説明

レーザ装置及びその制御方法

【課題】光強度を向上したレーザ装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】第1のレーザと、第2のレーザと、外部共振器と、制御部と、を備えたレーザ装置が提供される。前記第1のレーザは、第1のレーザ光を出射する。前記第2のレーザは、第2のレーザ光を出射する。前記外部共振器は、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とが入射される。前記制御部は、前記外部共振器の共振波長を制御して前記第1のレーザ光に共振させ、前記第2のレーザを制御して前記第2のレーザ光を前記外部共振器に共振させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、レーザ装置及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【0002】
レーザ光は、単色性・干渉性に優れているため、センサ用の検査光として用いられる。また、レーザ光は、指向性・収束性に優れ狭い領域に光エネルギーを集中させることができ、材料の加工や物質を化学反応あるいは分解させる光源として用いられる。
例えば、中赤外領域のレーザ光は、例えばサブバンド遷移を用いた量子カスケードレーザ(QCL)により出射することができる。しかし、QCLは、発振出力が小さいため、検査光や化学反応用の光源として用いた場合、光強度が十分でない場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2007−212212号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の実施形態は、光強度を向上したレーザ装置及びその制御方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
実施形態によれば、第1のレーザと、第2のレーザと、外部共振器と、制御部と、を備えたレーザ装置が提供される。前記第1のレーザは、第1のレーザ光を出射する。前記第2のレーザは、第2のレーザ光を出射する。前記外部共振器は、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とが入射される。前記制御部は、前記外部共振器の共振周波数を制御して前記第1のレーザ光に共振させ、前記第2のレーザを制御して前記第2のレーザ光を前記外部共振器に共振させる。
【図面の簡単な説明】
【0006】
【図1】第1の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
【図2】第2の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
【図3】第3の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
【図4】第4の実施形態に係るレーザ装置の制御方法を例示するフローチャートである。
【図5】第5の実施形態に係るレーザ装置の制御方法を例示するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0007】
以下、実施形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の形状や縦横の寸法の関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【0008】
まず、第1の実施形態について説明する。
図1は、第1の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
レーザ装置1は、第1のレーザ光IL1を出射する第1のレーザ2と、第2のレーザ光IL2を出射する第2のレーザ3と、第1及び第2のレーザ光IL1、IL2が入射される外部共振器4と、第2レーザ3と外部共振器4とを制御する制御部5と、を備える。また、レーザ装置1は、第1のレーザ光IL1と第2のレーザ光IL2とを外部共振器4に入射させるミラー6、偏光プリズム7を備える。図1に例示したレーザ装置1は、外部共振器型のレーザ装置である。
【0009】
第1のレーザ2は、例えばQCLであり、例えば波長10μmの中赤外領域の第1のレーザ光を出射する。第1のレーザ光は、直線偏光であり、ミラーM1を介して偏光ビームスプリッター7に対してP偏光となるように照射される。第1のレーザ光IL1は、偏光ビームスプリッターPBS1を透過し、外部共振器4に入射する。
【0010】
第2のレーザ3は、例えばQCLであり、例えば波長10μmの中赤外領域の第2のレーザ光を出射する。第2のレーザ光は、直線偏光であり、偏光ビームスプリッター7に対してS偏光となるように照射される。第2のレーザ光は、偏光ビームスプリッター7で反射され、外部共振器4に入射する。このように、第1のレーザ光と第2のレーザ光とは、互いに直交する方向に直線偏光している。また、第1のレーザ光の波長と第2のレーザ光の波長とは、ほぼ同一である。
