【課題】 揮発性汚染物質を包含する飽和帯および不飽和帯を含む汚染地下領域に対し、揚水曝気処理による浄化方法において、低コストで浄化処理期間を短縮し、かつ周辺環境に対し安全である浄化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 揮発性汚染物質を包含する汚染土壌領域に対し、揚水井から地下水を揚水する揚水工程と、揚水工程で揚水された地下水を曝気槽においてオゾンガスで曝気しながら紫外線を照射させることにより揮発性汚染物質を分解する分解工程を備える汚染土壌及び地下水の浄化方法において、分解工程で処理された地下水を注入井から土壌に戻す注入工程を有すると共に注入井の空間部を吸引する吸引工程を有し、吸引工程によって注入井内の地下水からオゾン及び揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させ、不飽和帯から揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させて、注入井の空間部で揮発性汚染物質を分解することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】
本発明は、気液接触器ならびに排水洗浄のシステムおよび方法に関する。特に、等間隔に離間された複数の平坦な液体ジェットを生成するノズルアレイを有する個別供給ノズルバンクに関する。液体ジェットは、気体による乱れを最小限に抑えるような形状を持つ。本発明の実施形態は、液体流入口および液体流出口、ならびに、気体流入口および気体流出口を含む複数のモジュールを備える気液接触器に関する。ノズルアレイは、液体流入口および気体流入口と連通している。ノズルアレイは、液体の補充を高速に行いつつ、気体流による乱れを最小限に抑えると共に気体流と液体流との間の相互作用を最大限に高めるような形状を持つ複数の平坦な液体ジェットを等間隔に離間させて生成する。 （もっと読む）

本発明は、気液接触器、廃液清浄システム及びその方法に関し、特に、均等な間隔で配置される線形安定性の低いフラット液体ジェットを形成する複数ノズルのアレイに関する。本発明の実施形態は、気液接触器のノズル及び／又は安定ジェット形成のためのエンハンサーを使用した安定化ユニットを提供し、より具体的には、気液接触器のノズルから形成された液体ジェットの安定性を低減することに関する。本発明の別の側面は、例えば、液滴形成装置のような、液体ジェットの安定性を低減する条件下で装置を動作させることに関する。また、本発明の別の側面は、水性スラリーを使用して装置を動作させることに関する。また、本発明の別の側面は、少なくとも２つの流体を実質的に分離する装置に関する。 （もっと読む）

特徴は、ポートを通じるガスの流れを制御するよう動作可能な、流動液体を含むバルブを含む。特定の特徴は、ガスを反応させるよう動作可能なチャンバを含み、一部の特徴において、ガスは、流動液体から成る外皮内に実質的に閉じ込められる。特定の実施態様は、ポートを通じるガス流を制御する流動液体から成るバルブでチャンバ内へのガスの進入を制御する。相当な量の固形反応生成物を生むガスを反応させるよう動作可能な反応チャンバを含むシステムを含む、様々なガスアベートメントシステムが記載される。ガス流を制御するための方法が開示される。システム及び方法は、湿式スクラビングし、反応させ、選択的にガス流を更に湿式スクラビングするという順次的なステップを含む。
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【課題】運転開始時のアイドリング運転時間を短縮してエネルギーコストの削減を図ることができる排ガス処理装置及びその運転方法を提供する。
【解決手段】排ガスを加湿する散水手段１１と、加湿された排ガス中の不純物を反応室１３内でプラズマにより分解するプラズマ処理手段１４と、反応室１３を冷却するための冷却ジャケット２３と、冷却ジャケット２３に冷却水を導入する冷却水導入経路２５と、冷却ジャケット２３で温度上昇した温水を散水手段に１１供給する温水経路２８とを備え、排ガスの導入を開始する前に、冷却水導入経路から冷却ジャケットへの冷却水の導入を停止した状態で装置のアイドリング運転を行い、第１温度検出手段３０で検出した冷却ジャケット内の水温が設定温度に上昇したときに冷却ジャケットから散水手段への温水の供給を開始する。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造工程等から排出される排ガスに含まれるフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、フッ化硫黄等のフッ素化合物の分解処理において、フッ素化合物を分解処理剤により効率よく分解処理するとともに、フッ素化合物の分解処理剤が破過した際に、これを容易に検知することが可能な分解処理システムを提供する。
【解決手段】 分解処理剤の下流側に酸化アルミニウムを有効成分として含む処理剤、さらに該処理剤の下流側にフッ化水素の検知手段を配置し、該上流側の分解処理剤を破過したフッ素化合物が下流側に流出する場合に、該フッ素化合物が、水蒸気の存在下、該下流側の処理剤に含まれる酸化アルミニウムと接触することにより生成するフッ化水素を、該検知手段により検知して該分解処理剤の破過を検知する分解処理システムとする。 （もっと読む）

