露光装置
【課題】マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのパターンを露光転写するのに好適な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、ワーク上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種の分割逐次露光方法としては、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、ワークを一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている。この露光方式では、ワークに形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
【０００３】
また、露光装置では、マスクの洗浄などのため、マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置とマスク保持部下の交換位置との間をマスクチェンジャーを用いてマスクを運搬し、マスク交換が行われている。
【０００４】
また、特許文献１に記載の露光装置では、マスクとマスク保持部との間で撓み制御空間を形成し、撓み制御空間の圧力をエアで制御することでマスクの撓みを防止することが開示されている。
【０００５】
特許文献２に記載の基板処理装置では、貫通孔を有するクリーナプレートとステージとの間にエアを送風することにより、プレートとステージとのギャップを一定に保ち、その状態でプレートを移動させることで、ステージを傷つけずに異物を除去することが開示されている。
【０００６】
特許文献３に記載の露光装置では、ガス置換された環境下において発生しやすい静電気によるマスクの帯電を防止するため、マスクに形成された導電帯膜をマスクステージを介して電気的に接地することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１３５０８７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０４６５０号公報
【特許文献３】特開２００１−１３３９５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、露光装置では、マスクをプリアライメントする際にマスクとマスクが接する面との間の摩擦によりマスクが損傷するのを防止することが要求されている。
【０００９】
特許文献１は、エアを使用してマスクの撓みを防止し、特許文献２は、エアを使用して基板の損傷を防止するものであり、摩擦によるマスクの損傷を防止するものではない。また、特許文献３も、帯電によるマスクの損傷を防止するものであり、摩擦によるマスクの損傷を防止するものではない。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、下記の構成によって達成される。
（１） 基板に対してマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置と、前記マスク保持部の下面と対向する交換位置との間を移動可能なマスクトレー部を有するマスクチェンジャーと、
を備え、
前記マスクトレー部は、
前記マスクの下面にエアを供給して、前記マスクを浮上させるエア供給機構と、
前記浮上したマスクの端面と当接して、前記マスクを位置決めする位置決め部と、
前記浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、
を有することを特徴とする露光装置。
（２） 前記マスクトレー部は、ベース部と、前記チェイサー板と前記ベース部との間に配置された複数のばね部材と、を有することを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（３） 前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の露光装置。
（４） 前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の露光装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の露光装置によれば、マスクチェンジャーのマスクトレー部は、マスクの下面にエアを供給して、マスクを浮上させるエア供給機構と、浮上したマスクの端面と当接して、マスクを位置決めする位置決め部と、浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、を有する。従って、位置決め部と押圧機構によって位置決めしながら浮上したマスクをプリアライメントすることができるので、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することができる。
【００１３】
また、マスクトレー部によってマスクを浮上させた状態で、押圧機構によって位置決め部に向けてマスクを移動させることでマスクのプリアライメントを行うことができ、マスクの交換時間を短縮することができると共に、マスクのプリアライメントのための装置を別途設ける必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる近接スキャン露光装置の全体斜視図である。
【図２】図２は、近接スキャン露光装置を、照射部等の上部構成を取り除いた状態で示す上面図である。
【図３】図３は、エアパッドの配列状態を説明するための図である。
【図４】図４は、基板搬送機構を説明するための概略側面図である。
【図５】図５は、近接スキャン露光装置のマスク配置領域における露光状態を示す側面図である。
【図６】図６（ａ）は、マスクとエアパッドとの位置関係を説明するための要部上面図であり、図６（ｂ）は、その断面図である。
【図７】図７は、基板プリアライメント機構及び基板アライメント機構を説明するための基板搬入領域の上面図である。
【図８】図８は、照射部の下面図である。
【図９】図９（ａ）は、遮光装置の概略スケルトン上面図であり、図９（ｂ）は、遮光装置の概略スケルトン側面図である。
【図１０】図１０（ａ）は、一対のブラインド部材とマスクとの関係を示すための要部拡大側面図であり、図１０（ｂ）は、一対のブラインド部材の一端部を示す要部拡大図である。
【図１１】図１１は、近接スキャン露光装置のマスク配置領域におけるマスク交換状態を示す側面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、受け渡し位置に位置するマスクチェンジャーをマスクプリアライメント機構を除いて示す上面図であり、（ｂ）はその側面図である。
【図１３】図１３は、マスクの交換手順を説明するための上面図である。
