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Fターム[5F031PA26]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | 汚染防止 (1,146) | 部材からの汚染物質の溶出・発生の防止 (483)

Fターム[5F031PA26]に分類される特許

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【課題】優れた振動防止および保護効果を有し、パーティクルの発生を減少させること。
【解決手段】トップカバーとボトムカバーとを含み、ボトムカバーの収納空間の中に緩衝位置決め装置を配置したレチクルポッドのキャリアケースであって、緩衝位置決め装置は、キャリア構造部品と、複数の弾性部品とを含む。キャリア構造部品は、底部と、底部に接続し縦方向に湾曲し延伸した複数の翼部により構成される。複数の弾性部品は、底部に接続しもう1つの向かい合う縦方向に湾曲し、湾曲部を有する複数の弾性部品を形成する。弾性部品の複数の湾曲部は同一平面上に形成する。 (もっと読む)


【課題】ウェーハとサセプタとの間のスティッキングの発生を防止しつつ、ウェーハ載置部の外周部に設けられた当接部とウェーハとが当接した際に、ウェーハのテーパー加工の違いによらずウェーハ載置部の内周面とウェーハ外周縁との距離が一定となるようなサセプタを提供すること。
【解決手段】半導体ウェーハ8を載置する円形凹状のウェーハ載置部7を上面に有し、ウェーハ載置部7に載置された半導体ウェーハ8の外周部に対して、実質的に点接触又はウェーハ載置部7の深さ方向に延びる線に沿って線接触した状態で当接可能に形成された当接部9が、ウェーハ載置部7の外周部に沿って少なくとも3箇所設けられており、ウェーハ載置部7を平面視した場合に、ウェーハ載置部7の任意の直径で分けられる2つの領域のそれぞれに当接部9が少なくとも1つ含まれ、当接部9の高さが半導体ウェーハ8の厚さの1/2〜1倍であるサセプタを使用する。 (もっと読む)


【課題】大型のTFT基板などを高度のクリーン度を維持した状態で、安価に熱処理できる基板熱処理用セッター及びこれを用いたTFT基板の熱処理方法を提供する。
【解決手段】平板状の本体の周囲を額縁状のシール枠3とし、その内側部分を上面に機能膜が形成されたガラス基板10の収納部としたセッター本体1と、その上面に載せられてシール枠3と密着する平板状のセッター蓋体2とからなる基板熱処理用セッターである。このセッターを用いれば、既存のPDP焼成炉を用いても、クリーンな状態での熱処理が可能である。セッター蓋体2をその上面または下面の撓み防止用のビームにより補強することができる。 (もっと読む)


【課題】容器本体及び蓋体に対する芯出し手段の取り付け作業を削減するとともに、洗浄水などの液体を芯出し手段に残留し難くする。
【解決手段】開口部3を有して精密基板Wを収納する容器本体2と、この開口部3に嵌め合わされる嵌合ケース21を有して開口部3を閉鎖する蓋体4と、容器本体2と蓋体4との芯出しを行う芯出し手段とを有する。この芯出し手段は、開口部3の各コーナー部において、開口部3から露出するように開口部3と一体的に形成される複数の接触部材12と、嵌合ケース21の各接触部材12に対応する位置に形成される複数の突起部25とにより構成される。そして、突起部25と接触部材12とは、異なる材質により形成されている。 (もっと読む)


【課題】ウェーハへの歪の発生と塵埃の付着を抑え、吸着力をウェーハに対し均等に展開でき、ウェーハを滑らない状態で安定して保持することができるウェーハチャック及びそれを用いたアライメント装置を提供する。
【解決手段】チャック本体と、そのチャック本体上面に設けられウェーハを支持する支持凸部と、チャック本体に形成された真空引き用の貫通孔とを備え、チャック本体と前記ウェーハと支持凸部とで形成される室を真空にすることによりウェーハを真空吸着して保持するウェーハチャックにおいて、支持凸部は、複数の円環状に形成され、かつその断面が半円断面形状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】パーティクル発生やパーティクルの飛散を抑制するとともに、真空引きに要する排気時間を短時間化する。
【解決手段】基体と、前記基体の一主面上に設けられた突起部と、を有する試料保持具であって、前記突起部は、前記一主面と略平行な突出端面を有し、前記突出端面から前記一主面に連なる側面が、前記突出端面の周縁に連ねる凸曲面部と、前記凸曲面部から前記一主面にかけて連なる凹曲面部と、を備え、前記頂面から、前記凸曲面部と前記凹曲面部との境界を通り前記一主面と平行な平面まで距離に対し、前記平行な平面から前記一主面までの距離が、より大きくされていることを特徴とする試料保持具を提供する。 (もっと読む)


