【課題】 窒化珪素と同等の熱膨張係数を有し、緻密質で最大ボイド径が小さく、窒化珪素よりも加工性が高められたサイアロン焼結体を用いた半導体製造装置用部剤材を提供する。
【解決手段】 半導体製造装置用部材はβ−サイアロン焼結体からなり、その相対密度は９０％以上であり、最大ボイド径が３０μｍ以下であり、ヤング率が２５０ＧＰａ以上であって、室温における熱膨張係数が１．４×１０^-６／℃±０．３０×１０^-６／℃を有し、所定の機械加工速度が所定の緻密な窒化珪素焼結体の１．５倍以上である。このβ−サイアロン焼結体は、比表面積が１４ｍ^２／ｇ以上の窒化珪素粉末に化学式Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−ＺにおけるＺ値が２以上３以下となるように酸化アルミニウム粉末を添加混合し、得られた混合粉末を所定の圧力で成形し、１６００〜１８００℃で焼成することにより作製される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ耐食部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウムを主体とし、１Ｇ（１０^９）Ｈｚ以上において誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下であることを特徴とするプラズマ耐食材料、及び窒化アルミニウムを主体とし、酸化イットリウムと酸化マグネシウム又は窒化マグネシウムとを微量添加して焼結することにより、マイクロ波焼結や高ガス圧力焼結といった特別な焼結装置を用いることなく、また焼結後の再加熱や広い温度範囲において毎分０．７℃といった極端に遅い冷却速度で長時間に渡り徐冷をすることなく、フッ化物系反応ガスを含む１ＧＨｚ以上の高周波プラズマに曝されるプラズマ耐食部材の誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下の誘電損失特性の優れたプラズマ耐食部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウムの特性を維持しつつ、その耐食性を向上させる。
【解決手段】窒化アルミニウム質セラミックス１０は、窒化アルミニウム粒子と粒界相とを備える。更に、窒化アルミニウム質セラミックス１０は、その表層に内部１１よりも粒界相を多く含む粒界相豊富層１２を備える。そして、その粒界相豊富層１２における粒界相は希土類元素又はアルカリ土類元素の少なくとも１つを含有する。 （もっと読む）

残存する量の遊離炭素及びグラファイトを除去するために炭化ケイ素物を熱処理するための方法を提供する。この方法は、炭化ケイ素物を供給すること及び所定の時間、所定の温度範囲内で炭化ケイ素物を加熱することを含む。加熱は、酸化試薬の存在下で行われる。結果として、一酸化炭素及び二酸化炭素などの気体の生産物が、残存する遊離炭素及びグラファイトを除去するために遊離炭素及びグラファイトを酸化することによって形成された副生産物を含むものとして遊離される。気体は、炭化ケイ素物の加熱の結果として生産される。粒子は、炭化ケイ素物上に酸化被膜を形成させることなく炭化ケイ素物から除去される。結果として、炭化ケイ素物は、実質的に炭素及びグラファイトの封入体がない状態になる。 （もっと読む）

本発明は、溶融金属に対する耐食性が改善されたセラミックス焼結体、その製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び長寿命化を達成できる金属蒸着用発熱体を提供することを課題とする。本発明は、窒化硼素、二硼化チタン、カルシウム化合物及び窒化チタンを含有してなる相対密度が９２％以上のセラミックス焼結体であり、カルシウム化合物がＣａＯ換算として０．０５〜０．８質量％、窒化チタンに由来する（２００）面のＸ線回折によるピーク強度が、ＢＮの（００２）面のピーク強度に対して０．０６〜０．１５であることを特徴とするセラミックス焼結体に関する。また、該セラミックス焼結体の製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び該セラミックス焼結体で構成された金属蒸着用発熱体も開示する。 （もっと読む）