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Fターム[5F041AA03]の内容

発光ダイオード (162,814) | 目的 (29,379) | 光学的 (13,617) | 発光効率の向上 (3,846)

Fターム[5F041AA03]に分類される特許

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【課題】入力電圧の変動による電力/電流偏差および力率を大幅改善し、各国規格を遵守するのはもとより、制御損失を最小化してLEDランプの電力効率を極大化させることができるようにした、高効率交流駆動LEDを提供する。
【解決手段】本発明の高効率交流駆動LEDモジュールは、商用電源電圧を整流する全波整流部と、直列にそれぞれ或いはグループ化配列されたLED部と、直列接続されたLEDを順次区間制御する瞬時電流制御部と、入力電圧の変動に対する入力電流と入力電力の変動を能動的に制御する入力電力補償部とがワンボードモジュール(ASIC)化或いはIC化したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光の取り出し効率が改善されたLED光源を提供する。
【解決手段】LEDチップ11は配線基板12上に実装されたLEDチップ11とLEDチップ11を覆う蛍光体層FLとを備え、蛍光体層FLは前記LEDチップ11から出射された光の波長をより長い波長に変換する蛍光体粒子FPと、透過性樹脂TRとを含み、蛍光体層FLの断面輪郭Sfl、LflがLEDチップ11の中心O方向に凹んだ曲線Lflで形成されている。 (もっと読む)


【課題】発光効率及び結晶欠陥が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、第1半導体層120、第2半導体層150、及び前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に配置された活性層を有し、活性層と第2半導体層150との間に、活性層での電子と正孔の再結合確率を高め、漏れ電流を防止する電子遮断層の機能をもつ、活性層より相対的に大きいバンドギャップを有する中間層140を備える。発光素子は、活性層の障壁層の構造を変更し、中間層のバンドギャップエネルギーに変化を与えて、活性層の正孔注入効率を改善することによって、発光効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】発光動作時における効率低下や光出力の低下を回避しつつ静電破壊耐量の向上を図る。
【解決手段】支持基板30と、発光層12を含む半導体膜10と、光取り出し面側の表面に設けられた表面電極と、支持基板と半導体膜との間に設けられた光反射層20、から形成され、表面電極は、半導体膜とオーミック接触する第1の電極片43と、第1の電極片に電気的に接続され且つ半導体膜とショットキー接触する第2の電極片41と、を含み、光反射層に形成される反射電極は、第1の電極片と互いに重ならないように配置され半導体膜とオーミック接触する第3の電極片21Dと、第3の電極片に電気的に接続され半導体膜とオーミック接触し且つ第2の電極片と対向するように配置された第4の電極片とを含み、第1の電極片と第4の電極片との間の半導体膜の主面方向における最短距離は、第1の電極片と第3の電極片との間の同方向における最短距離よりも大きくする。 (もっと読む)


【課題】n型GaN層の格子欠陥が抑制され、発光効率が向上した半導体素子及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
サファイア基板11と、サファイア基板11上に配置されたn型GaN層13と、n型GaN層13上に配置されたp型GaN層15とを有する半導体素子10であって、n型GaN層13には電子線が照射されている。Al(1-x)GaxN結晶と電子線との相互作用により、n型GaN層13の格子欠陥が抑制され、半導体素子10の発光効率が向上する。 (もっと読む)


【課題】高輝度、大出力の平面発光単一型の光源であり、それを用いて近距離、遠距離に到達する配光性を制御できるLED照明装置を提供しようとするものである。
【解決手段】本照明装置は、金属基板と、回路基板と、前記金属基板の表面に直接接合されるベアチップ状態の複数の発光素子と、前記金属基板の表面上に密着する封止枠であると共に前記回路基板の全部又は一部と配線接続された複数の発光素子との周囲を囲む封止枠と、前記封止枠内部において、前記発光素子と接触しつつ前記発光素子を封止する封止材と、を備え、前記封止材は、蛍光剤を含むことができる透明材もしくは半透明材であると共にその上面は、平面形状を有し、前記発光素子の発する光を平面単一発光に変換して行う。 (もっと読む)


【課題】レンズの位置精度が高く、光結合効率及び光取り出し効率の高い発光装置を提供する。
【解決手段】基板10上にバンプを介して搭載された発光素子11、発光素子上に配された波長変換層13、及び波長変換層上に配された透光性プレート14、からなる発光積層体15と、発光積層体上に形成されたレンズ21と、を有している。上記レンズは、発光積層体の側面を覆って発光積層体を包含する側面被覆部21Pと、透光性プレートの少なくとも上面端部に至って透光性プレートの上面を覆う上面被覆部21Cと、を有する。 (もっと読む)