【図１４】図１４は、交換位置におけるマスク保持部とマスクトレー部を示す斜視図である。
【図１５】図１５は、複数のマスク駆動部の配置の変形例を示す概略図である。
【図１６】図１６は、複数のマスク駆動部の配置の他の変形例を示す該略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の露光装置の一実施形態に係る近接スキャン露光装置について図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
本実施形態の近接スキャン露光装置１は、図６に示すように、マスクＭに近接しながら所定方向に搬送される略矩形状の基板Ｗに対して、パターンＰを形成した複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにパターンＰを露光転写する。即ち、該露光装置１は、基板Ｗを複数のマスクＭに対して相対移動しながら露光転写が行われるスキャン露光装置である。なお、本実施形態で使用される略矩形状のマスクのサイズは、３００ｍｍ×３５０ｍｍに設定されており、パターンＰのＸ方向長さは、有効露光領域のＸ方向長さに対応する。
【００１７】
近接スキャン露光装置１は、図１及び図５に示すように、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向（図において、Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図において、Ｙ方向）に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部７１を有するマスク保持機構７０と、複数のマスク保持部７１の上部にそれぞれ配置され、露光用光ＥＬを照射する複数の照射部８０と、複数の照射部８０と複数のマスク保持部７１との間にそれぞれ配置され、照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光する複数の遮光装置９０と、複数のマスク保持部７１に保持される各マスクＭを交換するためのマスクチェンジャー１２０と、これらを制御する制御部１９０を備える。
【００１８】
これら基板搬送機構２０、マスク保持機構７０、複数の照射部８０、遮光装置９０、及び、マスクチェンジャー１２０は、レベルブロック３（図４参照。）を介して地面に設置される装置ベース２上に配置されている。ここで、基板搬送機構２０が基板Ｗを搬送する領域のうち、上方にマスク保持機構７０が配置される領域をマスク配置領域ＥＡ、マスク配置領域ＥＡに対して上流側の領域を基板搬入側領域ＩＡ、マスク配置領域ＥＡに対して下流側の領域を基板搬出側領域ＯＡと称す。
【００１９】
基板搬送機構２０は、装置ベース２上に他のレベルブロック４を介して設置された複数の角パイプ等によってそれぞれ構成される搬入フレーム５、精密フレーム６、搬出フレーム７上に配置され（図４参照。）、エアで基板Ｗを浮上させて支持する浮上ユニット２１と、浮上ユニット２１のＹ方向側方で、装置ベース２上にさらに他のレベルブロック８を介して設置されたフレーム９上に配置され、基板Ｗを把持すると共に、基板ＷをＸ方向に搬送する基板駆動ユニット４０と、基板搬入側領域ＩＡに設けられ、この基板搬入側領域ＩＡで待機される基板Ｗのプリアライメントを行う基板プリアライメント機構５０と、基板Ｗのアライメントを行う基板アライメント機構６０と、を有する。なお、各レベルブロック３，４，８は、除振台と置き換えられても良い。
【００２０】
浮上ユニット２１は、図３〜図５に示すように、搬入出及び精密フレーム５，６，７の上面から上方に延びる複数の連結棒２２が下面にそれぞれ取り付けられる長尺状の複数の排気エアパッド２３，２４及び長尺状の複数の吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂと、各エアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂに形成された複数の排気孔２６からエアを排出するエア排出系３０及びエア排出用ポンプ３１と、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂに形成された吸気孔２７からエアを吸引するためのエア吸引系３２及びエア吸引用ポンプ３３と、を備える。
【００２１】
基板搬入側領域ＩＡ及び基板搬出側領域ＯＡに配置される排気エアパッド２３は、長手方向が主にＸ方向に沿うように敷設されており、隣接するパッド同士の間隔を比較的大きくしてコストダウンを図っている。また、図３に示すように、マスク配置領域ＥＡに配置されるエアパッド２４，２５ａ，２５ｂのうち、排気エアパッド２４は、長手方向がＸ方向に沿うように敷設される一方、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、長手方向がＹ方向に沿うように敷設されている。
【００２２】
また、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、図５に示すように、複数の排気孔２６及び複数の吸気孔２７を有しており、エアパッド２５ａ，２５ｂの支持面３４と基板Ｗとの間のエア圧をバランス調整し、所定の浮上量に高精度で設定することができ、安定した高さで水平支持することができる。
【００２３】
図６に示すように、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、マスク保持部７１に保持された露光時におけるマスクＭの下方に位置するように対向配置され、マスクＭのパターンＰが形成された露光領域より大きく設計されている。このように吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂが、マスクＭの露光領域より大きく設計されることで、エアパッドによる露光むらが発生するのを抑制することができる。
【００２４】
なお、精密フレーム６は、マスク配置領域ＥＡに配置された吸排気エアパッド２４，２５ａ，２５ｂからＹ方向一側に延設されており、後述するマスクプリアライメント機構１４０を構成する排気エアパッド１４１が、長手方向をＹ方向に沿うように連続配置されている。
【００２５】
基板駆動ユニット４０は、図２に示すように、真空吸着により基板Ｗを把持する把持部材４１と、把持部材４１をＸ方向に沿って案内するリニアガイド４２と、把持部材４１をＸ方向に沿って駆動する駆動モータ４３及びボールねじ機構４４と、フレーム９の上面から突出するように、基板搬入領域ＩＡにおけるフレーム９の側方にＺ方向に移動可能且つ回転自在に取り付けられ、マスク保持機構７０への搬送待ちの基板Ｗの下面を支持する複数のワーク衝突防止ローラ４５と、を備える。なお、基板駆動ユニット４０は、基板Ｗの撓み等を考慮して、Ｙ方向一側のみに設けられているが、Ｙ方向両側に設けられる構成であってもよい。また、把持部材４１は、基板Ｗのθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）の駆動を許容する構成であってもよい。
