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Fターム[2G052HC32]の内容

サンプリング、試料調製 (40,385) | 制御 (1,434) | 制御パラメータ (648) | 位置 (212)

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Fターム[2G052HC32]に分類される特許

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【課題】組織切片を位置および方向を容易にかつ正確に調節して基板に貼り付ける。
【解決手段】基板の平坦面上に親水性の液体からなる親水性液層を形成する工程SA1と、親水性液層に組織切片を浮遊させる工程SA2と、親水性液層に浮遊した組織切片を基板に対して移動させて位置決めする工程SA4と、親水性液層を除去して位置決めした組織切片を平坦面に密着させる工程SA5とを含む標本作成方法を提供する。本発明によれば、親水性液層に浮遊した組織切片は基板に対して移動可能であるので、組織切片を基板に貼り付ける前に組織切片の基板に対する位置合わせおよび方向合わせを容易に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 透過電子顕微鏡等の観察に適した薄膜部分を広く形成した試料を作製する。
【解決手段】試料素材11上に遮蔽ベルト8を配置し、遮蔽ベルト8の上方から遮蔽ベルト8と試料素材11にイオンビームを照射し、試料素材11にイオンミリングされないイオンビーム非照射面11bと、イオンミリングされるイオンビーム照射面11c,11dを作製するに際し、イオンビーム非照射面から下方に向かうに従って薄くなり、最終的に貫通孔Kが開いた試料が出来る様に、イオンビームの照射方向をそれぞれ設定して遮蔽材と試料素材に向けて異なる方向からイオンビームを照射する様すると共に、作製しようとする薄膜の面に直交する軸を中心として試料素材11を傾斜させながらイオンビームを試料素材11に照射する様にし、試料素材11に貫通孔Kが開いたら試料素材11へのイオンビーム照射を停止する様にした薄膜試料作製方法において、試料素材11の傾斜において、少なくても1つの傾斜角で該試料素材を一時停止させる様にした。 (もっと読む)


【課題】イオンビームを用いて試料を鏡面研磨する断面観察試料の作製方法であって、複数の試料について、分析に充分な研磨面積を得るために要する時間が短縮された方法を提供する。
【解決手段】被加工物の上部を遮蔽板で覆い、非遮蔽部をイオンビーム照射によりエッチングして鏡面研磨部を形成する断面観察試料の作製方法であって、前記被加工物が、2個の試料からなる対を1対以上含み、前記対を構成する2個の試料のイオンビーム照射される部分が、それぞれ、イオンビームの中心線を含む平面の両側に、前記平面に対向して配置されていることを特徴とする断面観察試料の作製方法。 (もっと読む)


