【課題】複数の基板を貼り合わせる積層半導体装置を効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】複数の基板を貼り合わせて積層半導体装置を製造する半導体装置製造方法であって、回路が形成された複数の基板のうちの一の基板に凹部を形成する凹部形成ステップと、一の基板を複数の基板のうちの他の基板に重ね合わせる重ね合わせステップと、重ね合わせステップの後に、一の基板の凹部に導電性材料を導入することにより、一の基板の回路と他の基板の回路との間の電気的な導通路を形成する導通形成ステップとを備える半導体装置製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】安定した動作を実行可能な不揮発性半導体記憶装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メモリストリングＭＳは、メモリ柱状半導体層３６と、メモリ柱状半導体層３６の側面を取り囲むように形成された電荷蓄積層を含むメモリゲート絶縁層３５と、メモリゲート絶縁層３５を取り囲むように形成された４層のワード線導電層３１ａ〜３１ｄと、ワード線導電層３１ａ〜３１ｄの上部を保護する２層の保護層３３ａ、３３ｂとを備える。ワード線導電層３１ａ〜３１ｄは、その端部の位置が異なるように階段状に形成された階段部ＳＴを構成する。下から２段目のステップＳＴ２は、その上面を２層の保護層３３ａ、３３ｂにて覆われ、下から１段目のステップＳＴ１は、その上面を１層の保護層３３ａにて覆われている。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェハからなるＩＣチップは厚いため商品容器自体に搭載する場合、表
面に凹凸が生じ、デザイン性が低下してしまった。そこで非常に膜厚の薄い薄膜集積回路
、及び薄膜集積回路を有するＩＣチップ等を提供する。
【解決手段】薄膜集積回路を有するＩＣチップは、従来のシリコンウェハにより形成され
る集積回路と異なり、半導体膜を能動領域（例えば薄膜トランジスタであればチャネル形
成領域）として備えることを特徴とする。このようなＩＣチップは非常に薄いため、カー
ドや容器等の商品へ搭載してもデザイン性を損ねることがない。 （もっと読む）

【課題】新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を含むトランジスタと、酸化物半導体以外の半導体材料を用いて構成された論理回路と、を有し、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と、前記論理回路の少なくとも一の入力とは電気的に接続され、前記トランジスタを介して、前記論理回路に少なくとも一の入力信号が供給される半導体装置である。ここで、トランジスタのオフ電流は１×１０^−１３Ａ以下であるのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】メモリセルアレイ全体の消費電力を削減することが可能であり、且つ高集積化の可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、ワード線１と、ワード線１と交差するように配置されたビット線２と、ワード線１とビット線２との各交差部に配置された絶縁膜３と、ワード線１の間及びビット線２の間を埋め込む層間絶縁膜と、ビット線１に接続され、低抵抗状態と高抵抗状態との間で遷移する抵抗変化材４とを備える。ワード線１、ビット線２、及び絶縁膜３はワード線１とビット線２との各交差部において電界効果トランジスタを構成する。電界効果トランジスタ及び抵抗変化材４はメモリセルを構成する。ビット線２は、絶縁膜を介してワード線１と対向する第１面と、この第１面とは反対側の第２面とを有する。抵抗変化材４は、第２面と接するように配置され、且つその一部が層間絶縁膜と接触している。 （もっと読む）

【課題】金属配線上にダイオード等の選択素子を有し、選択素子と相変化メモリ等の記憶素子とを共に積層することにより、高性能化、高信頼化を実現し、製造コストを低減する半導体記憶装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】第１、第２、第３ポリシリコン膜１１９，１２０，１２１によるダイオードＤＩＯＤの上に、バッファ層１２２、相変化材料層１２３が形成され、層間膜１２７ｂより熱伝導率の高いダイオードＤＩＯＤの一部分を加工せずに配線上に延在させて残すことにより、ダイオードＤＩＯＤで発生する熱の散逸を大きくする。また、ダイオードＤＩＯＤの一部をエッチストッパとして利用することで、積層化時のコンタクト開口を一括で行うことを可能とする。 （もっと読む）

【課題】積層される半導体ウェハにより、量産性向上、コスト低減を図った、固体撮像装置等の半導体装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】半製品状態の回路を備えた半導体ウェハ３１，４５を複数積層して貼り合わせ、複数の半導体ウェハ３１，４５からなる積層体を形成し、積層体のうち、上層の半導体ウェハ３１の半導体層を薄肉化する。また、上層の半導体ウェハ３１側から最下層の半導体ウェハ４５に形成された配線に達する貫通開口部７７を形成し、最下層の半導体ウェハ４５に形成された配線を露出させることにより電極パッド部７８を形成する。これにより、貫通開口部７７は、半導体ウェハ３１，４５の脆弱な接合面を貫通して形成され、電極パッド部７８は、脆弱な接合面よりも下層の半導体ウェハ４５の配線において形成される。これにより、電極パッド部７８における外部配線との配線時に、脆弱な接合面に係る応力を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】回路設計に対する制限を低減するか解消し３次元回路内のホットスポットを効率的に冷却する３次元半導体装置。
【解決手段】 チップを貫通する貫通電極を有する複数の半導体チップ１を積層してなる３次元半導体装置であって、前記貫通電極として、異種の第１、第２の材料で構成された第１、第２の貫通電極（４、５）を備え、前記第１、第２の貫通電極とそれぞれ電気的に接続され、前記第１、第２の貫通電極とそれぞれ同種の材料からなり、チップの回路面上に配置され、前記回路面上で接続された第１、第２の表面配線を有し、前記第１の貫通電極、前記第１の表面配線、前記第２の表面配線、前記第２の貫通電極に沿って電流を流すことにより、前記回路面上の前記第１の表面配線と前記第２の表面配線との接合部（２）でペルチェ吸熱が行われる。 （もっと読む）

【課題】複数のコアチップとインターフェースチップからなる半導体記憶装置においてリフレッシュ動作時におけるピーク電流を低減する。
【解決手段】予め互いに異なるチップ情報ＬＩＤが付与される複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７を備え、内部リフレッシュコマンドＲＥＦａを互いにタイミングの異なる複数のリフレッシュコマンドＲＥＦｂに分割し、分割されたリフレッシュコマンドＲＥＦｂのカウント値Ｃ２とチップ情報ＬＩＤの少なくとも一部とが互いに一致したコアチップにおいてリフレッシュ動作が実行される。これにより、複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７に内部リフレッシュコマンドＲＥＦｂが共通に供給される場合であっても、各コアチップにおけるリフレッシュ動作のタイミングをずらすことが可能となる。これにより、リフレッシュ動作時におけるピーク電流を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数のコアチップとインターフェースチップからなる半導体記憶装置において、従来の半導体記憶装置との互換性を確保する。
【解決手段】互いに異なるチップ識別情報ＬＩＤが割り当てられた複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７と、コアチップＣＣ０〜ＣＣ７を制御するインターフェースチップＩＦとを備える。インターフェースチップＩＦは、メモリセルを特定するためのアドレス情報ＡＤＤを受け、その一部をチップ識別情報ＬＩＤと比較するためのチップ選択情報ＳＥＬとしてコアチップＣＣ０〜ＣＣ７に共通に供給する。これにより、コントローラからは単にアドレス空間が拡大されたように見えるだけであることから、従来の半導体記憶装置と同じインターフェースを用いることが可能となる。 （もっと読む）