【００２６】
基板プリアライメント機構５０は、図７に示すように、基板搬入側領域ＩＡのＸ方向上流側、及びＹ方向一側、即ち、基板搬入側領域ＩＡで待機される基板Ｗの対向辺の一側近傍に配置される複数の基準ピン５１，５２と、Ｘ方向下流側、及びＹ方向他側、即ち、待機した基板Ｗの対向辺の他側近傍に配置される複数の押し当てピン５３，５４と、基板Ｗを吸着すると共に、吸着した基板Ｗと共にＸ方向に駆動可能なハンドシェイクピン５５と、を有する。
【００２７】
Ｘ方向に対向して配置された基準ピン５１及び押し当てピン５３は、上面視で複数のエアパッド２３と重ならない位置に配置される。これら基準ピン５１及び押し当てピン５３はそれぞれ、図示しない駆動部により、搬入フレーム５の上面から上方に進退可能であると共に、Ｘ方向に移動可能である。Ｙ方向に対向して配置された基準ピン５２及び押し当てピン５４は、Ｙ方向両側の一対のフレーム１０（図１参照。）に跨ってＹ方向に延びる一対の連結フレーム１１に掛け渡されるＸ方向フレーム１８に取り付けられる。基準ピン５２は、図示しない駆動部により、下方に進退可能に設けられ、また、押し当てピン５４は、図示しない駆動部により、下方に進退可能であると共に、Ｙ方向に移動可能である。また、これら基準ピン５１，５２及び押し当てピン５３，５４は、基板Ｗの縁端面と当接する軸受ローラ５８，５９をそれぞれ有する。さらに、ハンドシェイクピン５５は、エアパッド２３が配置されていない基板Ｗと対向可能な位置で搬入フレーム５に設けられ、図示しない駆動部により基板搬入領域ＩＡの略２／３程度に亘ってＸ方向に移動可能である。
【００２８】
なお、基準ピン５１のＸ方向位置は、基板Ｗのサイズ変更や、基板毎のアライメントマーク位置の変更、後述する遮光装置９０との同期を図るための基板Ｗの搬送開始位置変更等によって調整される。また、各基準ピン及び押し当てピンの本数は、少なくとも図７に示された数、即ち、２本の基準ピン５１と、それぞれ１本の基準ピン５２、押し当てピン５３，５４だけ最低限あればよく、必要に応じて増加してもよい。
【００２９】
基板アライメント機構６０も、図７に示すように、基板Ｗに設けられた基準マークを検出する２つのアライメント用カメラ６１と、基板Ｗを吸着すると共に、吸着した基板Ｗと共にＹ方向にそれぞれ駆動可能な一対のθ補正用吸着ピン６２と、を有する。
【００３０】
アライメント用カメラ６１は、連結フレーム１１にそれぞれ取り付けられ、図示しない駆動部によりＹ方向に沿って移動可能である。これにより、カメラ６１が基準マークを検出することで、アライメント時の基板ＷのＸ，Ｙ，θ方向の補正移動量が算出される。一対の吸着ピン６２は、エアパッド２３が配置されていない基板Ｗと対向可能な位置で搬入フレーム５に設けられ、図示しない駆動部によりＹ方向及びＺ方向に移動可能である。従って、Ｘ方向に所定距離離れた一対の吸着ピン６２がＹ方向に相対的に移動することで、吸着された基板Ｗのθ方向の位置合わせが行われる。なお、基板ＷのＸ，Ｙ方向のアライメント調整は、把持部材４１のＸ方向補正、後述するマスク保持部７１のＹ方向補正によって行われる。
【００３１】
マスク保持機構７０は、図２及び図５に示すように、上述した複数のマスク保持部７１と、マスク保持部７１毎に設けられ、マスク保持部７１をＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向、即ち、所定方向、交差方向、所定方向及び交差方向との水平面に対する鉛直方向、及び、該水平面の法線回りに駆動する複数のマスク駆動部７２と、を有する。
【００３２】
Ｙ方向に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部７１は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部７１ａ（本実施形態では、６個）と、下流側に配置される複数の下流側マスク保持部７１ｂ（本実施形態では、６個）と、で構成され、装置ベース２のＹ方向両側に立設した柱部１２（図１参照。）間で上流側と下流側に２本ずつ架設されたメインフレーム１３にマスク駆動部７２を介してそれぞれ支持されている。各マスク保持部７１は、Ｚ方向に貫通する開口７７を有すると共に、その周縁部下面にマスクＭが真空吸着されている。
【００３３】
マスク駆動部７２は、メインフレーム１３に取り付けられ、Ｘ方向に沿って移動するＸ方向駆動部７３と、Ｘ方向駆動部７３の先端に取り付けられ、Ｚ方向に駆動するＺ方向駆動部７４と、Ｚ方向駆動部７４に取り付けられ、Ｙ方向に駆動するＹ方向駆動部７５と、Ｙ方向駆動部７５に取り付けられ、θ方向に駆動するθ方向駆動部７６と、を有し、θ方向駆動部７６の先端にマスク保持部７１が取り付けられている。従って、各駆動部７３，７４，７５，７６はＸ方向に並んで配置されており、マスク駆動部７２は、マスク保持部７１ａ，７１ｂのＸ方向側方で、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとが対向する側と反対側に延びて、メインフレーム１３に取り付けられている。
【００３４】
複数の照射部８０は、図５及び図８に示すように、筐体８１内に図示しない光源、ミラー、オプチカルインテグレータ、シャッター等を備え、マスク保持部７１に保持されたマスクＭに露光用光ＥＬを照射する。また、筐体８１の下面には、ガイドレール８２が取り付けられており、照射部８０は、メインフレーム１３や後述するサブフレーム１５に固設されたスライダ８３に案内され、マスク保持部７１の上方に配置される露光位置ＥＰ（図５の実線）と、露光位置ＥＰから外れた後退位置ＲＰ（図５の二点鎖線）との間をＸ方向に移動可能である。このため、照射部８０が後退位置ＲＰに位置される場合には、後述する中間連結フレーム１６の上方にスペースが形成されるので、作業者が中間連結フレーム１６上に乗って、マスク保持機構７０、後述する遮光装置９０、各種検出手段等の交換やメンテナンスを容易に行うことができる。
【００３５】
なお、露光位置ＥＰと後退位置ＲＰでの照射部８０の位置決めは、筐体８１の下面に設けられた一対のストッパ部材８４ａ，８４ｂをメインフレーム１３に設けられた固定部材８５に当接させることで行われる。また、照射部８０には、露光位置ＥＰに移動したことを検出する位置検知センサが構成されている。具体的には、露光位置ＥＰを規定するストッパ部材８４ａには、センサドグ８６が取り付けられており、固定部材８５近傍に設けられたフォトスイッチ８７によって、照射部８０が露光位置ＥＰに位置決めされたことを検知する。なお、図８に一点鎖線で示された固定部材８５及びフォトスイッチ８７は、照射部８０が露光位置ＥＰに位置する際の筐体８１との相対位置を示している。また、本実施形態では、各照射部８０のＸ方向移動量は、６７０ｍｍに設定されている。