【課題】コーティング斑の発生を防止すると共に、保持台と基板の帯電を抑制する基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Gを略水平に保持するスピンチャック50と、スピンチャックに基板を吸着保持させる吸着手段と、スピンチャック50に保持された基板を収容する下カップ60と、下カップを閉塞する蓋体61と、を具備してなり、スピンチャックを、導電性樹脂材料にて形成すると共に、該導電性樹脂材料の表面抵抗率を、1×10〜1×1012(Ω/sq.)にする。下カップは、カップ本体85と、このカップ本体の底面に止着され、基板の下方及び側方を包囲する導電性樹脂製のプレート87と、カップ本体の底面にねじ部材89によって止着される導電性樹脂製のカバー88により形成される。 (もっと読む)


【課題】軽量化を図ることができながら塵埃の発生を抑制することができる基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板収納用の収納体51に、基板を出し入れ自在に載置支持する複数の基板支持部52を上下方向に並設し、基板支持部52を、基板出し入れ方向と直交又は略直交する収納体横幅方向に沿う軸芯周りに回転可能な複数の支持用回転軸53を、基板出し入れ方向に並設して構成し、基板出し入れ方向に沿って伸びる状態で配置された連動用回転軸54を、その長手方向に沿う軸芯周りの回転によって基板支持部52における複数の支持用回転軸53の夫々を回転させるように、それら複数の支持用回転軸53の夫々と連動連結し、連動用回転軸54における基板出し入れ方向の端部に、磁気式の従動回転体65を設ける。 (もっと読む)


【課題】真空ポンプを使用することなく、メンテナンス作業の作業効率を高めてコストダウンを図ると共に省スペース化を実現し、これにより優れた経済性・スペース性を獲得できる半導体素子製造装置を提供する。
【解決手段】吸着保持ユニット6には、圧縮エアを流すことで負圧つまり真空を発生させて半導体素子Sを吸着するエジェクタ8が組み込まれており、エジェクタ8の正圧側にはエジェクタ8のオンオフを行う電磁弁9が設置されている。また、エジェクタ8の排気側には集塵機11が接続されている。 (もっと読む)


【課題】支持補助部材を備えた縦型熱処理用ボートにシリコンウエーハのような被処理基板を載せてアルゴン等を用いた熱処理を行う際の、シリコンウエーハへのFe汚染転写と、シリコンウエーハ裏面の面荒れの両方を抑制することができる縦型熱処理用ボートおよびそれを用いたシリコンウエーハの熱処理方法を提供する。
【解決手段】ボート本体の支持部の各々に着脱可能に装着され、被処理基板が載置される支持補助部材を備えた縦型熱処理用ボートであって、支持補助部材は、支持部に装着されるガイド部材と、被処理基板が載置される板状の基板支持部材とを有し、ガイド部材は上面に穴が形成され、基板支持部材はガイド部材の穴に挿嵌されて定置され、被処理基板の載置面の高さ位置が、ガイド部材の上面の高さ位置よりも高く、基板支持部材は、炭化珪素等からなり、ガイド部材は、石英等からなる縦型熱処理用ボート。 (もっと読む)


クランピングプレートを有する静電クランプが設けられ、上記クランピングプレートは、中央領域および環状領域を有する。複数のガス供給オリフィスは、上記クランピングプレートにおける上記中央領域において規定され、上記複数のガス供給オリフィスは加圧ガス供給部と流体連通を有し、上記加圧ガス供給部は、上記複数のガス供給オリフィスを介して、クランピング表面と、上記クランピングプレートの上記中央領域における上記ワークピースとの間に、緩衝ガスを供給するように構成される。上記クランピングプレートにおける上記中央領域および上記環状領域のうちの1つ以上において、1つ以上のガス帰還オリフィスが規定され、上記1つ以上のガス帰還オリフィスは真空源と流体連通を有し、緩衝ガスのための排出路を概ね規定する。シールは上記クランピングプレートの上記環状領域において規定され、上記シールは、上記緩衝ガスが上記中央領域から、上記環状領域に対して外側の環境に漏れるのを概ね防ぐように構成されている。第1クランピング力を得るために、1つ以上の電極がさらに、第1電位源に電気的に接続されている。
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【課題】半導体処理工程における移載容器中の部品支持構造の改良。
【解決手段】
移載容器は、基台50及び蓋60からなり、
該基台上の2つの抵触台52と抵触部品58で”コ“の字状にレチクル70の支持部を構成する。抵触台の内側両端に相対してそれぞれ硬質の支持部品55を設け、各支持部品はそれぞれ高低差のある高い第一突出片及低い第二突出片を具え、これらの頂上をアーチ状として支持接触面を点接触とし、同一抵触台上の二つの支持部品は、低い第二突出片を相対的に内側に配置して、レチクルが変位して第一突出片から滑り落ちても、第二突出片が受ける。 (もっと読む)