【0011】
外部共振器4は、一対のミラー8、9と、ミラー9に設けられた圧電素子10と、を有する。一対のミラー8、9は、例えば、それぞれ反射率99%以上の凹面鏡で構成される。また、出力側のミラー9は、圧電素子10に供給する電圧V10を制御することにより、入力側のミラー8に対して移動させることができる。このように、外部共振器4は、圧電素子10に供給する電圧V10を制御することにより、共振波長を変化させることができる。
【0012】
制御部5は、偏光ビームスプリッター11と、第1の光検出器12と、第2の光変出器13と、第1の制御器14と、第2の制御器15と、を有している。
偏光ビームスプリッター11は、外部共振器4を透過した第1のレーザ光IL1と第2のレーザ光IL2とを入射する。偏光ビームスプリッター11に対してP偏光で照射された第1のレーザ光IL1は、偏光ビームスプリッター11を透過し、第1の光検出器12に透過光OL1として入射される。また、偏光ビームスプリッター11に対してS偏光で照射された第2のレーザ光IL2は、偏光ビームスプリッター11で反射され、第2の光検出器13に反射光OL2として入射される。
【0013】
第1の光検出器12及び第2の光検出器13は、例えば、入射される光OL1、OL2に応じて電気抵抗が変化する光伝導体を用いた光検出器であり、あるいは、例えばフォトダイオードである。第1の光検出器12は、偏光ビームスプリッター11を透過した透過光OL1を電気信号V1に変換する。第2の光検出器13は、偏光ビームスプリッター11で反射した反射光OL2を電気信号V2に変換する。
【0014】
第1の制御器14は、例えばPID(Proportional Integral Derivative)制御器であり、外部共振器4の共振波長を制御する。第1の制御器14は、第1の光検出器12から出力される電気信号V1を入力し、外部共振器4の圧電素子10に供給する電圧V10を制御して、外部共振器4を第1のレーザ光IL1に共振させる。外部共振器4を透過した透過光OL1の強度は、外部共振器4が、第1のレーザ光に共振したとき最大になる。したがって、第1の光検出器12から出力される電気信号が最大となるように外部共振器4を制御することにより、外部共振器4を第1のレーザ光に共振させることができる。
【0015】
第2の制御器15は、例えばPID制御器であり、第2のレーザ3の発振波長を制御する。第2の制御器15は、第2の光検出器13から出力される電気信号V2を入力し、第2のレーザ3に供給する電流及び第2のレーザ3の温度の少なくともいずれかを制御して、第2のレーザ光IL2の波長を外部共振器4に共振させる。第2の制御器15は、上記の第1の制御器14と同様に、第2の光検出器13から出力される電気信号V2が最大となるように第2のレーザIL2を制御する。その結果、第1のレーザ光IL1の波長と第2のレーザ光IL2の波長とは、ほぼ等しくなる。
【0016】
なお、第1のレーザ光IL1及び第2のレーザ光IL2の波長と比較して、外部共振器4におけるミラー8、9の機械的間隔は非常に長い。したがって、外部共振器4のミラー8、9間の光学的距離は、透過光OL1のn倍に、反射光OL2のm倍になっている。ここで、n、mは、十分に大きい整数であり、必ずしもm=nとならない。その結果、第1のレーザ光IL1の波長と第2のレーザ光IL2の波長とは、わずかに異なる可能性がある。しかし、波長差は、第1及び第2のレーザ光IL1、IL2の波長に対してわずかであり、第1のレーザ光IL1と第2のレーザ光IL2とは、ほぼ同一の波長となる。
【0017】
また、第1の制御器14と第2の制御器15とは、独立に動作することができ、例えば、同時に動作することができる。また、例えば、第1の制御器14を先に動作させ、第2の制御器15を後に動作させることもできる。さらにまた、例えば、第1の制御器14のゲインを第2の制御器15のゲインよりも大きく設定して、同時に動作させてもよい。
【0018】
本実施形態においては、外部共振器4に波長のほぼ等しい第1のレーザ光と第2のレーザ光とが入射されるため、第1のレーザ光または第2のレーザ光が入射される場合と比較して、外部共振器4内の実効的な光強度を増加させることができる。
【0019】
例えば、外部共振器4の内部に導入される被照射体16が、レーザ光の照射により反応または分解するガスの場合、被照射体16に、より強い光を照射することができ、被照射体16の反応や分解を従来よりも促進することができる。
また、被照射体16が、検査の対象となる物質の場合、照射するレーザ光の光強度を高くすることにより、従来よりも、より高感度の検査をすることができる。具体的には、例えば、被照射体16が中赤外領域の光に対して吸収ピークを有するガスである場合、従来よりも高い検出感度で被照射体16の検査を行うことができる。