【００３６】
複数の遮光装置９０は、図５、図９及び図１０に示すように、マスク保持部７１に保持されたマスクＭの近傍で、照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光するとともに、露光用光ＥＬを遮光する所定方向における遮光幅、即ち、Ｚ方向から見た投影面積が可変となるように、傾斜角度を変更する一対の板状のブラインド部材（遮光部材）１０８，１０９と、一対のブラインド部材１０８，１０９の傾斜角度を変更するブラインド駆動ユニット９２と、を有する。
【００３７】
ブラインド駆動ユニット９２は、上流側及び下流側のメインフレーム１３，１３との間で、装置ベース２のＹ方向両側に立設した柱部１４，１４（図１参照。）間で上流側と下流側に架設されたサブフレーム１５，１５にＺ軸駆動機構９１を介してＺ方向に昇降可能に固定される。
【００３８】
図９に示すように、ブラインド駆動ユニット９２は、開口９３ａを画成する筐体９３のＹ方向両側で、且つ、上下に取り付けられた４つのモータ９５ａ，９５ａ，９５ｂ，９５ｂと、モータ９５ａ，９５ｂの回転によってねじ軸９６ａ，９６ｂを回転させ、ナット９７ａ，９７ｂをＸ方向に移動させる４つのボールねじ機構９８ａ，９８ａ，９８ｂ，９８ｂと、ナット９７ａ，９７ｂをスライダ９９ａ，９９ｂと固定し、スライダ９９ａ，９９ｂがレール１００ａ，１００ｂに案内される４つのリニアガイド１０１ａ，１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｂと、下側のナット９７ａにねじ固定された連結部１０２ａを介して、ナット９７ａと共にＸ方向に移動し、一方のブラインド部材１０８が取り付けられる一対のアーム部１０３と、上側のナット９７ｂにねじ固定された連結部１０２ｂを介して、ナット９７ｂと共にＸ方向に移動し、他方のブラインド部材１０９が取り付けられる一対のアーム部１０４と、を備える。
【００３９】
また、各アーム部１０３，１０４はそれぞれ、図１０（ａ）に示すように、筐体９３からナット９７ａ，９７ｂと共にＸ方向に移動する第１アーム部１０５ａ，１０５ｂと、各一端が第１アーム部１０５ａ，１０５ｂの下端とそれぞれ連結し、各他端同士が互いに連結される第２アーム部１０６ａ，１０６ｂと、を備える。Ｙ方向両側に設けられた第２アーム部１０６ａの下方には、その長手方向がＹ方向に沿うように一方のブラインド部材１０８が固定される。また、Ｙ方向両側に設けられた第２アーム部１０６ｂの下方には、その長手方向がＹ方向に沿うように他方のブラインド部材１０９が固定される。
【００４０】
従って、遮光装置９０が照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光する場合には、一対のブラインド部材１０８，１０９が、開口９３ａ内の露光領域から外れた位置に収納された状態から、上側の一対のモータ９５ａ，９５ａを駆動して、第１アーム部１０５ｂを第１アーム部１０５ａから離間するようにＸ方向に移動させることで、一対のブラインド部材１０８，１０９が同一の傾斜角度を持って徐々に開かれる。これにより、ブラインド部材１０８，１０９が露光領域に進出した部分の露光用光ＥＬが遮光される。
【００４１】
さらに、下側の一対のモータ９５ｂ、９５ｂを駆動して、第１アーム部１０５ａを第１アーム部１０５ｂから離間するようにＸ方向に移動させることで、一対のブラインド部材１０８，１０９がさらに開かれ、露光領域全域をブラインド部材１０８，１０９によって遮光できる。
【００４２】
また、図１０（ｂ）に示すように、一方のブラインド部材１０８の一端部１０８ａは、略平板状に形成され、他方のブラインド部材１０９の一端部１０９ａは、一方のブラインド部材１０８の一端部１０８ａを覆う湾曲形状を有する。両ブラインド部材１０８，１０９は、駆動ユニット９２によって傾斜角度を可変とするが、これら一端部１０８ａ，１０９ａは、互いに近接対向し、傾斜角度に関わらず、上下方向から見て互いにオーバーラップしている。これにより、一対のブラインド部材１０８，１０９が傾斜角度を変えてＸ方向に移動した際に、互いの一端部側において露光用光ＥＬが漏れることが防止される。
【００４３】
また、一対のブラインド部材１０８，１０９は互いに平行となる位置まで傾斜角度を変更可能であるので、ブラインド部材１０８，１０９が露光領域を横切る際の露光量の低下を極力抑制することができる。
【００４４】
マスクチェンジャー１２０は、図１１及び図１２に示すように、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとの間に配置されており、マスクＭを保持すると共に、マスクＭをマスク保持部７１の下面に吸着させるべく、上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂの下面と対向可能な一対のマスクトレー部１２１と、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとの間で、これら一対のマスクトレー部１２１を連結する連結部１２２と、これら一対のマスクトレー部を連結部１２２と共にＹ方向に駆動するマスク交換用駆動部１２３と、を有する。
【００４５】
一対のマスクトレー部１２１は、平板状のベース部１９１と、このベース部１９１の上方でベース部１９１に対して水平方向に相対移動可能に配置される平板状のチェイサー板１９２と、このチェイサー板１９２の周縁部の上面に設けられ、マスクＭが載置可能であると共に、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させる複数のエア供給機構１２５と、を備える。
【００４６】
また、一対のマスクトレー部１２１は、チェイサー板１９２とベース部１９１との間に配置された複数のばね部材１９４と、後述するマスクプリアライメントの際に、浮上したマスクＭの端面と当接して、チェイサー板１９２に対してマスクＭを水平方向に位置決めするための複数のマスク用位置決めピン（位置決め部）１９６と、同じくマスクプリアライメントの際に、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を備える。
【００４７】
チェイサー板１９２は、ばね部材１９４を介してベース部１９１の上方で支持されている。このため、チェイサー板１９２は、ベース部１９１に対して相対移動可能であるとともに、マスクＭとともにマスク保持部７１の移動に追従させることができる。これにより、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるとき、マスク保持部７１が一定の位置に降下する際、ばね部材１９４を伸縮させることで、マスクＭの取付位置を変えることができ、マスクＭの吸着力を一定にすることができる。また、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるときに、マスク保持部７１がマスクＭに衝突したとしても、ばね部材１９４を伸縮させることでマスクＭに過大な力が掛かるのを抑制することができ、マスクＭが変形したり、マスクＭが破損したりするのを防止することができる。