【課題】処理空間に存在する処理対象物にマイクロ波及び紫外線を同時に照射して当該処理対象物の処理を十分に行うとともに、紫外線照射手段の初期点灯が困難な場合において当該初期点灯を確実に行う。
【解決手段】内部に処理対象物を処理可能な処理空間１を形成する筐体２と、筐体２の天部２ａに設けられ、処理空間１に存在する処理対象物にマイクロ波ＭＷを照射可能な第１マイクロ波照射手段３と、処理空間１の主処理領域１ａと第１マイクロ波照射手段３との間に、処理空間１の主処理領域１ａと隣接し筐体２の対向する側面部２ｃを横断するように配置され、処理対象物に紫外線ＵＶを照射可能な紫外線照射手段４と、筐体２の外部に、紫外線照射手段４を初期点灯させる初期点灯スイッチ５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】排水処理を必要としない、安価で、ランニングコストの低廉な無排水化吸着塔を提供する。
【解決手段】本発明は、被処理ガス中の有機溶剤の吸着、吸着した有機溶剤の脱離を交互に連続して行う吸着材を備えた複数の吸着塔と、有機溶剤を含む被処理ガスを送風機により吸着塔に送る送風ラインと、キャリアガスを吸着塔に送風するとともに、有機溶剤を吸着材から脱離する脱離手段と、脱離後の有機溶剤を濃縮、分離回収する回収ラインとからなる吸着回収装置において、
有機溶剤と共に回収、分離された水相を前記送風ラインに気化するよう戻すリターン手段を設けたことを特徴とする無排水化吸着回収装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】
反応管内の温度に応じて含ハロゲン化合物を含む被処理ガスを可変定量して供給できるとともに、ガス化した含ハロゲン化合物が再液化することなく、安定して反応管内に供給することができる分解処理装置に対する被処理ガスの送出方法及び分解処理装置を提供する。
【解決手段】
分解処理装置１０は、反応管２０内の温度に応じて、反応管２０に対し液体の含ハロゲン化合物をガス化した被処理ガスを可変定量可能に送出するチュービングポンプ７８を備え、分圧設定装置９０がチュービングポンプ７８と反応管２０の間の管路８４に設けられている。 （もっと読む）

【課題】 電子機器や精密機器等を製造する工程において使用されるクリーンルーム等からの排気を取入れて分子状汚染物質と粒子状汚染物質を除去する清浄化を行って当該クリーンルーム等に長期に亘り連続して循環供給を可能とする方法を提供する。
【解決手段】 調温調湿されたクリーンルーム等のクリーン作業空間からの排気を処理空気として清浄化して、前記クリーン作業空間に循環供給するにあたり、処理空気を、調温調湿装置に通じ、屋内又は屋外から取入れた空気を再生空気として用いる回分式温度スイング吸着装置に通じるか、又は、当該処理空気を屋内又は屋外から取入れた空気を再生空気として用いる回分式温度スイング吸着装置に通じた後、調温調湿装置に通じるクリーンルーム排気の清浄化方法を提供する。
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【課題】ＰＦＣｓ，ＨＦＣｓ，ＨＣＦＣｓ及びＣＦＣｓなどのハロゲンを含む化合物を効率良くしかも比較的低温で分解でき、且つその分解生成物である有害物質も無害化でき、また除害装置と組み合わせることにより、長期間にわたり運転が可能で、ガス中のハロゲン化合物の濃度に関係無く連続的に処理できるハロゲン化ガス処理剤を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物及びアルカリ金属フッ化物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有し、窒素雰囲気下で焼成することによって調製した酸化カルシウムまたは酸化マグネシウムからなる、ハロゲン化ガス処理剤。 （もっと読む）

【課題】廃棄物中に水銀を含む場合であっても、水銀を効果的に除去することができ、且つ複数の焼却炉から得られた焼却灰の集約処理に適した水銀を含む焼却灰の水銀除去方法とその装置及び水銀を含む排ガスの処理装置を提供する。
【解決手段】水銀を含む焼却灰を１００℃以上に加熱して、水銀を乾燥排ガス中に揮散させる灰乾燥機１１と、前記揮散されたＨｇを含む排ガスを処理する第１の排ガス処理ラインと、Ｃｌ系の塩を含む灰を溶融する灰溶融炉１３の排ガスを処理する第２の排ガス処理ラインとを備え、前記第２の排ガス処理ラインでは二次燃焼後の排ガス中のＣｌ系の塩を含む固形粒子を捕集する第１のバグフィルタ１６と、消石灰と活性炭が投入されている第２のバグフィルタ１７とを直列に接続するとともに、前記Ｈｇを含む排ガスを処理する第１のガス処理ラインを第１のバグフィルタと第２のバグフィルタの間に合流させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置の排ガスに含まれる反応生成物により排気配管が閉塞することを防止することができる排ガス処理装置及びその排ガス処理方法を提供すること。
【解決手段】排ガス処理装置の処理室に半導体製造装置の排ガスを導入して、処理室内に設けられた排ガス凝固用配管２０を冷却することにより、排ガスに含まれている反応生成物を排ガス凝固用配管２０の表面で凝固させて付着させる。その後、排ガス凝固用配管２０を加熱して、排ガス凝固用配管２０を熱膨張させることにより、付着した反応生成物を排ガス凝固用配管２０の表面から剥離させる。 （もっと読む）

