（a）カソーディック真空アーク（CVA）蒸着工程を実施することによって基板上に材料を蒸着する工程;および（b）CVA蒸着以外の、化学蒸着（CVD）工程および物理蒸着（PVD）工程の少なくとも1つを実施することによって基板上に材料を蒸着する工程を含む、基板上にコーティングを蒸着する方法を開示する。本方法においては、工程（b）において蒸着された材料の厚さが、工程（a）において蒸着された材料の厚さよりも大きい。

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【課題】 軸受の摩耗の一形態である硬質異物混入潤滑下での摩耗を低減することができる軸受を提供する。
【解決手段】 軸８の少なくとも軸方向中間部が熱処理により硬化され、軸８、外輪９、および転動体１０の少なくともいずれか一つの転走面に硬質被膜１２を施し、この硬質被膜１２のダイナミック硬度をＨＤ８００以上ＨＤ２０００以下とし、硬質被膜１２の膜厚δ２が１μｍ以上５μｍ以下で、且つこの膜厚δ２が硬質被膜１２の軸方向中央Ｐ１の膜厚δ２を基準として±２μｍ以下の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】所望の領域に寸法精度良く薄膜を形成することが可能な薄膜形成方法を得る。
【解決手段】基板上に半導体粒子または導電性粒子からなる薄膜を形成する薄膜形成方法であって、粒子径が１００ｎｍ以下の前記半導体粒子または導電性粒子が分散された分散液を、前記基板の所定の領域に配置する配置工程と、前記分散液を配置した基板を２０ＫＨｚ以上、５０ＭＨｚ以下の周波数で振動させて前記所定の領域以外の領域に存在する前記分散液を除去する振動工程と、前記基板上の分散液の溶媒を除去して前記基板上に前記半導体粒子または導電性粒子からなる薄膜を形成する溶媒除去工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 既存設備の大幅改造や装置コスト増大、大規模化等の問題を回避しながら電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害を極力抑え、損傷のない安定的な成膜作業を行うことが可能な巻取式真空蒸着方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明の巻取式真空蒸着方法及び装置は、フィルム基材が成膜ドラムに密着する近傍の成膜ドラムの内部、および、前記フィルム基材が成膜ドラムから剥離する近傍の成膜ドラム内部に、それぞれ永久磁石を設置するとともに、前記成膜ドラムの対極をチャンバー外壁とし、前記成膜ドラムに４０ＫＨｚ〜１００ＫＨｚの高周波電位を印加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】視感反射率が小さく、視感透過率が高いという優れた反射防止膜を有するだけでなく、光学部材のＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃からなる成膜原料を用いてなる低屈折率層の薄膜において、膜密度を向上させ、耐スクラッチ性に優れた光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、ＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃とからなる成膜原料を用いてなる層を具備し、該層はナノインデンテーション測定法において、押し込み荷重０．９８ｍＮのときの押し込み深さが７０〜９５ｎｍである低屈折率層の反射防止膜を有する光学部材。 （もっと読む）

【課題】ターゲットから金属元素を金属の状態で放出させて成膜するメタルモード成膜を安定化させる。
【解決手段】プラズマ生成室から基板に向かいプラズマの流路において、プラズマ中の酸素活性種の流れを制御することによって、ターゲット表面での急激な酸化を抑制するともに、基板表面での酸化反応を促進し、メタルモード成膜を安定化させる。反応室内に、プラズマが基板に向けて流れる流路に沿って配置するターゲット電極と、プラズマに流れを制御するシールドとを備え、シールドによりプラズマ中の酸素活性種の流れを制御する。基板方向に向かうプラズマとターゲット方向に向かうプラズマの流動比率を変更することによって、ターゲット表面に向かう酸素活性種の量を抑制すると共に、基板に向かう酸素活性種の量を相対的に増大させ、ターゲット表面での急激な酸化を抑制し、基板に向かう酸素活性種の量を増すことで基板表面での酸化反応を促進する。 （もっと読む）

【課題】これまで存在しなかった超高屈折率の酸化ジルコニウムからなる表面層を備えた耐擦傷性物品の製造方法を提供する。さらに、そのような超高屈折率の酸化ジルコニウム層と低屈折率層とからなる反射防止層を備えた耐擦傷性物品の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に薄層を形成してなる耐擦傷性物品の製造方法であって、前記薄層は単層膜または多層膜からなり、前記単層膜および多層膜は、少なくとも酸化ジルコニウムからなる層を含み、前記酸化ジルコニウムからなる層を、窒素ガス、アルゴンガス、またはこれらの混合ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着により前記基板上に形成する。 （もっと読む）

【課題】仕事関数の低い材料を迅速に有機層と陰極との界面近傍に挿入する。
【解決手段】スパッタ装置Ｓｐは、銀Ａｇからなるターゲット材３０５と、処理容器外に設けられ、銀Ａｇよりも仕事関数が小さいセシウムＣｓを加熱して蒸発させるディスペンサＤｓと、ディスペンサＤｓに連通し、蒸発させたセシウムＣｓの蒸気を、アルゴンガスをキャリアガスとして処理容器内まで搬送させる第１のガス供給管３４５と、処理容器内に高周波電力を供給する高周波電源３６０とを有する。制御器５０は、高周波電力のエネルギーを用いてアルゴンガスを励起させてプラズマを生成し、生成されたプラズマによりターゲット材３０５から叩き出された銀Ａｇ原子をメタル電極３０として成膜する際、ディスペンサＤｓの温度を制御することにより成膜中のメタル電極３０に混入させるセシウムＣｓの割合を制御する。 （もっと読む）

【課題】密着性の良い被膜を堆積させる方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、
アーク蒸発による前記被膜の堆積工程、および
デュアルマグネトロンスパッタリングによる前記被膜の堆積工程
を含んでなり、前記堆積が順次または同時に実施される。 （もっと読む）