【００４８】
マスク用位置決めピン１９６は、複数のエア供給機構１２５によって浮上されるマスクＭの端面がプリアライメントされる際に当接可能な位置で、Ｘ方向一方側及びＹ方向一方側でベース部１９１上に配置されている。
【００４９】
押圧機構１９８は、マスク用位置決めピン１９６が配置される側と反対側のＸ方向他方側及びＹ方向他方側でベース部１９１上に配置されている。押圧機構１９８は、図示しない、シリンダ機構または、サーボ機構などによって構成され、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けてＸ方向及びＹ方向から押圧し、マスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に当接させることで、マスクＭのプリアライメントが行われる。なお、マスク用位置決めピン１９６及び押圧機構１９８は、チェイサー板１９２上に配置されてもよい。
【００５０】
連結部１２２は、上部にスライダ１２７が取り付けられる連結部本体１２８と、千鳥状に配置されるマスク保持部７１の配置に併せて、一対のマスクトレー部１２１をＸ方向に対して斜めに連結する一対の腕部１２９と、を有している。
【００５１】
マスク交換用駆動部１２３は、Ｙ方向に延びる中間連結フレーム１６の下部に同じくＹ方向に延設された支持部１３１内に収容され、駆動モータ１３２によって回転駆動されるベルト１３３と、連結部１２２に固定されると共に、ベルト１３３の一部と連結され、ベルト１３３の回転によりＹ方向に駆動される可動部１３４と、を有する。可動部１３４は、支持部１３１の開口部１３１ａから側方に延び、下方に位置する連結部１２２に固定される。また、支持部１３１の下部にはガイドレール１３５が設けられ、ガイドレール１３５を跨ぐスライダ１２７によって一対のマスクトレー部１２１をＹ方向に案内する。なお、中間連結フレーム１６は、上流側及び下流側のサブフレーム１５，１５をＹ方向両側で連結するＸ方向に延びるフレーム１７，１７の中間部に取り付けられている（図１参照。）。
【００５２】
従って、連結部１２２を介して可動部１３４と連結された一対のマスクトレー部１２１は、マスクＭを交換すべく、ベルト１３３を駆動して、マスクＭを搬入又は搬出するための受け渡し位置ＷＰと、各マスク保持部７１の下面と対向する交換位置ＣＰとの間でＹ方向に移動する。この受け渡し位置ＷＰは、マスクトレー部１２１やマスク交換駆動部１２３等が基板駆動ユニット４０の各部品と干渉しないように、基板駆動ユニット４０が設置されるＹ方向の一端側と反対側に設けられている。
【００５３】
また、図１２に示すように、マスクトレー部１２１のベース部１９１は、複数の照射部８０からの各露光用光ＥＬが照射される各位置に、各露光用光ＥＬの照度を検出する照度センサ１９９を備える。また、各照射部８０には、照射部８０内での露光用光ＥＬの照度を検出する他の照度センサが設けられており、制御部１９０は、照度センサ１９９を用いて、各照射部８０における照度が目標照度値となるように光源の電流値を制御し、また、複数の他の照度センサによって各照射部８０における照度値が維持されるように制御することで、複数の照射部８０における各光源の照度を同一に制御することができる。
【００５４】
また、図４及び図１１に示すように、近接スキャン露光装置１には、レーザー変位計１６０，１６１、マスクアライメント用カメラ１７１、追従用カメラ１７２、追従用照明１７３等の各種検出手段が配置されている。
【００５５】
レーザー変位計１６０（１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃ）は、基板Ｗと各マスクＭとが対向する領域で少なくとも３箇所の位置にそれぞれ設けられている。マスクＭの上方に位置する一つのレーザー変位計１６０ａは、マスク保持部７１に取り付けられており、基板ＷとマスクＭとのギャップを検出するギャップセンサを構成する。基板の下方に位置する２つのレーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃは、マスクＭの下方に位置する露光領域より大きいエアパッド２５ａの側方で、基板ＷとマスクＭとが対向する位置に配置され、基板Ｗの厚さを検出する（図３参照。）。なお、基板Ｗが素ガラスの場合には、レーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃは、上記ギャップも検出可能であり、レーザー変位計１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃが、ギャップセンサを構成する。
【００５６】
マスクアライメント用カメラ１７１は、マスクＭに形成された基準マークを撮像して、後述する制御部１９０に送信する。追従用カメラ１７２は、マスクＭと基板Ｗとの相対位置ズレを検出するため、基板Ｗ上の基準マーク、又は基板Ｗに形成された下地パターンを撮像して、後述する制御部１９０に送信する。
【００５７】
これら２つのレーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃ、マスクアライメント用カメラ１７１、追従用カメラ１７２は、マスク配置領域ＥＡの隣接するエアパッド２４，２５ａ，２５ｂ間に、エアパッド２４，２５ａ，２５ｂの上面より突出しないように精密フレーム６に取り付けられている。
【００５８】
また、レーザー変位計１６１は、搬入フレーム５に取り付けられ、基板Ｗの厚さを検出する。追従用照明１７３は、ブラインド駆動ユニット９２の筐体９３に取り付けられる。
【００５９】
ここで、図４に示すように、搬入、精密、搬出フレーム５，６，７は、装置ベース２上に水平方向に延びる複数の角パイプ１８０、及び鉛直方向に延びる複数の角パイプ１８１を連結して構成され、Ｘ方向及びＹ方向に貫通するスペース１８２を画成している。これにより、作業者は、このスペース１８２内に入り込んで、例えば、エアパッド２２，２３，２４，２５ａ，２５ｂや、上述した各種検出手段、ワーク衝突防止ローラ４５、また、基準ピン５１、押し付けピン５３、ハンドシェイクピン５５、吸着ピン６２、及びこれらピン５１，５３，５５，６２の駆動軸等、これら補機類の交換、メンテナンス作業等を容易に行うことができる。
【００６０】
