【課題】試料作製装置及び試料作製方法において、簡便な方法により加工対象の試料の膜厚を測定すること。
【解決手段】試料Sに第１の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第１の二次信号Is₁を取得するステップと、試料Sに第２の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第２の二次信号Is₂を取得するステップと、第２の二次信号Is₂と第１の二次信号Is₁との比Is₂／Is₁を算出するステップと、比Is₂／Is₁が試料Sの膜厚tに依存することを利用し、比Is₂／Is₁に基づいて膜厚tを算出するステップと、算出した試料Sの膜厚tに基づき、膜厚tが目標膜厚t₀となるのに要する試料Sの加工量を算出するステップと、試料SにイオンビームIBを照射して上記加工量だけ試料Sを加工して、膜厚tを目標膜厚t₀に近づけるステップとを有する試料作製方法による。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡等を用いて化粧料の断面を観察する化粧料の断面観察方法に関し、所望する位置での断面観察を可能とした化粧料の断面観察方法を提供する。
【解決手段】サンプルホルダに化粧料を配設して試料を作成する試料作成工程Ｓ１と、この試料を凍結させる凍結工程Ｓ２と、凍結された試料を集束イオンビームにより加工し試料に切断面を形成する切断工程Ｓ３と、走査型電子顕微鏡を用いて切断面の切断面画像を生成する切断面画像処理工程Ｓ４とを有する。また凍結工程Ｓ２において凍結された試料を凍結環境を保ったままシールド処理し、凍結環境を保ったまま切断工程Ｓ３及び切断面画像処理工程Ｓ４を実施する。この際、支持台として、人工皮膚、樹脂テープ、又は皮膚のいずれかを用い、かつ、シールド処理では真空状態又は不活性ガスを充填したシールド部材に凍結された試料を配設する。 （もっと読む）

【課題】Ｓ／ＴＥＭ分析のためにサンプルを抽出および取り扱うための改善された方法および装置を提供すること。
【解決手段】本発明の好適な実施形態は、ラメラを基板表面を有する基板から抽出するための装置であって、１以上のステージ・コントローラに接続された基板用の可動ステージと、マイクロプローブと、可動ステージ上に設けられて基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダが基板を保持しているときに基板表面に対してある斜角で基板表面に光を当てるための斜照明と、基板を撮像する光学顕微鏡とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ加工装置で試料を加工するにあたって、ＦＩＢ加工装置の真空装置内でプローブ先端に付着した異物を、真空状態を維持したまま除去することが可能な試料作製方法を提供すること。
【解決手段】作業が失敗してプローブの先端部に試料片の一部または全部が異物として付着してしまった場合に、真空を保持したまま、試料片の一部をイオン液体（常温溶融塩）に接触させてから引き離すことによって、前記異物がプローブの先端部から除去されることを特徴とする試料作製方法。 （もっと読む）

【課題】基板から試料を抽出するための効率的な方法。
【解決手段】集束イオンビームのようなビームを使って複数回の重なり合う切り込みを入れて試料のまわりに溝を作り、次いで当該試料の下を切って切り離す。切り込みの側壁が垂直でないため、重なり合う切り込みは以前の切り込みによって形成された傾きのある側壁上に入射する。大きな入射角のため、切削スピードが大幅に向上し、複数回の重なり合う切り込みを行って広い溝を生成することに必要な時間は、試料の周に沿って単一の深い切り込みを入れるよりも短くできる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の真空室内にイオン液体を充填した液体浴と超音波振動手段を配置し、イオン液体と試料の加工対象領域が接触した状態において、イオン液体中に超音波振動を伝搬させて試料を加工する。
【効果】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工ができるため、スループットを向上させるとともに、大気の影響を防止する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ上に形成されたエピタキシャル層の層厚測定用試料を簡便に製造できる層厚測定用試料製造装置を提供する。
【解決手段】エピタキシャル層３が形成されたウエハ片１を、そのエピタキシャル層３の一部を残してエピタキシャル層３をエッチングして層厚測定用試料を製造し、エッチング後のウエハ片１上に段差として残ったエピタキシャル層３の層厚を測定するための層厚測定用試料製造装置１０において、ウエハ片１を挟み込む開閉自在の２枚の樹脂板１１，１２と、これら２枚の樹脂板１１，１２の一方に設けられ、ウエハ片１上に形成されたエピタキシャル層３の一部をエッチングから保護すべくエピタキシャル層３の一部と密着するエッチング防止ゴム１３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】曲りおよびカーテニングを低減させまたは防ぐような方式でＴＥＭ試料を作製する方法および装置を提供すること。
