説明

国際特許分類[H01S3/10]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 誘導放出を用いた装置 (18,077) | レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置 (5,315) | 放出された放射線の強度,周波数,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲート,変調または復調 (1,705)

国際特許分類[H01S3/10]の下位に属する分類

国際特許分類[H01S3/10]に分類される特許

61 - 70 / 804


【課題】光モジュールサイズを最小化し、ボード実装時モジュール設置自由度を向上できる超小型光ファイバ増幅器を提供する。
【解決手段】内部に複数の光素子が配置されると共に、光ファイバ200をモジュールの内部に引き込む入力ポートとモジュールの外側に引き出す出力ポートを備える光モジュール100と、光モジュール100の入力ポート及び出力ポートを通じて光モジュール100に引き込みまたは引き出され、光モジュール100に備えられる光素子と結合しつつ、光モジュール100外側で光ファイバ200が破損しない半径以上の曲率半径を有するように配置される光ファイバ200を備えて構成される。光ファイバ増幅器は、光ファイバ増幅器を構成する光素子を相互結合するための光ファイバ200が光モジュール100の外側に配置され、光素子は少なくとも一以上の光モジュール100に分散配置される。 (もっと読む)


【課題】現実の光ファイバの劣化に即して交換寿命を報知し、経済性と安定作動の確保とを両立可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】本発明の態様は、ファイバ光増幅器223を有するレーザ光出力部と、波長変換光学素子34を有する波長変換部とを備えたレーザ装置である。レーザ装置LSは、ファイバ光増幅器223の励起光のパワーを検出して第1検出信号Paを出力する励起光検出器61と、波長変換光学素子に入射させるべき偏光方向の光の強度等を検出して第2検出信号Pbを出力するs偏光検出器62と、ファイバ光増幅器223の作動状態を判断するFA判断部68とを備える。FA判断部68は、第1検出信号Paの変化量に対する第2検出信号Pbの変化量(dPb)/(dPa)が寿命基準値以下になったときに、寿命判定信号を出力するように構成される。 (もっと読む)


【課題】様々な入力光強度条件に対応した光増幅器の実現が望まれていた。
【解決手段】少なくとも入力モニタ手段3と、光増幅手段6と、前記入力モニタ手段を利用して、前記光増幅手段の増幅制御を行うための制御手段10を含む光増幅器において、ハイレベルとローレベルの入力光強度に応じた、利得制御を行うことを特徴とする光増幅器である。 (もっと読む)


【課題】 バースト信号の入力に対しても光サージが発生しにくい光増幅器を、また、EDFの増幅能力を信号光の増幅に効率よく使用するためにEDFを短尺化しても、励起の効率のよい光増幅器を提供する。
【解決手段】 信号光入力端と、第1光分波合波器と、エルビウム・ドープト・ファイバと、第2光分波合波器と、信号光出力端と、レーザ光源と、該レーザ光源の制御回路と、を備えた光増幅器に、励起光の反射器を設けて、励起光源からEDFに入射された励起光を反射させてEDFに戻すとともに、さらにレーザ光源内部に反射した励起光の入射が容易になるように構成した。 (もっと読む)


【課題】信号光の一部を電気光学変調器により切り出してパルス光を出力するレーザ装置において、煩雑な電気光学変調器のバイアス調整作業を改善可能な手段を提供する。
【解決手段】本発明を例示する態様のレーザ装置は、信号光を出力する信号光源11と、信号光源11から出力された信号光を増幅する光増幅器21と、光増幅器により増幅された信号光の一部を切り出してパルス光を出力する電気光学変調器25と、電気光学変調器25の出射側に設けられ、光増幅器21において発生するASE光を検出するASE光検出器27と、電気光学変調器25の作動を制御するEO制御部55とを備え、EO制御部55が、ASE光検出器27により検出されるASE光の強度が最小になるように、電気光学変調器25のバイアス電圧を調整するように構成される。 (もっと読む)


【課題】 発振スペクトル線幅の狭小化と、波長掃引範囲の広帯域化と、を同時に達成し得る光源装置を提供する。
【解決手段】 光を増幅させる光利得媒体と屈折率の波長分散を有する光導波路とを含んで構成される光共振器と、該光共振器内における光の強度を変調する光変調器と、を備え、該光変調器の変調周波数に応じて光パルスの発振波長が変化する光源装置であって、
前記光変調器が、前記光変調器を透過する光の透過率を調整可能であり、かつ、前記光変調器を透過する光の透過時間のデューティー比が50%未満であることを特徴とする光源装置。 (もっと読む)


【課題】出力パルスレーザ光のエネルギを安定化できるレーザ光源を提供する。
【解決手段】レーザ光源1は、制御部10、光増幅性ファイバ11、励起光源12、光スイッチ13、駆動回路14、モニタ部15、出力光パワー調整器16、全反射ミラー17、レンズ18A、レンズ18B、ダイクロイックミラー19を備える。光スイッチ13の第1ポート13aと第3ポート13cとの間の光路が光通過可能状態となっているときに、光増幅性ファイバ11の端面11aと全反射ミラー17とがレーザ共振器を構成する。制御部10は、光スイッチ13の第2ポート13bと第3ポート13cとの間の光路が光通過可能状態となっているときにモニタ部15によりモニタされた光パワーに基づいて、光スイッチ13の第1ポート13aと第3ポート13cとの間の光路が光通過可能状態となっているときに出力されるレーザ光のピークパワーまたはエネルギを安定化制御する。 (もっと読む)


【課題】レーザー光線発信器から発振されたレーザー光線の出力を高速制御することができるレーザー光線照射機構およびレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】レーザー光線発振器と集光レンズとの間に配設された出力調整手段63とを具備するレーザー光線照射機構であって、出力調整手段は、1/2波長板と、直線偏光のレーザー光線を入光してS偏光成分を反射させP偏光成分を透過せしめる第1の偏光ビームスプリッター面および第2の偏光ビームスプリッター面を備えたプリズム632と、S偏光成分とP偏光成分との間に位相差(α)を生成する光路長調整手段633と、偏光成分合成手段636と、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線を分光する偏光ビームスプリッター面を備え、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線のS偏光成分とP偏光成分との位相差(α+β)を0度から180度の間で制御する制御手段とを具備している。 (もっと読む)


【課題】光増幅器の設定される利得に応じて、各波長における利得を平坦にする。
【解決手段】光増幅器1は、光信号を設定された利得で増幅する。等化器2は、光増幅器1によって増幅された光信号の損失を波長ごとに可変する。制御部3は、設定される利得に応じて生じる光増幅器1の利得チルトに対応した損失波長特性を有するように等化器2を制御する。 (もっと読む)


【課題】所定のキャリブレーションパターンで感光体に照射されたレーザ痕に基づいてレーザキャリブレーションを実行することにより、レーザ加工の精度を向上させることが可能な調整装置、レーザ加工装置および調整方法を提供すること。
【解決手段】空間変調手段(DMD)によって任意のキャリブレーションパターンの形状に成形されたレーザ光を感光体に照射し、前記レーザ光が照射された前記感光体の画像を撮像し、前記撮像された画像のレーザ痕の形状と前記キャリブレーションパターンの形状とのズレ値を算出し、前記算出されたズレ値に基づいて、前記レーザ光の被加工物上での形状が入力パターンの形状と一致するように補正するための変換パラメータを算出し、前記算出された変換パラメータに基づいて、前記入力パターンに従った前記被加工物へのレーザ光の照射を調整する。 (もっと読む)


61 - 70 / 804