制御部１９０は、上記検出手段や上記各駆動部を含む基板搬送機構２０、マスク保持機構７０、照射部８０、遮光装置９０、マスクチェンジャー１２０等の各機構と接続されており、プログラムや各検出手段からの検出信号に基づいて各機構を駆動制御する。特に、制御部１９０は、露光時において、マスクＭと基板Ｗとの相対位置ズレを検出し、検出された相対位置ズレに基づいてマスク駆動部７２を駆動させ、マスクＭの位置を基板Ｗにリアルタイムで追従させる。同時に、マスクＭと基板Ｗとのギャップを検出し、検出されたギャップに基づいてマスク駆動部７２を駆動させ、マスクＭと基板Ｗのギャップをリアルタイムで補正する。
【００６１】
次に、以上のように構成される近接スキャン露光装置１を用いて、基板Ｗの露光転写について説明する。なお、本実施形態では、下地パターン（例えば、ブラックマトリクス）が描画されたカラーフィルタ基板Ｗに対して、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかのパターンを描画する場合について説明する。
【００６２】
近接スキャン露光装置１は、図示しないローダ等によって、基板搬入領域ＩＡに搬送された基板Ｗを排気エアパッド２３からのエアによって浮上させて支持し、基板Ｗのプリアライメント作業、アライメント作業を行った後、基板駆動ユニット４０の把持部材４１にてチャックされた基板Ｗをマスク配置領域ＥＡに搬送する。
【００６３】
そして、基板Ｗがマスク配置領域ＥＡに設けられた排気エアパッド２４及び吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂ上に移動し、振動を極力排除した状態で浮上させて支持される。そして、照射部８０内の光源から露光用光ＥＬを出射すると、かかる露光用光ＥＬは、マスク保持部７１に保持されたマスクＭを通過し、パターンを基板Ｗに露光転写する。
【００６４】
このとき、基板Ｗの移動誤差によるパターンのズレが、追従用カメラ１７２によって検出された下地パターンの画像を処理することで与えられる。そして、マスク駆動部７２が、この処理された画像データに応じてマスクＭの位置を微調整することで、パターンのズレをリアルタイムに補正することができる。
【００６５】
また、露光動作中、各マスク毎に設置されたレーザー変位計１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃは、基板ＷとマスクＭとの間のギャップを検出している。そして、検出されたギャップに基づいて、マスク駆動部７２のＺ方向駆動部７４が、マスク保持部７１を上下方向にリアルタイムに駆動制御する。このため、基板Ｗが基板搬送機構２０によって搬送される際、基板Ｗの厚さばらつきにより、３０μｍ〜４０μｍ程度の高さのばらつきが発生する場合があるが、上記制御によりリアルタイムでのギャップ調整を可能としている。
【００６６】
以上、同様にして、連続露光することで、基板Ｗ全体にパターンの露光を行うことができる。マスク保持部７１に保持されたマスクＭは、千鳥状に配置されているので、上流側或いは下流側のマスク保持部７１ａ，７１ｂに保持されるマスクＭが離間して並べられていても、基板Ｗに隙間なくパターンを形成することができる。
【００６７】
また、マスクＭを所定のタイミングで洗浄するために、マスクチェンジャー１２０を用いて随時マスクＭの交換が行われる。該マスク交換は、図１３に示すように、まず、Ｙ方向一端に配置された１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１において左右同時に行われ、順次、隣の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ２，７１ｂ２，．．．，７１ａ５，７１ｂ５にて行われ、最後に、Ｙ方向他端に配置された６番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ６，７１ｂ６にて行われる。
【００６８】
具体的に、まず、マスク駆動部７２は、全てのマスク保持部７１を、マスク交換を行うための退避位置に上昇させる。この時、遮光装置９０も筐体９３を上昇して退避させる。そして、マスクＭが搭載されていない空の一対のマスクトレー部１２１を１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１の下方（交換位置ＣＰ）へ移動させる。そして、１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１のマスク駆動部７２を駆動して、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を着脱位置まで下降させる。
【００６９】
次に、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１に保持された使用済みのマスクＭをマスクトレー部１２１が受け取る。具体的に、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１が使用済みのマスクＭの吸着を解除すると共に、マスクトレー部１２１では、エア供給機構１２５からエアをマスクＭの下面に送り、押圧機構１９８によって浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧することでチェイサー板１９２に対して浮上したマスクを位置決め保持する。その後、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を退避位置まで上昇させ、マスクトレー部１２１を受け渡し位置ＷＰに移動させる。マスクＭを搬送する際には、マスク用位置決めピン１９６と押圧機構１９８によって位置決めしつつ、浮上したマスクＭを搬送してもよく、或いは、マスクＭを浮上させずにエア供給機構１２５の上面に載置した状態でマスクＭを搬送してもよい。特に、マスクＭを浮上させながら、マスクトレー部１２１がマスクＭの受け渡し位置ＷＰと交換位置ＣＰとの間を移動することで、摩擦によってマスクＭが損傷するのを防止することができる。
【００７０】
受け渡し位置ＷＰでは、まず、図示しないマスクローダにより、浮上している使用済みのマスクＭをマスクトレー部１２１から図示しないカセットに戻す。その後、未使用（洗浄済み）のマスクＭをマスクローダによりカセットからマスクトレー部１２１に載置すると、マスクＭのプリアライメントが行われる。
【００７１】
具体的に、未使用のマスクＭは、エア供給機構１２５から供給されたエアによって浮上して保持され、押圧機構１９８によって浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧することでチェイサー板１９２に対して浮上したマスクＭが位置決め保持される。これにより、未使用のマスクＭのプリアライメントが完了する。なお、マスクＭのプリアライメントは、各マスク保持部７１ａ，７１ｂの下方へ移動した際、マスクアライメント用カメラ１７１を用いて行うことも可能である。また、マスクＭのプリアライメントは、マスクＭの搬送中でも可能であり、これにより、タクトタイムの短縮、スループットの向上につながる。