本発明は、本発明の第一の側面において、生物学、組織学及び病理学のための方法であり、前記方法は:生物材料を含む対象物(10)の第一のスライス(12)の第一のデジタルイメージ(44)を準備し;前記対象物の第二のスライス(14)の第二のデジタルイメージ(46)を生成し;前記第一のイメージの関心領域(48)に基づき前記第二のスライスの関心領域を決定(50)し;前記第二のイメージの領域に基づき前記第二のスライスの関心領域(50)を決定し;前記第二のスライスの前記関心領域から材料を抽出する方法を提供する。
本発明は、本発明の他の側面において、生物学、組織学及び病理学のために使用する情報処理システムであり、前記情報処理システムは、既定の一組の処理識別子(64);生物材料を含む対象物(10)に関連する一組のデータ記録(68、70、72);前記データ記録のそれぞれが:前記対象物のスライス(12、14)を識別するスライス識別子及び前記一組の処理識別子から選択される処理識別子を含み、前記処理識別子が前記スライスが対象とされる処理を指示し;ユーザが前記一組のデータ記録からデータ記録を選択できるように、ユーザーインターフェース(52、56、58、60)を含む、情報処理システムを提供する。
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【課題】本発明の目的は、試料からの摘出試料の分離等を自動的に行うことに関する。
【解決手段】本発明は、試料における摘出試料となる領域や、それ以外の領域、若しくは、摘出試料を移送する移送手段や、摘出試料を保持できる試料ホルダに、画像認識の精度を向上させる指標を設け、摘出試料と試料の相対的移動等を高精度に画像認識することに関する。本発明によれば、集束イオンビームを用いた微小試料のサンプリングにおいて、摘出試料と試料との分離加工の終点検知等を自動的に実施できるようになる。このため、例えば、無人化した試料摘出が可能となり、大量の試料作製を行うことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】包埋ブロックが回転軸回りに回転されるときに、回転前後での包埋ブロックの切削面の面合わせを高精度に効率良く行い、且つ回転後における包埋ブロックの切削の作業効率を向上させること。
【解決手段】刃先2aを有するカッター2と、包埋ブロックを支持する支持体3と、包埋ブロックに対して刃先を走行面S2上で走行させる移動手段と、走行面に対して支持体を傾斜させる傾斜手段5と、走行面に対する支持体の傾斜角を調整する主制御部と、傾斜角を記憶する記憶部と、走行面と直交する回転軸回りの包埋ブロック回転時、回転前包埋ブロックに対する回転後包埋ブロックの回転軸回りの回転角を取得する回転角取得部と、前記回転時に回転前後の切削面B1が面一になるように前記傾斜角と前記回転角とに基づいて回転後傾斜角を演算する演算部とを備え、前記回転時に走行面に対する支持体の傾斜角を前記回転後傾斜角に主制御部が調整する切削装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】薄切片を所望の切片厚で高精度に切削すること。
【解決手段】この薄切片作製装置は、制御部が、包埋ブロックBを加湿手段6により予備加湿した後、移動手段により支持体とカッター3とを相対的に前進移動させ、包埋ブロックをカッターにより予備切削し、その後、包埋ブロックを加湿手段により本加湿すると共に、調整手段により支持体とカッターとを相対的に切片厚だけ前進移動させた後、移動手段により支持体とカッターとを相対的に、予備切削時と同じ速度で前進移動させ、包埋ブロックをカッターにより本切削して薄切片を作製し、制御部が、予備加湿後から予備切削を開始させるまでの時間と、本加湿後から本加湿を開始させるまでの時間と、を同じにすると共に、予備加湿及び本加湿のそれぞれを同じ加湿条件で行う。 (もっと読む)


【課題】駆動機構の搬送量誤差と原点センサーの位置検出誤差を個別に加味した制御動作を実行する搬送制御装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送制御装置は、往復移動体を駆動する駆動機構と、原点センサー5と、駆動機構2の駆動量を検出する駆動量検出手段と、往復移動体が静止状態から移動状態に移行した時点を光学的に検知する移動検知手段とを具え、原点センサー5が第1出力状態から第2出力状態となるまで往復移動体を一方向に移動させた後、原点センサー5が第2出力状態から第1出力状態となるまで往復移動体を逆方向に移動させ、原点センサー5が第2出力状態となった後に往復移動体が静止状態から移動状態へ移行するまでの第1の駆動量と、往復移動体が移動状態へ移行した後に原点センサーが第1出力状態となるまでの第2の駆動量とを取得する。 (もっと読む)


【課題】開閉体61の閉塞動作における人為的なミスを防止するだけでなく、測定処理において開閉体61に起因する緊急停止を防止する。
【解決手段】生体試料を分析するための測定機器MIを有し、前記生体試料を収容する検体容器Tを出し入れするための開口部C1が設けられた生体試料分析装置に用いられる誤作動防止機構であって、開口部C1を開放する開放位置Pと、開口部C1を閉塞する閉塞位置Rとの間を移動する開閉体61と、開閉体61が閉塞位置近傍Qにあることを検出する位置検出機構62と、位置検出機構62が閉塞位置近傍Qにあることを検出した場合に、開閉体61を閉塞位置近傍Qから閉塞位置Rまで移動させ、開閉体61を閉塞位置Rに磁力により保持する閉塞保持機構63と、を具備する。 (もっと読む)


