【課題】各種基材との密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、及び耐候性に優れる親水性表面を付与することが可能な、組成傾斜構造を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられ、下記材料１）及び材料２）を含む膜とを有する親水性部材であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から最も遠い側に向かって材料１）の比率が大きくなり、かつ、材料２）の比率が小さくなるように、材料１）及び材料２）の組成が連続的に変化する組成傾斜膜である、親水性部材。
１）酸化チタンを含有する平均一次粒子径が５ｎｍ以上１μｍ以下の粒子、及びシロキサン化合物を含有する親水性材料
２）ウレタンオリゴマー又はポリマーを含有する樹脂材料 （もっと読む）

【課題】作業工程管理が容易で、安価な装置を使用したパターン形成方法を提供する。
【解決手段】紫外線硬化樹脂を含んだインクのみを用いて、紫外線照射炉にて硬化工程を一度に行うので、作業工程管理が容易で、加熱装置を必要とすることなく、安価な装置を使用したパターン形成方法が得られる。また、基板の表面に着弾した第１の液滴と大気との間に、表面自由エネルギーの低い液体材料の薄い層が移動し、隣接する第１の液滴同士の間に液体材料の層が介在するため、隣接する第１の液滴同士の結合が防止される。したがって、瘤状のバルジ等の発生が抑えられ、樹脂膜パターンの幅や膜厚が略均一になり、高密度で描画線幅の微細化が可能なパターン形成方法が得られる。 （もっと読む）

【課題】キラキラとした輝きを有する堆積物を製造する。
【解決手段】本発明は、堆積物製造方法であって、基板上に散乱粒子を供給する工程と、基板上に供給された散乱粒子の上で、金属イオンを含有する第１の液体と、金属イオンを還元させることができる還元剤を含有する第２の液体とを接触させることによって、散乱粒子の上に金属を析出させる工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】描画シートＷに設定された許可領域７３に、吐出ヘッド３３を前記ワークの搬送経路に対して交差するＸ方向に移動させながら、吐出ヘッド３３から液状体を吐出することによって、許可領域７３に前記液状体で描画を行う描画工程と、描画シートＷの余白領域７５に、吐出ヘッド３３から前記液状体を吐出することによって、余白領域７５に前記液状体で検査パターンを形成する検査パターン形成工程と、吐出ヘッド３３よりも前記搬送経路の下流側において、余白領域７５を含む描画シートＷの一部に重なる位置に設けられた撮像装置１２で、余白領域７５の前記検査パターンを撮像する撮像工程と、前記検査パターンを撮像した結果に基づいて、吐出ヘッド３３における前記液状体の吐出にかかる性能の合否を判定する判定工程と、を含む、ことを特徴とする描画方法。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】空気流を用いた非接触式の塗工方法を用いていながら、接着剤がシート状物の裏側に接着剤が染み出る、いわゆる裏抜けが生じることを防止することのできる接着剤の塗布方法を提供する。
【解決手段】接着剤の塗布方法は、空気流を用いた非接触式の塗布方法により、ホットメルト型の接着剤２を、回転する転写ローラー４の周面に、所定のパターン形状を描くように塗布した後、その接着剤を、転写ローラー４の周面から搬送中のシート状物６に転写する。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動方向の違いで塗布高さに生じる違いを吸収してガラスペーストの塗布高さの精度を確保できるペースト塗布方法およびペースト塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子が蒸着された基板８の蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａを移動させてガラスペーストを基板８の蒸着部Ａ１の周囲に塗布するペースト塗布方法であって、ノズル５５ａが移動するときのノズル高さを補正するノズル補正量を、蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａが移動するときの移動方向ごとに設定する準備工程と、ノズル高さを移動方向ごとにノズル補正量で補正し、ノズル５５ａを蒸着部Ａ１の周囲に沿って移動させてガラスペーストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とするペースト塗布方法とする。また、当該ペースト塗布方法によってガラスペーストを基板８に塗布するペースト塗布装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】
液処理モジュール２に載置されたウエハＷに対して処理液ノズル１１から処理液を供給して液処理を行うにあたって、処理液の供給量を安定させ、これによりウエハＷの間における塗布の均一性を図ること。
【解決手段】
ノズル１１がノズルバス１５に待機しているときに一定量だけサックバックバルブ５２によりサックバックを行ってノズル１１の先端部のレジスト液の液面を引き上げる。ノズル１１を液処理モジュール２の上方に移動させた後、ノズル１１を支持するアーム１３に設けられたカメラ１６により、当該ノズル１１の先端部を撮像し、画像データを取得する。この画像データに基づいて、液面レベルを検出し、その検出結果に応じて液面レベルが予め設定した基準レベルになるようにサックバックバルブ５２を制御する。このためレジスト吐出前の液面レベルが一定化し、処理液の吐出量が一定化する。 （もっと読む）