【課題】設置や処理順の変更に多大な手間や時間を必要としない基板処理装置、および有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機EL装置などを製造するための基板処理装置において、固定チャンバ15b、15dを接続する基板搬送室32の内部には、一対のローラ54a、54bの間にベルト53が張架され、かかるベルト53には基板搭載部51が一体に構成されている。ローラ54a、54bを回転させると、ベルト53と一体に基板搭載部51も移動する。このため、ベルト53を急加速あるいは急減速した場合でも、基板搭載部51の位置がずれないので、被処理基板1を高速搬送することができる。また、基板搬送室32の内部から外部に引き出す回転軸54c、54dの本数が少ない。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フィルムにおける接着剤が機能部の上面に残渣として残るということはなく、信頼性の劣化を未然に防止できる電子部品の製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明の電子部品の製造方法は、ウェハ29の上面に複数の機能部を形成する工程と、前記ウェハ29における機能部の上面にレジスト膜30を形成した後、ウェハ29の前記レジスト膜30を設けた部分以外を上面側から除去する工程と、前記レジスト膜30の上面にフィルム32を貼る工程と、前記ウェハ29の裏面に研削と研磨のいずれか一方もしくは両方を施す工程とを備えたものである。 (もっと読む)


【課題】絶縁性のワークを搬送する際の帯電を抑制することが可能な搬送システムおよびコンベア装置を提供する。
【解決手段】搬送システム100は、ガラス基板Wをトレイ1に載置して搬送する搬送システムであって、ローラ25と、トレイ1とを備えている。ローラ25は、搬送方向に並んで複数配置されている。トレイ1は、絶縁性のガラス基板Wを載置する。そして、トレイ1とローラ25とにおいて、少なくとも互いの接触部(外側フランジ11およびローラ25)が導電性を有しており、接触部は接地されている。 (もっと読む)


【課題】清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクの収納に好適な収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体5と、該ケース本体5に被せる蓋体6とを備えて、ケース本体5及び蓋体6のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランク1を内部に収納するケースである。ケース本体5及び蓋体6は金属材料で形成され、マスクブランク1の各辺を少なくとも1箇所で支持する支持部材8をケース内部に設け、該支持部材8は樹脂材料で形成され、上記嵌合部に弾性部材7を介在させることにより該弾性部材7より内方では上記嵌合部同士が非接触で嵌め合わされる。 (もっと読む)


【課題】ハンド全体の厚みを薄くし、小型・軽量化した基板把持装置を提供する。
【解決手段】基端側から先端側へ二股に分かれるベースプレート11と、ベースプレート11の上面に設けられる把持プレート12と、ベースプレート11と把持プレート12の間に設けられる把持駆動部7と、前記二股の基端の先端と把持プレート12の先端とから成る把持部10と、前記二股の各先端で基板の一部を案内するガイド部20と、を備え、把持駆動部7が、把持プレート12の基端側にて基端側を常に上側へ付勢する付勢手段15と、付勢手段15の近傍で通電により把持プレート12をベースプレート11側に吸着させる電磁石部14と、先端側にあって把持プレート12がベースプレート11に対して上下に揺動させる軸受部13と、で構成し、ガイド部20が基板の一部の周囲の表面と裏面と側面とに当接することのできる案内溝23を先端に備えた。 (もっと読む)


【課題】 基板と基板支持具の擦れによるダスト発生を抑えることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板54を載置した基板支持具30を反応炉40内に挿入後、反応炉40内を真空排気する前に、基板温度および基板支持具30の温度を安定させるステップを導入することにより、反応炉40内の真空排気時における基板54と基板支持具30の擦れによるダスト発生を抑制する。 (もっと読む)


本発明は、基板背面のエッチング均一度と工程効率を高めるための基板ホルダ、基板支持装置、基板処理処置、及びこれを利用する基板処理方法に関する。本発明の基板ホルダは、基板の端が配置されるリング状の配置部と、前記配置部の下部面に連結されて前記配置部の下部面を支持する側壁部と、前記側壁部に形成された排気孔とを含む。本発明の基板支持装置は、電極部と、前記電極部の外縁部に設けられる緩衝部材と、前記緩衝部材上に位置され、基板の端を支持して基板を前記電極部から離隔させる基板ホルダと、前記電極部と前記基板ホルダを昇降させる昇降部材とを含む。本発明の基板処理処置は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられる遮蔽部材と、前記遮蔽部材と対向して設けられる電極と、前記遮蔽部材と前記電極の間に設けられる基板ホルダとを含み、前記基板ホルダは基板の端が配置されるリング状の配置部と、前記配置部の下部面に連結されて前記配置部の下部面を支持する側壁部と、前記側壁部に形成された排気孔とを含む。 (もっと読む)


【課題】ケース内のマスクブランクを均一な固定荷重でしっかりと固定でき、しかもケースの気密性を向上させたマスクブランクの収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体5と、該ケース本体5に被せる蓋体6とを備えて、内部にマスクブランクを収納するマスクブランク収納ケースである。ここで、ケース本体5に蓋体6を被せたときの接合部の全周にわたって囲繞する固定用枠10と固定片11から構成される固定部材を係合させることにより、接合部の全周にわたって均一に固定荷重がかかるように蓋体5とケース本体6とを固定する。 (もっと読む)


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