手持ちサイズのマルチチャンネルピペットは、様々な中心線間隔のためのピペットチップを再配置するために、電子制御されたモータを有する。各々の再配置可能なチップフィッティングアセンブリは、モータによって駆動するローラドラム内のカム従動ピンによって駆動される。多数の吸引シリンダ用の固定ポートは、再配置可能なピペットチップフィッティングアセンブリに至る可撓性チューブの操作を容易にするために、戦略的に配される。ピペットは、ピペットチップを再配置するために、片手で便利良く操作可能なユーザインターフェースを有する。ピペットは正弦曲線のストリッパバーを備えるピペットチップ取り外し機構を有する。 (もっと読む)


【課題】使用者による位置確認動作の開始の指示によることなく分注部のピペットの位置確認を行うことができ、ピペットの破損や測定結果の信頼性低下を防止することができる検体分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の検体分析装置1は、ピペットPと、ピペットPを移動させるピペット移動機構160と、所定位置に配置された位置確認用部材210と、ピペット移動機構160により前記ピペットを位置確認用部材210に移動させ、ピペットPが所定位置に配置されたことを確認する位置確認処理を実行する位置確認実行手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビーム・システムにおけるビーム・ドリフトを補正する方法および装置を提供する。
【解決手段】ビームがサンプルを加工している間に、ビーム加工する改善された方法および装置がビーム・ドリフトを補正する。フィデューシャルを撮像し、ステージを移動させなくてもサンプルを加工できるように作動領域に十分近い位置にあるフィデューシャルを用いてビーム位置が整列される。加工中、ドリフトを予測するモデルを用いて、ビーム位置決めがドリフトに対して補正される。 (もっと読む)


【課題】分析作業の全自動化を図るべく、複数のるつぼを収容するるつぼ収容器から、搬送機構を用いてるつぼを取り出し、所定の加熱位置に搬送する構成を採用した場合に、低コストかつ簡単な構成で、確実にるつぼを取り出すことができるとともに、不測のエラーにも対応できる加熱型試料分析装置を提供する。
【解決手段】るつぼ収容器3において、取り出し順位が最初の順位に設定されている部位にるつぼ81が有るか無いかを検知する検知手段7を設け、その検知手段7で最初の順位のるつぼ81が有ると検知された場合には、搬送機構2がそれまでに記憶していたるつぼ81の順位をリセットするとともに、起動時又はエラー発生時には、搬送機構2を所定の待機状態に設定した後、検知手段7で最初の順位のるつぼ81が有ると検知した場合を必要条件として待機状態を解除するように構成した。 (もっと読む)


【課題】長期且つ任意の時間に、任意の場所において、ガスを自動的に採取することを可能とする装置を提供する。
【解決手段】吸気口1より吸気されたガスが、吸気用チューブ、ガス送気用チューブを通して針に送気されて、前記針が挿入されたバイアル瓶中にガスが充填される工程1と、
ガス注入装置40のニードル駆動用アクチュエーターの作動により、前記針がバイアル瓶中への挿入と抜出を反復する工程2と、
バイアル瓶固定・排出装置20のバイアル瓶固定用アクチュエーター、及びバイアル瓶排出用アクチュエーターの作動により、バイアル瓶のガス注入位置への固定、排出、及び次のバイアル瓶の固定を行う工程3とからなり、
工程1、工程2および工程3が制御部90の指示により連動することにより、ガスが連続してバイアル瓶へ充填され、且つ前記吸気口を除く各構成要素が筐体に収めら、可搬式であることを特徴とするガス自動採取装置である。 (もっと読む)