【課題】乾燥装置からの排気中に含まれる汚染粉塵除去用のフィルタ及び配管の閉塞防止のために、低コストでフィルタや配管の保温を行うことのできる汚染土無害化システムを提供すること。
【解決手段】汚染土に含有されている汚染物質を分解することにより、汚染土を無害化する汚染土無害化システム１であって、汚染土を乾燥させる乾燥機２１と、乾燥機２１にて乾燥された汚染土の汚染物質を、減圧還元加熱にて分解する減圧還元加熱装置２４と、乾燥機２１にて汚染土を乾燥させることにより乾燥機２１から排出される汚染粉塵等を含む蒸気ガスを無害化する蒸気ガス処理系統とを備え、乾燥機２１において汚染土を乾燥させるための加熱部２１ｃからの熱によって、蒸気ガス処理系統又は蒸気ガス処理系統に導入される蒸気ガスを加熱する。 （もっと読む）

【課題】吸着能力に優れた高品質な活性炭化物を有機性汚泥から製造し、該活性炭化物を利用して排気ガス中の有機化合物蒸気を吸着除去する。
【解決手段】有機性汚泥を炭化処理又は炭化・賦活処理して得られる炭化物を濃度０．１規定以上の酸で処理し炭化物に含まれる灰分を除去することで、有機化合物蒸気の吸着能力に優れた活性炭化物を製造し、該活性炭化物を充填した吸着塔に有機化合物蒸気を含む排気ガスを通気させることで排気ガス中の有機化合物蒸気を吸着除去する。
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排出物の流れに対して除害処理を施すよう構成された熱除害リアクタとこの熱除害リアクタからの排出物の流れを受け取るよう構成された排出装置等を含む、電子デバイス製造装置の排出物の除害システムが提供される。幾つかの他の実施形態が提供されている。
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【課題】マイクロ波の加熱によって筐体内で発生する排ガスに含まれる有機ハロゲン化合物等の有害物質を分解処理することができる有機ハロゲン化合物等の有害物質を含有する固体の処理装置を提供すること。
【解決手段】有機ハロゲン化合物等の有害物質を含有する固体を導入する筐体３０と、該筐体３０内に導入した有害物質を含有する固体にマイクロ波を照射するマイクロ波照射機構３１とを備えた有機ハロゲン化合物等の有害物質を含有する固体の処理装置１において、筐体３０内に紫外線照射機構２を配設する。 （もっと読む）

【課題】筐体内に滞留し内壁等で凝縮する水蒸気を排除することにより、残留する水分の蒸発に費やしていた多くのエネルギを節減し、熱効率を大幅に向上させることができるマイクロ波処理装置を提供すること。
【解決手段】マイクロ波照射により固体から発生する水蒸気を強制排気する吸引装置４を備えた排気管５を設けるとともに、排気中に含まれる水蒸気を濾過し、有害物質を吸着するフィルタ６、１１を設ける。 （もっと読む）

【課題】
半導体製造装置または液晶製造装置が設置されるクリーンルームを小型化できる。
【解決手段】
触媒層１７が設けられて過弗化物を含む排ガスが供給され、前記過弗化物を分解する過弗化物分解装置９と、前記過弗化物分解装置９から排出された前記排ガスに含まれた酸性物質がＣａ塩と反応して生成される第１反応生成物を除去する酸性物除去装置２２とを備えていることを特徴とする過弗化物処理装置。半導体製造装置または液晶製造装置が設置されるクリーンルーム２内にＰＦＣ分解装置９を設置するスペースを確保する必要がなくなり、クリーンルームを小型化できる。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系ガスを高効率かつ選択的に除害できるゼオライトからなる除害剤及びそれを用いたハロゲン系ガスの除害方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３モル比が２．０〜２．３のフォージャサイト型ゼオライト、カチオンとしてアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を少なくとも１種を含有するハロゲン系ガス除害剤を用いる。バインダー含有量が１０％以下の成形体が好ましく、特にバインダーレス剤であることが好ましい。カチオンはＮａ及び／又はＫからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）