被照射体16は、外部共振器4の内部に流入させ通過させてもよく、または外部共振器4のなかに閉じこめてもよい。
【0020】
図2は、第2の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
図2に表したように、レーザ装置1aは、第1の実施形態に係るレーザ装置1と比較して、計測器17が追加されている点が異なっている。これ以外の構成は、図1に表した構成と同様である。
【0021】
計測器17は、例えばオシロスコープであり、例えば電圧計である。計測器17は、第1の光検出器12から出力される電気信号V1及び第2の光検出器13から出力される電気信号V2の少なくともいずれかを計測する。
【0022】
例えば、外部共振器4の内部に、検査対象物としての被照射体16が導入された場合、計測器17は、被照射体16の第1及び第2のレーザ光IL1、IL2の波長における光吸収を測定することができる。その結果、被照射体16の組成や分子構造など高い感度で特定することができる。なお、この場合における被照射体16は、例えば、中赤外領域に吸収スペクトルのピークを有するガスである。
【0023】
また、本実施形態においても、外部共振器4に波長のほぼ等しい第1のレーザ光と第2のレーザ光とが入射されるため、第1のレーザ光または第2のレーザ光が入射される場合と比較して、外部共振器4内の実効的な光強度を増加させることができる。
【0024】
図3は、第3の実施形態に係るレーザ装置を例示する模式図である。
図3に表したように、レーザ装置1bは、第2の実施形態に係るレーザ装置1aと比較して、制御部5の構成が異なっている。すなわち、本実施形態においては、第2の実施形態における制御部5の替わりに、制御部5aが設けられている。本実施形態に係るレーザ装置の制御部以外の構成は、図2に表した構成と同様である。
【0025】
制御部5aは、第1及び第2の実施形態における制御部5と比較して、波長制御部18が追加されている点が異なる。
波長制御部18は、第1のレーザ2に供給する電流及び第1のレーザ2の温度の少なくともいずれかを制御することにより第1のレーザ2の発振波長を制御して、一定の範囲で第1のレーザ光IL1の波長を連続的または断続的に変化させる。
【0026】
波長制御部18は、例えば、三角波を生成して、第1のレーザ2に供給する電流を連続的に増加させることができる。また、波長制御部18は、例えばコンピュータであり、格納されたプログラムにしたがって、第1のレーザ2の発振波長を所定値に制御してもよい。また、波長制御部18は、第1の制御器14、第2の制御器15、及び計測器17を制御することもできる。この場合、波長制御部18は、第1の制御器14及び第2の制御器15を制御し、さらに第1のレーザ2の発振波長を連続的に変化させて、被照射体16の吸収スペクトルを計測することができる。
【0027】
また、本実施形態においても、外部共振器4に波長のほぼ等しい第1のレーザ光と第2のレーザ光とが入射されるため、第1のレーザ光または第2のレーザ光が入射される場合と比較して、外部共振器4内の実効的な光強度を増加させることができる。
【0028】
次に第4の実施形態について説明する。
図4は、第4の実施形態に係るレーザ装置の制御方法を例示するフローチャートである。
図4においては、第1のレーザ2が目標とする波長の第1のレーザ光IL1を出射している場合に、外部共振器4と第2のレーザ3とを制御して、外部共振器4を第1及び第2のレーザ光IL1、IL2に共振させる制御方法を表している。
【0029】
図4に表したように、外部共振器4を第1のレーザ光IL1に共振させる(ステップS11)。
例えば、第1のレーザ光IL1を外部共振器4に入射させ、外部共振器4の透過光OL1の強度が最大になるように、外部共振器4の共振波長を制御する。例えば、圧電素子10に供給する電圧V10を制御して、外部共振器4のミラー8、9間の機械的距離を調整することにより、外部共振器4の共振波長が制御される。
【0030】
また、第2のレーザ光IL2を外部共振器4に共振させる(ステップS12)。
例えば、第2のレーザ光IL2を外部共振器4に入射させ、外部共振器4の反射光OL2の強度が最大になるように、第2のレーザ3に供給する電流及び第2のレーザ3の温度の少なくともいずれかを制御する。
【0031】
なお、外部共振器4を第1のレーザ光IL1に共振させる工程(ステップS1)と、第2のレーザ光IL2を外部共振器4に共振させる工程(ステップS2)とは、独立であり、同時に実行してもよい。また、先に外部共振器4を第1のレーザ光IL1に共振させ、次に第2のレーザ光IL2を外部共振器4に共振させてもよい。
【0032】
本実施形態においては、外部共振器4に入射される第1のレーザ光と第2のレーザ光とがほぼ等しい波長に制御されるため、第1のレーザ光または第2のレーザ光が入射される場合と比較して、外部共振器4内の実効的な光強度を増加させることができる。
