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国際特許分類[B65G49/06]の内容

国際特許分類[B65G49/06]に分類される特許

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【課題】薄い箔状のワークを位置ずれなく他の工程で利用できるようにした箔状ワーク位置決め装置を提供する。
【解決手段】ハンド2により金型3内まで電極材100を搬送して、電極材100が金型により切断される位置に位置決めする。この位置決めと同時または直後に吸着コンベア5の吸着動作のみ開始して位置決めされた電極材100をその位置で吸着して、切断が終了するまでその位置を保持することを特徴とする箔状ワーク位置決め装置。 (もっと読む)


【課題】可搬重量が大きく搬送距離が長い搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置10は、第1関節24を回転軸として第1アーム12が回転するように第1アーム12が第1関節24に連結され、第2関節26を回転軸として第1アーム12の回転速度の2倍の逆回転速度で第2アーム14が回転するように、第2アーム14が第2関節26に連結されている。連結部材30によって第3アーム16が第2アーム14に対して固定される。第1関節24を回転軸として第1アーム12が回転するとき、連結部材30が移動する方向Lに沿って第1ステージ18が移動するように、第1ステージ18が連結部材30に連結されている。さらに、第1関節24を回転軸として第1アーム12が回転するとき、方向Lに沿って第2ステージ20が移動するように、第3関節40に第2ステージ20が連結されている。 (もっと読む)


【課題】開口角度を安定して再現でき、高いクランプ力を長期間にわたって維持することが可能で、更にクランプアームやプッシュピンの変形や劣化が起こりにくい基板クランプ装置を提供する。
【解決手段】基板の保持、解除をクランプアームの開閉によって行う基板クランプ装置であって、土台に設けられたブラケットと、ブラケット略両端に、それぞれ設けられた回転軸と、上記回転軸の一端を介して回転自在に取り付けられたクランプアーム押込み部と、上記回転軸の他の一端を介して回転自在に取り付けられたクランプ枝部と、上記クランプアーム押込み部及び上記クランプ枝部と、上記回転軸とは別の回転軸を介して取り付けられ、基板を保持するクランプアーム部と、を備えたことを特徴とする基板クランプ装置。 (もっと読む)


【課題】静電気除去手段を装備しながらも、搬送ユニットの製作の簡略化を図ることができる板状基材用搬送装置を提供する。
【解決手段】板状基材1を空気圧により浮上させた状態で搬送する搬送ユニットUが、板状基材1の搬送方向に並設され、軟X線照射部Sからの軟X線の照射によりイオン化した空気にて板状基材1に帯電した静電気を中和する静電気除去手段Jが設けられ、静電気除去手段Jが、搬送方向に幅狭な扁平状に形成されて、搬送方向に隣接する搬送ユニットの間に配置されている。 (もっと読む)


【課題】大型化した装置に対して、メンテナンス時の作業性を向上させる。
【解決手段】リペア対象板が載置されるワークテーブルと、当該ワークテーブルの両側に配置されたガイドレールと、当該各ガイドレールに移動可能に支持されて上記ワークテーブル上に架け渡される門型ステージと、当該門型ステージに上記ガイドレールと直交する方向にスライド可能に支持されて上記ワークテーブル上の上記リペア対象板をリペアするリペアユニットとを備えたリペア装置のメンテナンス機構である。このメンテナンス機構を、上記各ガイドレールにそれぞれ嵌合する足台と、当該各足台に載置されて上記ワークテーブル上に架け渡される天板とから構成した。 (もっと読む)


【課題】基板が薄板の場合でも基板たわみによる基板と基板受けピンとの干渉がない基板搬送ロボットを提供する。
【解決手段】処理装置間で基板の受け取り、受け渡しを行う基板搬送ロボットであって、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Aを固定して備えたロボットハンドと、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Bを有する基板たわみ防止手段を備えたロボットハンドと、を有することを特徴とする基板搬送ロボット。 (もっと読む)


【課題】化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板1の製造方法は、ガラス基板1を成形する工程と、主表面に化学強化層を形成する工程と、を備える。化学強化層を形成する工程は、化学強化処理槽20内に貯留された化学強化処理液にガラス基板1を浸漬させる工程と、ガラス基板1を化学強化処理液中で移動させる工程と、を含む。移動させる工程は、化学強化処理槽20の内壁23a,23bに沿って内壁23a,23bの水平方向長さL1,L2の半分以上に亘ってガラス基板1を水平方向に移動させる工程と、化学強化処理液の液深の半分以上に亘ってガラス基板1を垂直方向に移動させる工程と、の少なくともいずれか一方を有する。 (もっと読む)


【課題】基板面積、或いは基板の厚さ寸法に拘わらず、基板面の平坦性を維持しながら搬送する。
【解決手段】上面に複数のガス噴射孔2aと複数のガス吸引孔2bとが形成された下部ステージ2Aと、前記下部ステージの上方において、該下部ステージに対向配置されると共に、下面に複数のガス噴射孔2aとガス吸引孔2bとが形成された上部ステージ2Bと、前記下部ステージと上部ステージとに挟まれた空間に形成された基板搬送路2Cと、前記基板搬送路において基板Gの幅方向両端を保持し、基板搬送方向に搬送する基板搬送手段10とを備え、前記下部ステージと上部ステージとにそれぞれ形成された前記ガス噴射孔同士が対向すると共に、前記ガス吸引孔同士が対向する。 (もっと読む)


【課題】 基板を均一に処理することが可能な基板処理装置および搬送ローラを提供する。
【解決手段】 搬送ローラ1は、駆動軸3と、複数のローラ部2とから成る。そして、複数のローラ部2は、各々、同一形状を成す3個のローラ部材2a、2b、2cから構成される。これらのローラ部材2a、2b、2cには、その表面が駆動軸3を中心とする円上に配置されたガラス基板との当接領域と、その表面が円より駆動軸3の軸心側に配置されたガラス基板との非当接領域とが形成されている。この当接領域は、円の円周全域の1/3をわずかに越えている。 (もっと読む)


【課題】処理作業の異常時にパネルをバックアップから退避しパネルの変形を防止することが可能なFPDモジュールの組立装置を提供する。
【解決手段】 パネルの作業辺に対して各種処理作業を行う処理ヘッドを有する複数の処理ユニットと、複数の処理ユニットの作業位置にパネルを搬送する搬送ステージと、処理ユニットに配設され、パネルの作業辺を含む少なくとも2つの周縁辺を吸着することによりパネルを保持するパネル保持部と、を備える。そして、パネル保持部に設けられ、各種処理作業またはパネルの搬送の異常時に、パネルを作業位置よりも上昇可能に支持すると共に、異常の解除時に、パネルを作業位置に下降可能に支持するパネル昇降機構を備えた。 (もっと読む)


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