【課題】装置内部の摺動部分に生じたダストの付着によって光学素子が損傷することを防止できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】励起光Ｌ１を出射する半導体レーザ１０と、励起光Ｌ１が入射し、励起光Ｌ１から生成された出射光Ｌ４を出射するレーザ出力部２０と、レーザ出力部２０を構成する光学素子の少なくともいずれかを支持し、金属製の摺動部分を有するホルダ３０と、ホルダ３０の摺動部分の近傍に配置され、金属片を吸着する強磁性を有する吸着装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】１パルスあたりの出力エネルギーを従来以上に増加させたとしても、レーザチャンバに設けられた光学素子の劣化を抑制することできるエキシマレーザ装置を提供する。
【解決手段】所望するレーザ出力以上の範囲内で、レーザチャンバに設けられた光学素子に照射するレーザビームのエネルギー密度を低下させるように、レーザビームの幅を広げる。 （もっと読む）

フェムト秒パルス・レーザを構築して動作させる設計態様および技術が提供される。レーザ・エンジンの一例は、フェムト秒の種パルスから成る光線を生成して出力する発振器と、種パルスの存続時間を伸張する伸張器／圧縮器と、伸張済み種パルスを受信し、選択された伸張済み種パルスの振幅を増幅して、増幅済みの伸張済みパルスを生成し、且つ、増幅された伸張済みパルスから成るレーザ光線を、該パルスの存続時間を圧縮してフェムト秒パルスから成るレーザ光線を出力する上記伸張器／圧縮器へと出力する増幅器と、を含んでいる。増幅器は、増幅済みの伸張済みパルスの分散を補償する分散制御器を含むことにより、各処置の間において又は走査の速度に従い上記レーザの繰り返し率を調節可能にする。レーザ・エンジンは、500メートル未満の合計の光路によりコンパクトとされ得ると共に、たとえば50個未満などの少ない個数の光学素子を有し得る。 （もっと読む）

異なる有利な実施形態は、所望波長の光の強度を増大させるように構成される基板（９００，１３００）を備える装置及び方法を提供する。基板（９００，１３００）は、前面（１３０２）と、後面（１３０４）と、そして外側端面（９２２，１３０６）と、を有する。前記基板（９００，１３００）は、前記基板の前記前面（１３０２）で受光する光を反射するように構成される。前記基板はセラミックを含む。前記基板（９００，１３００）は複数のセクション（９０２〜９１８）を含む。前記方法及び装置は更に、前記複数のセクション（９０２〜９１８）の間を通過する光を減衰させるように構成される材料（９２０）を含む。前記材料（９２０）は、前記複数のセクション（９０２〜９１８）の各セクションの端面を取り囲む。前記装置及び方法は更に、液体窒素を、冷却システム（８０８）を通して送給することができ、そして前記基板（９００，１３００）内で発生する熱を前記基板（９００，１３００）の前記後面（１３０４）から吸収するように構成される冷却システム（８０８）を備える。
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【課題】複数の光源を用いて標本の観察を行う場合に、より簡単に光源からの光の光路調整を行うことができるようにする。
【解決手段】小型レーザユニット３１−１乃至小型レーザユニット３１−３は、ステージ３４−１乃至ステージ３４−３に固定されている。各小型レーザユニット３１から射出された極短パルス光は同一光路に合成され、標本１２に照射されるとともに、位置検出ユニット４０に入射する。位置検出ユニット４０は、入射した極短パルス光を受光し、その受光位置から極短パルス光の光路のずれを検出する。駆動制御部４５は、そのずれの検出結果に基づいてステージ３４を平行移動または回動させることで、極短パルス光の光路を補正する。このように小型レーザユニット３１を動かすことで、他の光学部材を移動させずに簡単に光路調整することができる。本発明は、走査型顕微鏡に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】あらゆる規模の光学系器材に適用でき、しかも伝送するレーザ光に直接影響を与えず、光軸を適切に補正する光伝送装置を提供する。
【解決手段】レーザ光を伝送するための１以上のミラー１ｂと、対応するミラーの角度に連動する１以上の小型ミラー４ａ，４ｂと、１以上の小型ミラー４ａ，４ｂに対して回転ミラー７を介して補正用可視レーザ光を照射する補正用可視レーザ光照射部と、１以上の小型ミラー４ａ，４ｂのいずれかにより反射された補正用可視レーザ光を検知する検知部８と、補正用可視レーザ光が照射された小型ミラー４ａ，４ｂの位置と検知部８により検知された補正用可視レーザ光の位置とに基づいてレーザ光の光軸ずれを補正するための補正信号を生成する制御部９と、ミラー１ｂの後段に設けられ、制御部９により生成された補正信号に基づいて入射光軸に対する自己の角度を調整する微動ミラー５とを備える。 （もっと読む）