【００７２】
そして、マスクＭが載置されたトレー部１２１を再び、１番目の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１の下方へ移動させた後、１番目のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を再び着脱位置まで下降させる。
【００７３】
また、１番目のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１をマスク駆動部７２により移動させ、未使用のマスクＭの位置を微調整する。その後、未使用のマスクＭがマスクトレー部１２１上で浮上した状態で、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１でマスクＭが吸着される。また、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１が退避位置まで上昇する。これにより、１番目のマスクＭの交換を完了する。なお、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１でのマスクＭの吸着は、マスクＭを浮上させずに行うことも可能である。
【００７４】
次に、空きとなったマスクトレー部１２１をＹ方向一端から隣の２番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ２，７１ｂ２の下方へ移動させる。
【００７５】
以降、上記動作を繰り返し行い、Ｙ方向他端側の６番目のマスク保持部７１ａ６，７１ｂ６のマスクＭが交換されるまで行われ、マスクＭの交換作業が完了する。交換作業の完了後は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は受け渡し位置ＷＰに移動する。従って、上記マスク交換によれば、一対のマスクトレー部１２１の１往復の動作で１対のマスクＭの回収及び装着を実現でき、タクトタイムの短縮を図ることができる。
【００７６】
以上説明したように、本実施形態の近接スキャン露光装置１によれば、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。従って、マスク用位置決めピン１９６と押圧機構１９８によって位置決めしながら浮上したマスクをプリアライメントすることができるので、マスクＭとマスクＭが接する面との間の摩擦によってマスクＭが損傷するのを防止することができる。また、マスクトレー部１２１によってマスクＭを浮上させた状態で、押圧機構１９８によってマスク用位置決めピン１９６に向けてマスクＭを移動させることでマスクＭのプリアライメントを行うことができ、マスクＭの交換時間を短縮することができると共に、マスクＭのプリアライメントのための装置を別途設ける必要がない。
【００７７】
また、一対のマスクトレー部１２１は、チェイサー板１９２とベース部１９１との間に配置された複数のばね部材１９４を有するので、マスクＭを浮上させずにマスク保持部７１にマスクＭを取り付ける場合であっても、マスク保持部７１が一定の位置に降下する際、ばね部材１９４を伸縮させることで、マスクＭの取付位置を変えることができ、マスクＭの吸着力を一定にすることができる。また、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるときに、マスク保持部７１がマスクＭに衝突したとしても、ばね部材１９４を伸縮させることでマスクＭに過大な力が掛かるのを抑制することができ、マスクＭが変形したり、マスクＭが破損したりするのを防止することができる。
【００７８】
なお、本実施形態では、複数のマスク駆動部７２は、複数の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂが互いに対向する側と反対側に延びて配置される場合、マスクトレー部１２１は、受け渡し位置ＷＰと各上流側マスク保持部７１ａの各交換位置ＣＰとの間を移動可能な上流側マスクトレー部と、受け渡し位置ＷＰと各下流側マスク保持部７１ｂの各交換位置ＣＰとの間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部１２３を有する。一方、図１５に示すように、複数のマスク駆動部７２が、複数の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂ間に位置するように配置されている場合には、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部１２３を有するようにしてもよい。また、図１６に示すように、複数のマスク駆動部７２がすべて、上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂの下流側に延びて配置されている場合にも、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部１２３を有するようにしてもよい。
【００７９】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、その発明の範囲内で変更・改良が可能であることはもちろんである。
【００８０】
本発明の基板を浮上させて支持する機構は、本実施形態のように、低コストで入手でき取り扱いが容易なエアを利用した浮上ユニットであると好ましいが、それに限られない。また、本発明の基板を浮上させて支持する機構は、少なくとも露光領域に設けられていればよく、他の領域においては、支持面から突出する複数のローラで基板Ｗを支持し、支持面から浮上させる構成であってもよい。
【００８１】
また、本発明のマスクチェンジャー１２０は、一対のマスクトレー部１２１がそれぞれ１枚ずつマスクＭを搬送しているが、それぞれ複数枚ずつマスクＭを搬送するように構成してもよい。
【符号の説明】
【００８２】
１ 近接スキャン露光装置（露光装置）
２ 装置ベース
３，４，８ レベルブロック
１３ メインフレーム
１５ サブフレーム
２０ 基板搬送機構
２１ 浮上ユニット
４０ 基板駆動ユニット
５０ 基板プリアライメント機構
６０ 基板アライメント機構
７０ マスク保持機構
７１ マスク保持部
７２ マスク駆動部
８０ 照射部
８２ ガイドレール
８３ スライダ
９０ 遮光装置
１２０ マスクチェンジャー
１２１ マスクトレー部
１２５ エア供給機構
１９０ 制御部
１９２ チェイサー板
１９４ ばね部材
１９６ マスク用位置決めピン（位置決め部）
１９８ 押圧機構
１９９ 照度センサ
ＣＰ 交換位置
ＷＰ 受け渡し位置
ＥＰ 露光位置
ＲＰ 後退位置
ＩＡ 基板搬入側領域
ＥＡ マスク配置領域