【課題】硫化速度が従来の銀皮膜の半分以下であり、初期の光の反射率に優れる光半導体装置用リードフレームを提供する。また、硫化速度が従来の銀皮膜の半分であることから長期信頼性が従来の銀皮膜よりも倍以上に優れ、かつワイヤボンディング性は従来の銀皮膜と同等であり、さらに外部に露出した箇所における半田付け性に優れるため外装めっきを必要としない、光半導体用リードフレームを提供する。
【解決手段】基体1上に銀−インジウム合金、銀−錫合金、又は銀−インジウム−錫合金からなる反射層2が形成されており、該反射層2上にインジウム及び/又は錫の酸化物層3が厚さ0.0004〜0.001μmで最表層に形成されていることを特徴とする、光半導体装置用リードフレーム。 (もっと読む)


【課題】反射膜材が基板の側面へ付着するのを防止した半導体発光素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子10では、基板11は対向する第1および第2の面11a、11bと、第1の面11aから第2の面11b側に向かって略垂直に延在する第1の領域11c1と第1の領域11c1から第2の面11b側に向かって末広がり状に傾斜した第2の領域11c2を有する側面11cを備えている。第1導電型の第1半導体層と、活性層と、第2導電型の第2半導体層が順に積層された半導体積層体12が基板11の第1の面11aに形成されている。反射膜15が基板11の第2の面11bに形成されている。 (もっと読む)


【課題】基板の側面からの光取り出し効率を向上させた半導体発光素子を提供する。
【解決手段】窒化物半導体発光素子10では、基板11は対向する第1および第2の面11a、11bと、第1および第2の面11a、11bに略直交する側面11cを有している。基板11の側面11cには、第1の面11aから第1の距離L1だけ離間した位置から第2の面11b側に向かって、第1の粗さR1と第1の幅aを有する第1の領域12と、第1の粗さR1より小さい第2の粗R2さと第1の幅aより小さい第2の幅bを有する第2の領域13が交互に形成されている。第1の領域12の面積の和と側面11cの面積の比が0.5以上である。基板11の第1の面11a上に、第1導電型の第1半導体層と、活性層と、第2導電型の第2半導体層が順に積層された半導体積層体15が形成されている。 (もっと読む)


【課題】基板貼り替えに伴うクラックの発生を防止できる半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子の製造方法では、第1基板31上に形成された半導体積層体11上に第1金属層12aを形成し、第2基板32上に第2金属層12bを形成する。第1金属層12aと第2金属層12bを対向させて、第1基板31と第2基板32を重ね合わせる。第1基板31側から第1基板31を透過し、半導体積層体11に吸収される第1レーザ35を照射し、半導体積層体11を部分的に加熱分解する。第2基板32側から第2基板32を透過、または第1基板31側から半導体積層体11を透過する第2レーザ36を照射し、第1金属層12aと第2金属層12bを部分的に融着する。第1および第2基板31、32を第1および第2金属層12a、12bが融解する温度より低い温度に加熱して、第1基板31を除去する。 (もっと読む)


【課題】高効率の半導体発光素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、積層体と、第1電極と、第2電極と、反射層と、第1金属ピラーと、第2金属ピラーと、封止部と、を含む半導体発光素子が提供される。積層体は、第1部分及び第2部分を有する第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、第2部分と第2半導体層との間に設けられた発光部と、を含む。積層体は、第1半導体層の側の第1主面と、2半導体層の側の第2主面と、を有する。第1、第2電極は、第2主面の側において、第1、第2半導体層のそれぞれの上に設けられる。反射層は、積層体の側面を覆い、絶縁性である。第1、第2金属ピラーは、第1、第2電極とそれぞれ接続され、第1半導体層から第2半導体層に向かう第1方向に延びる。封止部は、第1金属ピラー及び第2金属ピラーを封止する。 (もっと読む)


【課題】熱伝導性及び接続信頼性に優れ、さらに、より薄型化が可能な半導体装置、特にLED半導体素子搭載の半導体装置を提供する。
【解決手段】キャリア基材11上に、導電性金属層パターン14及び絶縁部15を有する半導体素子搭載用部材10であって、該金属層パターンは、部分的に露出部を有するように、少なくともその周縁部が絶縁部に覆われ、該部材の金属層パターン側からの平面視において、該金属層パターンの最外周部が、該金属層パターンとキャリア基材が接する部分より、該絶縁部側にせり出している断面形状を有し、該金属層パターンがめっきで形成された銅から構成されるものであることを特徴とする半導体素子搭載用部材である。 (もっと読む)


