。制御部１６０は、固体レーザ増幅器１５８の固体レーザ媒質を励起する励起光をレーザ光に同期して固体レーザ媒質に照射するように制御するとともに、励起光の単位時間あたりのパワーが所定の値になるように、レーザ光の繰返し周波数に応じて励起光の強度を制御する。本発明は、例えば、レーザリペア装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工装置から出力されるパルス光のパワーを安定化させるための技術を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１００は、シード光を励起光によって増幅する光増幅ファイバ１，８と、シード光をパルス状に発生させるシードＬＤ２と、励起光を発生させる励起ＬＤ３，９Ａ，９Ｂとを備える。レーザ加工装置１００は、レーザ加工装置から出力されるレーザ光に関する条件に基づいて、シード光が発生しない非発光期間における励起光の条件が可変である。制御装置２０は、ドライバ２２，２３Ａ，２３Ｂを制御することによって非発光期間における励起光の条件を変化させる。これにより、レーザ加工装置から出力されるパルス光のエネルギーを非発光期間の長さによらず安定化させることができる。 （もっと読む）

【課題】光出力の変動を抑制して長期的に安定した運用を実現することが可能な構成のレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、レーザ光源１１からの複数の基本波レーザ光をそれぞれ増幅する複数の光増幅器と、増幅された複数の基本波レーザ光を波長変換光学素子を用いて所定の高調波レーザ光に波長変換する波長変換部２０と、高調波レーザ光の一部をモニタ光として分離して、このモニタ光の強度を検出するパワーコントロールユニット５０と、パワーコントロールユニット５０の検出結果に基づいて、基本波レーザ光の強度を操作して高調波レーザ光の出力制御を行う制御部６０とを備え、複数の光増幅器は、励起光源部７０からの励起光を光増幅用ファイバＥＤＦに供給して基本波レーザ光を増幅するようにそれぞれ構成され、制御部６０は、複数の光増幅器のうちで、波長変換部２０での波長変換回数が最も多く設定された基本波レーザ光を増幅するための該光増幅器に供給される励起光出力のみを制御して、基本波レーザ光の強度を操作するようになっている。 （もっと読む）

【課題】光増幅器の製造コストを削減する。
【解決手段】励起光の波長を変化させて出力できる励起光源１５と、前記励起光源１５により出力される前記励起光を用いて入力信号光を増幅する第１の希土類添加媒質３と、前記第１の希土類添加媒質３から出力される残留励起光を用い、増幅された前記入力信号光をさらに増幅する第２の希土類添加媒質７と、前記入力信号光の入力レベルに基づいて、前記励起光源１５から出力される前記励起光の波長を制御する波長制御部１４と、をそなえる。 （もっと読む）

ダイオード励起の、イッテルビウムドープガラスレーザまたはイッテルビウムドープガラスセラミックレーザが提供される。光ポンプと、ガラスまたはガラスセラミックの利得媒質と、波長変換素子と、および出力フィルタとを含む、レーザ光源が提供される。利得媒質は、イッテルビウムドープガラスまたはイッテルビウムドープガラスセラミックの利得媒質を含み、さらにこの利得媒質を特徴付ける吸収スペクトルは、その吸収スペクトルの別個の波長部分に沿って夫々配置される、最大吸収ピークと準最大吸収ピークとを含む。ポンプ波長λを利得媒質の最大吸収ピークよりも準最大吸収ピーク近傍で同調させるように、光ポンプおよび利得媒質が構成される。さらなる実施形態が開示および請求される。
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