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Fターム[4G030GA22]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 成形方法 (1,504) | 乾式成形 (553)

Fターム[4G030GA22]に分類される特許

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【課題】スパッタリングターゲットに用いた場合に異常放電の発生を抑制し、生産効率の優れた比抵抗の小さな透明電極を得ることが出来る程度に緻密な酸化亜鉛系焼結体を提供する。
【解決手段】実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、相対密度が95%以上で、かつ結晶相が酸化亜鉛相、導電性複合酸化物相および低原子価化チタン相からなる酸化亜鉛系焼結体であり、酸化チタン粉と酸化亜鉛粉または水酸化亜鉛粉との混合粉、および/またはチタン酸亜鉛化合物粉を含む原料粉末を成形し、次いで還元雰囲気または不活性雰囲気中600〜1500℃の温度で焼結を行うことによって得られる。 (もっと読む)


【課題】安定放電可能な酸化物焼結体ターゲット、および低抵抗かつ可視光域から近赤外域の広範囲で高い透過率を有する透明導電膜を提供する。
【解決手段】亜鉛、元素L(Lはアルミニウムおよび/またはガリウム)、スカンジウム並びに酸素から成る複合酸化物焼結体であって、原子比が、
L/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.001〜0.100
スカンジウム/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.001〜0.100
である酸化物焼結体から成るスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により成膜し、原子比が
L/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.002〜0.100
スカンジウム/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.002〜0.100
である透明導電膜を得て、それを受光素子に使用する。 (もっと読む)


【課題】高い生産効率でサファイア単結晶を製造することができるサファイア単結晶製造用αアルミナ焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】相対密度が60%以上であり、閉気孔率が10%以下であり、純度が99.99質量%以上であり、Si、Na、Ca、Fe、CuおよびMgの含有量がそれぞれ10ppm以下であり、体積が1cm3以上であるサファイア単結晶製造用αアルミナ焼結体の製造方法であって、αアルミナ100重量部とαアルミナ前駆物質1重量部以上20重量部以下を混合して混合物を得、得られた混合物を成形し、焼成して得られる。 (もっと読む)


【課題】より嵩密度の高いセラミックス成形体を製造することができるセラミックス成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス粉末及び熱硬化性樹脂系のバインダ、又はさらに炭素粉末を混合して得られる混合物(試料21)を、成形型22に充填し、熱プレス機23によりバインダの硬化開始温度以上まで昇温させながら加圧成形することによりセラミックス成形体(プリフォーム25)を製造するに際し、混合物の昇温過程で、混合物の温度を一旦、全体的にバインダの融点以上かつ硬化開始温度未満の温度とし、その後バインダの硬化開始温度以上まで昇温させながら加圧成形する。 (もっと読む)


【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を越え0.1以下であり、酸化亜鉛を主成分とし、ガリウムおよびアルミニウムのうち少なくとも一方の酸化物と、酸化チタンとを含み、ガリウムまたはアルミニウムの原子数の割合が全金属原子数に対して0.5%以上6%以下であり、かつ前記酸化チタンが、式TiO2-X(X=0.1〜1)で表される低原子価酸化チタンである酸化物混合体または酸化物焼結体からなることを特徴とする酸化亜鉛系透明導電膜形成材料。 (もっと読む)


【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性、耐熱性等の化学的耐久性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成材料は、酸化亜鉛を主成分とし、フッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムのうち少なくとも一方を含み、さらにチタンを含む酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であり、全金属原子数に対するチタンの原子数の割合が2%超10%以下であり、全金属原子数に対するフッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムの一方または両方の金属原子数の割合が0.1%以上5%以下であり、かつチタン源として、一般式:TiO2-X(X=0.1〜1)で表される低原子価酸化チタンを用いた酸化物焼結体である。 (もっと読む)


【課題】高い圧縮強度を有する断熱材を提供すること。
【解決手段】シリカを含む第一の無機化合物からなり、平均粒子径Dsが5nm以上50nm未満である複数の小粒子と、アルカリ金属元素及びアルカリ土類金属元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素と、を含み、圧縮率0〜5%における最大荷重が0.7MPa以上である、断熱材。 (もっと読む)


【課題】低抵抗で、可視光領域、赤外領域の透過性に優れ、耐久性に優れた酸化物透明導電膜を成膜するための、スパッタリング中の異常放電現象を低減できる酸化物焼結体及び光電変換効率の高い太陽電池を提供する。
【解決手段】主としてIn、Sn、Sr及びOから構成される酸化物焼結体で、実質的にビックスバイト型酸化物相及びペロブスカイト型酸化物相から構成されるか、又は実質的にビックスバイト型酸化物相のみから構成され、Sn及びSrの含有量が原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である焼結体を製造し、それを用いてターゲットを作製し、スパッタリングにより酸化物透明導電膜を得る。またその膜を用いて、基板上に酸化物透明導電膜および光電変換層を積層した太陽電池を得る。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの製造時およびスパッタリング時に割れを生じることのない高強度な酸化亜鉛焼結体および高抵抗な酸化亜鉛薄膜を提供する。
【解決手段】ジルコニウムを10〜1000ppm含有し、抵抗率が10Ω・cm以下である円筒形状の酸化亜鉛焼結体から成るスパッタリングターゲットを作製する。
またジルコニウムを10〜2000ppm含有し、抵抗率が10Ω・cm以上であり、膜厚100nmのとき、波長500nmの透過率が75%以上の酸化亜鉛薄膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がSiO粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ジルコニア−イットリア転動体の転がり疲れ寿命を改善することを目的としている。
【解決手段】転動体は、ジルコニア(ZrO)―アルミナ(Al)を主成分とする酸化物系セラミック製のものであり、該転動体の中に、アルミナの結晶粒径が安定化ジルコニア粒子の結晶粒径の1/5以上、且つアルミナ−安定化ジルコニアの混合平均粒径の3倍以下であり、且つアルミナの平均粒径は3μm以下である転がり支持装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 従来、専ら管理型埋立て処分対象とされてきたボトムアッシュ(クリンカアッシュ)を出発原料の一部として、有害重金属類溶出の危険性のない、透水・保水性材料、濾過材料、微生物を担持する水浄化材料、吸音材料、保湿材料、耐火断熱材料、植栽用材料等として用いられるセラミック多孔質体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 重量で、フライアッシュ:10%〜60%、廃ガラス:15%〜50%、ボトムアッシュ(クリンカアッシュ):10%〜70%の配合比率の原料を粒粉体とし、該原料を混合して空気遮断状態下に、600℃〜1100℃の温度域で10分間〜120分間の焼成を行った後、空気遮断状態下に冷却する。 (もっと読む)