【課題】２ステージレーザ装置のレーザ出力のばらつきを少なくし、より高いレーザ出力安定性、より高いレーザ出力を得る。
【解決手段】発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面プロファイルおよび増幅段レーザ装置２００で放電励起されるレーザビームの断面プロファイルをビームプロファイラ４０１で計測する。計測結果に基づいて、発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面と増幅段レーザ装置２００で放電励起されるレーザビームの断面のずれがなくなるように、発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面を光軸周りに回転させる調整を調整手段３００（平凸シリンドリカルレンズおよび平凸シリンドリカルレンズの回転機構）によって行う。 （もっと読む）

【課題】一体的に形成して位置決めが比較的容易なレーザ集光プリズムにおいて、比較的高出力なレーザ光を集光する場合であっても、よりシンプルな構造で、発熱をより低減することができるレーザ集光プリズムを提供する。
【解決手段】第１直角二等辺三角形を底面とする三角柱形状の第１プリズム３１と、第１直角二等辺三角形と同一形状の第２直角二等辺三角形を底面とする三角柱形状の第２プリズム３２と、第１直角二等辺三角形の斜辺の長さと、第２直角二等辺三角形の斜辺の長さとで、直角を挟む２辺を構成した第３直角二等辺三角形を底面とする三角柱形状の第３プリズム３３と、板状形状を有し、入射されたレーザ光を入射方向に向けて反射するとともに反射光の偏光方向を変換する偏光反射領域３４ａと、入射されたレーザ光を透過する透過領域３４ｂと、を有する反射透過板３４と、を一体的に組み付けて構成されたレーザ集光プリズム３０。 （もっと読む）

【課題】 良好な加工品質で加工を行う。
【解決手段】 外側の同心円の半径をｒ_１、内側の同心円の半径をｒ_２とし、輪帯状レーザビームの半径を（ｒ_１＋ｒ_２）／２、幅をｒ_１−ｒ_２で定義するとき、レーザビームを出射するレーザ光源と、加工対象物を保持する保持台と、レーザ光源を出射したレーザビームから、断面形状が輪帯状のレーザビームを生成し、保持台に保持された加工対象物に半径可変に入射させる光学系と、輪帯状のレーザビームの半径が変化したとき、輪帯状のレーザビームの同一方位上のピーク強度の変化を抑制する向きに、レーザ光源の出力または輪帯状のレーザビームの幅を変化させる制御装置とを有するレーザ加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】側面発光ファイバ・レーザ用装置を提供する。
【解決手段】ファイバ・レーザは光ファイバに結合された少なくとも１対の反射器を有し、少なくとも１対の反射器は、この少なくとも１対の反射器間に光キャビティを画定し、その光キャビティ内の光を反射するように構成される。少なくとも１つの光ポンプが光ファイバに結合され、ポンプ光を光キャビティに供給するように構成され、少なくとも１つの媒体が光キャビティ内に位置決めされ、光キャビティ内にポンプ光から信号光を発生させるように構成される。さらに、少なくとも１つのグレーティングが光キャビティ内に位置決めされ、光キャビティから外に信号光を結合するように構成される。 （もっと読む）