【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル１４からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル１４から吐出されたダム剤が基板１００の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル１４を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル１４からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】狭いスペース内でも効率がよく確実なコーキングを行うことができる経済性に優れたコーキング方法を提供する。
【解決手段】筒状のカートリッジ本体９３と、このカートリッジ本体９３の先端部に設けたノズル９７と、カートリッジ本体９３内に配置したスライド底部と、を有し、カートリッジ本体９３内にコーキング材を収容しているコーキングカートリッジ９１を用いてコーキング作業を行う。コーキング材が少なくなったら、スライド底部よりも後側のカートリッジ本体９３部分を切断する。切断したコーキングカートリッジ９１に対応する長さのカートリッジ装着部５を備えた小型のコーキングガン１に、切断したコーキングカートリッジ９１を装着してコーキング作業を行う。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】マニホールド空間となる窪部５５２およびこれに連通する複数の溝部５５３を有するハウジング本体５５ａと、例えばシリコーンゴム製の弾性部材５５ｂと、一部の溝部５５３に対応する位置に貫通孔５５５が設けられたカバー部材５５ｃとを重ね合わせて吐出ノズル５５が構成される。貫通孔５５５に臨む弾性部材５５ｂを押圧して弾性変形させ、溝部５５３と弾性部材５５ｂとで囲まれた塗布液流路の断面積を変化させることで、塗布液の吐出・停止を制御する。 （もっと読む）

【課題】シーラー塗布作業の作業性を事前に検証する事前検証方法及びシステムにおいて、短時間且つ高い精度で事前検証を行う。
【解決手段】複数の板状部材を重ねて接合した所定形状のワークの当該重ね部にシーラーを塗布するシーラー塗布作業の作業性を、少なくとも演算部、操作部及び表示部を備えるコンピュータを用いて、実際のシーラー塗布作業に先立ち予め検証する、シーラー塗布作業の事前検証方法である。演算部が、板状部材間の板間隙及びシール棚寸法を算出する算出工程Ｓ６と、算出された板間隙及びシール棚寸法が合格か不合格かを判定する判定工程Ｓ６と、シーラーが塗布された状態を作成する塗布状態作成工程Ｓ８と、不合格と判定された領域を、色識別可能に着色して表示するとともに、作業上の注意事項を表示する検証結果表示工程Ｓ９と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート基板に対して優れた密着性を示す金属膜を作製することができると共に、インク組成物の吐出を止めて一定の時間放置し、その後吐出を再開した場合でも優れた吐出安定性を示す、生産性に優れた金属膜を有する積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】所定の種類のモノマーと重合開始剤とを少なくとも含有するインク組成物を、インクジェット法によりポリカーボネート基板１０上に吐出するインク吐出工程と、ポリカーボネート基板上に吐出されたインク組成物１２を露光処理または加熱処理により硬化して、硬化膜１４を形成する硬化膜形成工程と、硬化膜にめっき触媒またはその前駆体を付与する触媒付与工程と、めっき触媒またはその前駆体が付与された硬化膜に対してめっき処理を行い、硬化膜上に金属膜１６を形成するめっき工程とを備える、金属膜を備える積層体１８の製造方法。 （もっと読む）