【0033】
図5は、第5の実施形態に係るレーザ装置の制御方法を例示するフローチャートである。
図5においては、外部共振器4を第1及び第2のレーザ光IL1、IL2に共振させながら第1のレーザ光IL1及び第2のレーザ光IL2の波長を一定範囲で連続的に変化させるレーザ装置の制御方法を表している。
【0034】
図5に表したように、まず、第1のレーザ光IL1の波長を初期値に設定する(ステップS10)。
例えば、第1のレーザ2に供給する電流及び第1のレーザ2の温度を初期値に制御する。
次に、外部共振器4を第1のレーザ光IL1に共振させる(ステップS11)。また、第2のレーザ光IL2を外部共振器4に共振させる(ステップS12)。
ステップS11、S12は、それぞれ図4に表したステップS11、S12と同じであり、詳細な説明は省略する。
【0035】
次に、制御された第1及び第2のレーザ光IL1、IL2の波長において、計測値を記録する(ステップS13)。例えば、計測器17を介して、第1及び第2の光検出器12、13から出力される電気信号V1、V2の少なくともいずれかを測定された計測値を、波長制御部18に記憶する。
【0036】
次に、計測が終了したか判定する(ステップS14)。例えば、第1のレーザ光IL1の波長が、最終値に達したかを判定する。
計測が終了したと判定された場合(ステップS14:YES)、終了する。
計測が終了していない判定された場合(ステップS14:NO)、第1のレーザ光IL1の波長を増分値だけ長くし(ステップS15)、ステップS11に戻る。
【0037】
本実施形態においても、外部共振器4に入射される第1のレーザ光と第2のレーザ光とがほぼ等しい波長に制御されるため、第1のレーザ光または第2のレーザ光が入射される場合と比較して、外部共振器4内の実効的な光強度を増加させることができる。
【0038】
また、本実施形態においては、第1のレーザ2の発振波長を連続的に変化させるため、被照射体16の吸収スペクトルを計測することができる。
【0039】
なお、第4及び第5の実施形態に係る制御方法は、制御部としてハード化することができ、また、コンピュータプログラムとしてソフト化することもできる。また、制御方法をコンピュータプログラムとして、コンピュータ読み取り可能な媒体に記録することもできる。
【0040】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0041】
1、1a、1b…レーザ装置、 2…第1のレーザ、 3…第2のレーザ、 4…外部共振器、 5、5a…制御部、 6…ミラー、 7、11…偏光ビームスプリッター、 8、9…ミラー、 10…圧電素子、 12…第1の光検出器、 13…第2の光検出器、 14…第1の制御器、 15…第2の制御器、 16…被照射体、 17…計測器、 18…波長制御部

【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1のレーザ光を出射する第1のレーザと、
第2のレーザ光を出射する第2のレーザと、
前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とが入射される外部共振器と、
前記外部共振器の共振波長を制御して前記第1のレーザ光に共振させ、前記第2のレーザを制御して前記第2のレーザ光を前記外部共振器に共振させる制御部と、
を備えたレーザ装置。
【請求項2】
前記外部共振器は、
一対のミラーと、
前記一対のミラーの少なくともいずれかに設けられた圧電素子と、
を有し、
前記制御部は、前記圧電素子を制御する請求項1記載のレーザ装置。
【請求項3】
前記制御部は、前記第2のレーザに供給する電流及び前記第2のレーザの温度の少なくともいずれかを制御する請求項1または2に記載のレーザ装置。
【請求項4】
前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とは、互いに直交した直線偏光である請求項1〜3のいずれか1つに記載のレーザ装置。
【請求項5】
第1のレーザと第2のレーザと外部共振器とを有するレーザ装置の制御方法であって、
前記外部共振器を制御して、前記第1のレーザから出射されるレーザ光に前記外部共振器を共振させ、
前記第2のレーザを制御して、前記外部共振器に第2のレーザから出射される第2のレーザ光を共振させるレーザ装置の制御方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2013−69931(P2013−69931A)
【公開日】平成25年4月18日(2013.4.18)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−208206(P2011−208206)
【出願日】平成23年9月22日(2011.9.22)
【出願人】(000003078)株式会社東芝 (54,554)
【Fターム(参考)】