【解決手段】本発明の好ましい実施形態は、試料を作製するプロセスの最中に、ＴＥＭ試料の面に材料を付着させる。好ましいいくつかの実施形態では、反対側の面を薄くする前に、既に薄くした試料面に材料を付着させることができ、付着させた材料は、試料の構造的完全性を強化し、カーテニング現象のために薄くなりすぎたエリアを再び埋める役目を果たすことができる。好ましい実施形態では、ミリングしている面に材料を付着させることもでき、付着させた材料は、その試料面のカーテニングを低減または排除する役目を果たすことができる。 （もっと読む）

【課題】安価な手段により、加工中に装置を開けることなく、エッチング部の（厚み方向の）貫通が完了したか否かを判断することができる断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】試料台、前記試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、被加工物上に被加工物の表面を覆うように遮蔽板を固定する遮蔽板固定手段、遮蔽板に覆われていない被加工物の１断面にイオンビームを照射するイオンビーム照射手段、及び、試料台側に流れる電流をモニタリングする試料電流測定手段又は被加工物を照射せずイオンビーム照射面の反対側に漏れたイオンビーム量の測定手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを用いた断面観察試料の作製方法であって、きれいに鏡面研磨されたエッチング面（加工面）を、広い面積で形成できる方法、及びこの方法を行うための断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】被加工物の上部を遮蔽板で覆い、非遮蔽部をイオンビーム照射によりエッチングして鏡面研磨部を形成する断面観察試料の作製方法であって、前記被加工物を、イオンビーム照射方向に対して垂直な方向に、研磨速度以上の速度で移動させながら前記エッチングを行うことを特徴とする断面観察試料の作製方法、及び、試料台、試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、遮蔽板固定手段、及び、イオンビーム照射手段、並びに、前記試料台をイオンビーム照射方向に対して垂直な方向に移動させるための試料移動手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】 観察対象物を構成する各材料を視覚的に確認できる顕微観察方法を提供することを課題としている。
【解決手段】 光学顕微鏡によって観察対象物を観察するための顕微観察方法であって、複数種の構成材料を含む観察対象物の表面に少なくとも光を吸収又は散乱する薄膜を形成する薄膜形成工程を実施することにより観察用試料を作製し、さらに、該観察用試料を光学顕微鏡によって観察する観察工程を実施する顕微観察方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 透過電子顕微鏡等の観察に適した薄膜部分を広く形成した試料を作製する。
【解決手段】試料素材１１上に遮蔽ベルト８を配置し、遮蔽ベルト８の上方から遮蔽ベルト８と試料素材１１にイオンビームを照射し、試料素材１１にイオンミリングされないイオンビーム非照射面１１ｂと、イオンミリングされるイオンビーム照射面１１ｃ，１１ｄを作製するに際し、イオンビーム非照射面から下方に向かうに従って薄くなり、最終的に貫通孔Ｋが開いた試料が出来る様に、イオンビームの照射方向をそれぞれ設定して遮蔽材と試料素材に向けて異なる方向からイオンビームを照射する様すると共に、作製しようとする薄膜の面に直交する軸を中心として試料素材１１を傾斜させながらイオンビームを試料素材１１に照射する様にし、試料素材１１に貫通孔Ｋが開いたら試料素材１１へのイオンビーム照射を停止する様にした薄膜試料作製方法において、試料素材１１の傾斜において、少なくても１つの傾斜角で該試料素材を一時停止させる様にした。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームを利用する微細加工により、微細粒子の凝集体からなる膜の断面を、透過電子顕微鏡観察する目的の薄片化試料を作製する際、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止でき、また、薄片化された部位の大気暴露を防止可能な、薄片化試料の作製方法を提供する。