【課題】接着剤の流動防止のための線幅を細く維持しつつ、均一で高い貼り合わせ厚を確保できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。
【解決手段】貼り合わせ対象となるワークＳ１に対して接着剤Ｒ１を供給することにより、充填材である接着剤を供給する領域を規定するための土手部を生成する土手生成部と、ワークＳ１に対して、接着剤Ｒ１の流動を抑制する線状の抑制部Ｃを生成する抑制部生成部１０とを有する。抑制部生成部１０は、ＵＶインクＩを塗布する塗布部１０ａと、ＵＶインクＩを硬化させる硬化処理部１０ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】 外径の変化するローラに対してリング塗工を行うと、塗布が不均一になることがある。
【解決手段】 鉛直方向に支持されかつ軸方向で外径が変化する軸体と、軸体の外周面を全周に亘って取り囲みかつ軸体の中心軸から所定の距離に配置されたリング塗布ヘッドとを、軸方向に相対的に移動させながら、リング塗布ヘッドの吐出口２８から塗布液を吐出して、軸体の外周面に塗膜を形成する塗布装置を用いるローラ部材の製造方法である。リング塗布ヘッドは、内径を変化させることが可能な内径可変部材２３を吐出口２８の下方に有する。内径可変部材２３の内径Ｄ_１の変化量が、軸方向で変化する軸体の外径Ｄ_０の変化量と略等しくなるように、内径可変部材２３の内径Ｄ_１を変化させる。このように変化させることによって、軸体とリング塗布ヘッドとを軸方向に相対的に移動させている間も、内径可変部材２３の内径Ｄ_１と軸体の外径Ｄ_０との差を略一定に維持する。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】基板に対する走査移動方向に直交する方向（Ｙ方向）に沿って、塗布液を吐出する吐出ノズル５２３を列状に並べた第１ノズル体５２と、ボールねじ機構７４０によりＹ方向位置を変更可能な１対の吐出ノズル７２３を有する第２ノズル体７２とを有する。第１ノズル体５２からの塗布液の吐出により互いに平行で同一長さの複数のパターンを形成する一方、これとは長さの異なるパターンについては、第１ノズル体５２とは独立したタイミングで塗布制御される第２ノズル体７２により行う。 （もっと読む）

【課題】液体が液垂れすることによる不良品の発生を抑制する。
【解決手段】芯体１２への塗布が終了した後、遮断部材６２を芯体１２の塗布開始端側に向かって遮蔽位置へ移動させる。これにより、吐出部５６Ｃのノズル５６Ｅと芯体１２との間が遮蔽された状態とする。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板へ高精細なパターンでシール材を高精度に塗布できるようにする。
【解決手段】ペースト塗布ヘッドでは、大容量の親ペースト収納筒２３と小容量の子ペースト収納筒２４とが設けられており、この親ペースト収納筒２３には、多量のペーストが収納されている。子ペースト収納筒２４では、ガラス基板へのペーストパターンの描画時、そこに収納されているペーストがノズル２２から吐出される。子ペースト収納筒２４内でのペーストの収納量が少なくなると、仕切り弁３０が開放されて親ペースト収納筒２３と子ペースト収納筒２４とがペースト終点流路２７を介して連通し、親ペースト収納筒２３内のペーストが子ペースト収納筒２４に補充される。 （もっと読む）

【課題】１つのシリンジで塗布する場合には、塗布面積が大きい場合には時間がかかる。また、複数のシリンジで塗布する場合には、それぞれのシリンジの違い（圧力さ、ペースト量、等）により、流動性材料を同一の塗布量にすることが難しく、塗布むらや断線が発生し易い。本発明の目的は、上記のような問題に鑑み、複数のシリンジで塗布作業を短時間とし、かつ、塗布形状が安定した半導体製造方法を提供する
【解決手段】Ｘ軸およびＹ軸方向に任意の距離を相対的に水平移動する基板に流動性材料で所定のパターンを描画塗布して形成するペースト塗布方法であって、複数のシリンジそれぞれが異なるサブパターンを描画塗布して１つのパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】紫外線硬化インクを使用するインクジェット印刷装置において、基板に直線を描画する方法を提供する。
【解決手段】インクジェット印刷装置によるインク吐出工程（工程１）、工程１に連続したインライン紫外線照射装置による紫外線照射工程（工程２）を少なくとも含む工程からなり、使用する基板に対するジエチレングリコールブチルエーテルアセテートの接触角（θ）が、5°＜ θ ＜ 20°であること、工程１において、0.6D ＜ P ＜ 0.9Dの関係が成り立つこと、工程１と工程２の間の遅れ時間（S）は、0.01秒 ＜ S ＜ 1秒であること、及び、工程２における露光量（UV）が、1mJ/cm² ＜ UV ＜ 250mJ/cm²であることの四条件を全て満たすことを特徴とするインクジェット印刷装置による直線描画方法である。
（ここで、Dは基板上に着弾したインクの着弾径（μm）を表し、Pは基板上でのインクの着弾ピッチ（μm）を表す。） （もっと読む）