【課題】
電気・電子用途の放熱用部材に要求される性能である熱伝導性と放熱性並びに価格のバランスに優れた高熱伝導性セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】
高熱伝導性セラミックス焼結体は、酸化マグネシウム94〜99.9重量%、二酸化ケイ素0.3〜5重量%を含み、酸化マグネシウム及び二酸化ケイ素の合計量が96重量%以上であり、気孔率が1%以下である高熱伝導性セラミックス焼結体である。二酸化ケイ素は焼結助剤として酸化マグネシウムに添加される。 (もっと読む)


【課題】高結晶性のITO薄膜を成膜できる、低い酸化スズ含有量のITO焼結体からなり、かつ、長時間にわたり安定した成膜を可能とする、高密度のITOスパッタリングターゲットを得る。
【解決手段】原料粉末として、比表面積値が3〜15m2/g、平均粒径が0.1〜0.5μmである酸化インジウム粉末と、比表面積値が10〜15m2/g、平均粒径が0.1〜1.5μmである酸化スズ粉末とを用い、酸化スズの含有量を2.5〜5.2質量%に調整し、混合および粉砕し、196MPa以上の圧力で加圧成形し、常圧の酸素雰囲気中で、1000℃以上の領域における昇温速度を1.0℃/分以上5.0℃/分以下、保持温度を1500℃以上1600℃以下、保持時間を20時間以上30時間以下として焼成して、得られるITOスパッタリングターゲットの平均密度を7.1g/cm3以上、平均結晶粒径を3μm以上10μm未満とする。 (もっと読む)


【課題】本発明では、比較的大きな部材にも適用することが可能な、導電性マイエナイト化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】導電性マイエナイト化合物の製造方法であって、(1)カルシウム(Ca)とアルミニウム(Al)の割合が、CaO:Alに換算したモル比で、12.6:6.4〜11.7:7.3となるように調合した原料粉末を用いて、マイエナイト化合物粉末を調製する工程と、(2)前記マイエナイト化合物粉末を、300℃以上1200℃未満の温度に保持し、焼結体を得る工程と、(3)前記焼結体を、還元性雰囲気下で1200℃〜1415℃の範囲の温度に保持する工程と、を含むことを特徴とする製造方法。 (もっと読む)


【課題】高密度でバルク均一性が高く、製造時のみならずスパッタリング時にも、クラック、割れ、変形などが発生しない、円筒形スパッタリングターゲット用酸化物焼結体を得る。
【解決手段】2枚のメッシュ状の敷板(2)を隙間(9)を介して配置し、その上に、中空部分(8)の下方を隙間(9)が通過するように、成形体(1)を載置し、配管(3-1)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の下部付近となるように、配管(3-3)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の上部付近となるように、配管(3-2)を、敷板(2)の隙間(9)を介して成形体(1)の中空部分(8)に雰囲気ガスが流れるように、それぞれ配管の長さを調整して、雰囲気ガスを炉内に流通させて焼成を行う。得られる酸化物焼結体のバルクの各点での、密度の相対標準偏差は1%以下、比抵抗値の相対標準偏差は10%以下、平均結晶粒径の相対標準偏差は5%以下、密度は理論密度の90%以上である。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットに用いた場合に異常放電を発生せず、比抵抗の小さな透明電極を得ることが出来る程度に緻密な酸化亜鉛系焼結体を得る。
【解決手段】低原子価チタンを2モル%超、10モル%以下含有する酸化亜鉛焼結体であって、相対密度95%以上で、かつ複合酸化物の含有割合が10%以下である。この酸化亜鉛焼結体は、酸化亜鉛粉末と、亜鉛と低原子価チタンの複合酸化物粉末とを、低原子価チタンが2モル%超、10モル%以下含有するように混合した後、成形し、次いで800〜1500℃の温度で焼結を行うことによって得られる。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がSiO2粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】焼成により生じる表面変質層が極力少ないIGZO焼結体を提供する。
【解決手段】酸化インジウム粉末、酸化ガリウム粉末、及び酸化亜鉛粉末を含む混合粉体を成形し、得られた成形体を焼成することによりIGZO焼結体を製造するに際し、成形体の焼成は、成形体を、所定の開口部以外の部分は密閉された容器内に配置して行うようにする。さらには、該容器内に、酸化亜鉛粉末を敷いて焼成を行うようにする。これにより、焼成時において表面に生じるInGaZnを含む表面変質層の厚さが1mm以下となる。 (もっと読む)


【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、モリブデンおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、モリブデンが原子数比でMo/(Zn+Mo)=0.02以上0.1以下となるよう含有されている。 (もっと読む)


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