【解決手段】微細粒子の凝集体からなる膜から抽出した試料片に対し、その二つの断面に集束イオンビームを利用する微細加工を施し、薄片化を行う工程中、各断面に微細加工を施した後、微細加工端面を被覆する、均質な材料からなる薄膜をそれぞれ形成する。形成される均質な材料からなる薄膜は、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止し、また、微細加工端面の大気暴露を防止する、被覆膜として利用される。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ 線分析装置において高精度な分析結果を得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板を酸蒸気に暴露する工程と、酸蒸気に暴露された前記半導体基板の表面の不純物を酸溶液で走査回収する工程と、前記走査回収した酸溶液を前記半導体基板上で濃縮乾燥させ濃縮乾燥物に変える工程と、前記濃縮乾燥物を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第一の測定値を得る工程と、前記半導体基板を酸蒸気に暴露する工程の後に、前記半導体基板上で前記濃縮乾燥物の位置とは異なる位置を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第二の測定値を得る工程と、前記第二の測定値を用いて前記第一の測定値の精度の確認を行う工程とにより半導体基板の分析を行う方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子顕微鏡用針状試料の作製方法に関し、針状試料を簡単に作製することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡で観察するための針状試料を作製する方法であって、目的試料を載置用試料上に載置する工程と、前記目的試料を前記載置用試料上に固定する工程と、前記目的試料と前記載置用試料に集束イオンビームを照射して、前記目的試料と前記載置用試料からなる薄片試料を作製する工程と、前記薄片試料を溶液に入れて、前記載置用試料を溶解せしめて目的試料のみにする工程と、残った目的試料を溶液から取り出す工程とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射を受けて遮蔽板が高温度となって遮蔽板の支持部材に熱膨張が発生して遮蔽板が移動しても、良好な断面試料を作製する試料作製装置を提供する。
【解決手段】遮蔽板を試料の一部が露出しその他が遮蔽されるように配置し、遮蔽板と試料６の露出部分に跨るようにイオンビームを試料６に照射することにより、試料６の露出部分をエッチングして試料断面を作製する試料作製装置であって、遮蔽板ステージ９と、前記遮蔽板ステージ９により基端部を支持され、先端側が自由端となされた支持部材と、前記支持部材の先端側に支持された遮蔽板とを備え、前記支持部材は、前記遮蔽板の前記支持部材の基端側に向かう一側縁が前記イオンビームの照射位置となるように該遮蔽板を保持し、この遮蔽板により前記イオンビームが遮蔽される位置に設置された前記試料の該遮蔽板の一側縁から露出した箇所への前記イオンビームによる加工を行わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】冷却される処理プロセスを自動的に、かつ長時間操作することを可能にする冷媒装置を実現する。
【解決手段】サンプルを配置するためのサンプルステージ１０２を有し、冷媒が入っている冷媒容器を有し、及び少なくとも１つの、サンプルステージ１０２を当該冷媒に熱伝達可能に接続する熱伝導要素１０６ａ、１０６ｂを有するイオンビームエッチングプロセスにおけるサンプルのための冷却装置１０１であって、当該熱伝導要素１０６ａ、１０６ｂに熱伝達可能に接続される冷却フィンガ状部材１０５を有し、当該冷却フィンガ状部材１０５は、冷媒が通って流れることが出来、かつ当該冷媒容器に接続可能な導管を含む。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡を用いた鉄鋼材料の微細構造の観察に適した電子顕微鏡観察用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡による鉄鋼材料の観察に用いる電子顕微鏡観察用試料の作製方法であって、鉄鋼材料を電解研磨して得た電解研磨試料に、濃度０．１質量％以上０．５質量％以下の水酸化ナトリウム水溶液、或いは、濃度０．１質量％以上０．５質量％以下のアスコルビン酸またはアスコルビン酸塩の水溶液を用いて表面処理を施す表面処理工程と、表面処理工程を経た電解研磨試料を乾燥させる乾燥工程とを含むことを特徴とする、電子顕微鏡観察用試料の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】本願の目的は，イオンビームによる断面形成時間を短縮する加工方法，およびウェーハから微小試料を分離する加工時間を短縮する加工方法，およびイオンビーム加工装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によるイオンビーム加工装置は，真空容器４１を有しており，真空容器内には，デュオプラズマトロン５１，非軸対称イオンビームレンズ５２，ステンシルマスク５７，などから構成されており，断面に垂直方向に急峻なビームプロファイルを持つアルゴンイオンビームにより試料１１から微小試料１３９を摘出する。
【効果】本願によると，デバイス製造ウェーハ検査・不良解析のための断面観察結果が短時間で得られる。さらに試料を取り出したおよびウェーハをプロセスに戻しても不良を発生させない新たな検査・解析方法，および高歩留まりの電子部品製造方法が提供される。 （もっと読む）