【課題】熱伝導性及び接続信頼性に優れ、特にLED半導体素子搭載の半導体装置が得られる半導体素子搭載用部材、半導体素子搭載基板及び半導体装置を提供する。
【解決手段】剥離性基材及び粘着剤層からなるキャリア基材上に、導電性金属層パターン及び絶縁部を有する半導体素子搭載用部材であって、該剥離性基材がステンレス鋼からなり、該導電性金属層パターンは、部分的に露出部を有するように、少なくともその周縁部が絶縁部に覆われ、該部材の金属層パターン側からの平面視において、該導電性金属層パターンの最外周部が、該導電性金属層パターンとキャリア基材が接する部分より、該絶縁部側にせり出している断面形状を有する半導体素子搭載用部材を用いる。 (もっと読む)


【課題】光を外部に取り出す効率を向上させ、薄型化することができる照明装置を提供する。
【解決手段】青色発光素子が凸型の表面形状の透明樹脂で包含された発光構造体11と、発光構造体11が二次元配置された基板12と、青色発光素子の青色光を拡散する拡散板13と、基板12と離間して配置され、青色発光素子の青色光から白色光を得る粉末状の蛍光体を含有する蛍光体シート14とを備える。 (もっと読む)


【課題】熱伝導性及び接続信頼性に優れ、発光素子の能力をより一層引き出すことができ、かつ、より薄膜化が可能な半導体装置、特にLED半導体素子搭載の半導体装置が得られる半導体素子搭載用部材、半導体素子搭載基板及び半導体装置を提供する。
【解決手段】キャリア基材上に、導電性金属層パターン及び絶縁部を有する半導体素子搭載用部材であって、該絶縁部が酸化チタンを含有する硬化性樹脂からなり、該導電性金属層パターンは、部分的に露出部を有するように、少なくともその周縁部が絶縁部に覆われ、該部材の金属層パターン側からの平面視において、該導電性金属層パターンの最外周部が、該導電性金属層パターンとキャリア基材が接する部分より、該絶縁部側にせり出している断面形状を有する半導体素子搭載用部材を用いる。 (もっと読む)


【課題】可視光反射率の高いLED用絶縁反射基板の提供。
【解決手段】アルミニウム層上に孔を有する陽極酸化処理層を備えるLED用絶縁反射基板であって、少なくとも一つの孔内に波長400nm〜700nmの光に対して純アルミニウムよりも高い平均反射率を有する高反射素材が充填された充填層を備え、前記高反射素材の下記式で示される充填率が、10%以上98%以下であるLED用絶縁反射基板:ここで、充填率(%)=(高反射素材の孔の底部からの平均充填高さ/陽極酸化処理層の孔の平均深さ)×100である。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターン加工の制御性、再現性を向上させること。
【解決手段】サファイア基板10表面に周期0.1〜1μmのドット状の凹凸パターンを形成する。次に、サファイア基板10上にAlNからなるバッファ層11を形成し、バッファ層11上にn型層12、発光層13、p型層14を積層する。次に、p型層14上にp電極15を形成し、低融点金属層16を介してp電極15と支持基板17とを接合する。次に、レーザーリフトオフによりサファイア基板10とバッファ層11を除去する。n型層12のサファイア基板10除去側には、サファイア基板10に設けられた凹凸パターン20が転写され、凹凸パターン19が形成される。ここで、バッファ層11としてAlNを用いているため、再現性、制御性よく微細な凹凸パターン19を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】
従来の白色部材被覆型のLED発光装置や、アンダーフィルを施したLED発光装置では、LEDの光取出面に対する白色部材の付着が発生する危険性があり、またアンダーフィル型のLED発光装置ではLEDの側面方向の出射光を十分に利用することがなされていなかった。
【解決手段】
発光素子の外形より大きい形状の蛍光体板に、バンプ実装された発光素子の発光面側を透明接着材にて接着すると共に、前記発光素子の側面と前記蛍光体板の下面との間に透明樹脂を充填し、前記充填された透明樹脂の形状が前記発光素子の実装面側の角部より蛍光体板に向かって円弧状に形成された発光素子チップを構成し、該発光素子チップを回路基板上の配線電極にフリップチップ実装した。 (もっと読む)


【課題】大電流駆動時における窒化物半導体発光素子の電力効率の低下を防止すること。
【解決手段】窒化物半導体発光素子は、第1導電型窒化物半導体層と、第1導電型窒化物半導体層の上に設けられた超格子層と、超格子層の上に設けられた活性層と、活性層の上に設けられた第2導電型窒化物半導体層とを備えている。超格子層の平均キャリア濃度は、活性層の平均キャリア濃度よりも高い。 (もっと読む)


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