【課題】本発明は試料断面作製装置の遮蔽材保持機構に関し、試料に熱が伝わらないようにした試料断面作製装置の遮蔽材保持機構を提供することを目的としている。
【解決手段】イオンビームにより試料1をエッチングして試料観察面を作製するようにした試料作製装置に用いられる遮蔽材保持機構であって、試料表面にイオンビームが照射されることを遮蔽する遮蔽材を用いる遮蔽材保持機構において、試料1の上に載置され、試料1を直接遮蔽する遮蔽板3と、該遮蔽板3の上に該遮蔽板3を覆うように配置された遮蔽ブロック5と、を設けて構成される。 (もっと読む)


【課題】FIBによって液体浸透性材料、熱、イオン衝撃に弱い材料の表面近傍の正確な断面情報を得る時に保護膜形成時に構造変化を発生しない保護膜形成方法を提供する。
【解決手段】FIB装置による断面加工に用いる加工対象物表面に被覆する保護膜を、保護膜原料となるガス状物質を凝結固化させることにより形成する保護膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】試料全面からのものではなく、試料表面の特定部分からの吸着物,含有物の評価を容易にできるようにする。
【解決手段】図2(a)のような酸化膜付きシリコンウエハを用い、その表面に図2(b)のように例えばアセトンを滴下する。その際、アセトンが塗布されなかった箇所の裏面に、例えばAl膜パターンを図2(c)のように成膜し、このような試料を試料ホルダ(上部電極)にセットして真空排気を行ない、熱酸化膜とSiの浅い層が残るようSiのドライエッチングを施す。その後、この裏面エッチングを施した試料をサンプリング室へ搬送し、剛性のある針でつついて脱落させ、エッチング穴の直下に配置した石英の試料皿で“アセトンが付いていないであろう特定部”をキャッチし、この試料皿を分析室に搬入した後、脱離ガス分析を行なう。 (もっと読む)


【課題】異なる成分から成る試料を基板に静電噴霧して、塗布された基板から特定の成分を持つ試料のみを検出できる生物活性物質分析装置を提供する。
【解決手段】試料溶液を入れたノズルと、前記ノズルに対向する位置に配置され捕集電極と分析電極が形成された基板と、前記ノズルとアースとの間に第1の電圧を印加するための第1の電源と、前記分析電極とアースとの間に第2の電圧を印加するための第2の電源と、前記捕集電極とアースとの間に第3の電圧を印加するための第3の電源と、からなる生物活性物質分析装置。 (もっと読む)


【課題】 半導体デバイスの所望領域から集束イオンビーム装置で切り出した薄片の断面の、走査キャパシタンス顕微鏡ドーパントプロファイル測定もしくは電子線ホログラフィードーパントプロファイル測定を可能にする。
【解決手段】 アルゴンなどのガスクラスターイオンビーム1のスパッタで、集束イオンビーム装置で切り出した薄片6の表面の残留ガリウム層3の除去を行う。電子線ホログラフィーを用いてドーパントプロファイル測定を行う場合は、残留ガリウム層3除去後の薄片2を100〜200kVの電子線が透過する厚さまでガスクラスターイオンビーム1のスパッタで薄くする。走査キャパシタンス顕微鏡を用いてドーパントプロファイル測定を行う場合は、残留ガリウム層除去後の薄片2の表面を酸素ガスクラスターイオンビームで表面酸化を行う。 (もっと読む)


【課題】試料ステージを傾斜することなく、半導体ウェーハやデバイスなどの電子部品等の試料から所望の特定領域を含む微小試料を、分離または分離準備して、微小領域分析や観察、計測用の試料作製方法およびその試料作製装置を提供すること。
【解決手段】集束イオンビームを試料表面に対して大きくとも90度未満の照射角度で試料に照射し、目的とする微小試料周辺を取り除き、次に試料ステージを、試料表面に対する垂直線分を回転軸として回転させ、試料表面に対する集束イオンビームの照射角度は固定して試料に照射し、微小試料を分離または分離準備することを特徴とする試料作製方法。 (もっと読む)


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