ＯＡ 基板搬出領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのパターンを露光転写するのに好適な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、ワーク上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種の分割逐次露光方法としては、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、ワークを一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている。この露光方式では、ワークに形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
【０００３】
また、露光装置では、マスクの洗浄などのため、マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置とマスク保持部下の交換位置との間をマスクチェンジャーを用いてマスクを運搬し、マスク交換が行われている。
【０００４】
また、特許文献１に記載の露光装置では、マスクとマスク保持部との間で撓み制御空間を形成し、撓み制御空間の圧力をエアで制御することでマスクの撓みを防止することが開示されている。
【０００５】
特許文献２に記載の基板処理装置では、貫通孔を有するクリーナプレートとステージとの間にエアを送風することにより、プレートとステージとのギャップを一定に保ち、その状態でプレートを移動させることで、ステージを傷つけずに異物を除去することが開示されている。
【０００６】
特許文献３に記載の露光装置では、ガス置換された環境下において発生しやすい静電気によるマスクの帯電を防止するため、マスクに形成された導電帯膜をマスクステージを介して電気的に接地することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１３５０８７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０４６５０号公報
【特許文献３】特開２００１−１３３９５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、露光装置では、マスクをプリアライメントする際にマスクとマスクが接する面との間の摩擦によりマスクが損傷するのを防止することが要求されている。
【０００９】
特許文献１は、エアを使用してマスクの撓みを防止し、特許文献２は、エアを使用して基板の損傷を防止するものであり、摩擦によるマスクの損傷を防止するものではない。また、特許文献３も、帯電によるマスクの損傷を防止するものであり、摩擦によるマスクの損傷を防止するものではない。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、下記の構成によって達成される。
（１） 基板に対してマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置と、前記マスク保持部の下面と対向する交換位置との間を移動可能なマスクトレー部を有するマスクチェンジャーと、
を備え、
前記マスクトレー部は、
前記マスクの下面にエアを供給して、前記マスクを浮上させるエア供給機構と、
前記浮上したマスクの端面と当接して、前記マスクを位置決めする位置決め部と、
前記浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、
を有することを特徴とする露光装置。
（２） 前記マスクトレー部は、ベース部と、前記チェイサー板と前記ベース部との間に配置された複数のばね部材と、を有することを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（３） 前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の露光装置。
（４） 前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の下面と対向する各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の露光装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の露光装置によれば、マスクチェンジャーのマスクトレー部は、マスクの下面にエアを供給して、マスクを浮上させるエア供給機構と、浮上したマスクの端面と当接して、マスクを位置決めする位置決め部と、浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、を有する。従って、位置決め部と押圧機構によって位置決めしながら浮上したマスクをプリアライメントすることができるので、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することができる。
【００１３】
また、マスクトレー部によってマスクを浮上させた状態で、押圧機構によって位置決め部に向けてマスクを移動させることでマスクのプリアライメントを行うことができ、マスクの交換時間を短縮することができると共に、マスクのプリアライメントのための装置を別途設ける必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる近接スキャン露光装置の全体斜視図である。
【図２】図２は、近接スキャン露光装置を、照射部等の上部構成を取り除いた状態で示す上面図である。
【図３】図３は、エアパッドの配列状態を説明するための図である。
【図４】図４は、基板搬送機構を説明するための概略側面図である。
【図５】図５は、近接スキャン露光装置のマスク配置領域における露光状態を示す側面図である。
【図６】図６（ａ）は、マスクとエアパッドとの位置関係を説明するための要部上面図であり、図６（ｂ）は、その断面図である。
【図７】図７は、基板プリアライメント機構及び基板アライメント機構を説明するための基板搬入領域の上面図である。
【図８】図８は、照射部の下面図である。
【図９】図９（ａ）は、遮光装置の概略スケルトン上面図であり、図９（ｂ）は、遮光装置の概略スケルトン側面図である。
【図１０】図１０（ａ）は、一対のブラインド部材とマスクとの関係を示すための要部拡大側面図であり、図１０（ｂ）は、一対のブラインド部材の一端部を示す要部拡大図である。
【図１１】図１１は、近接スキャン露光装置のマスク配置領域におけるマスク交換状態を示す側面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、受け渡し位置に位置するマスクチェンジャーをマスクプリアライメント機構を除いて示す上面図であり、（ｂ）はその側面図である。
【図１３】図１３は、マスクの交換手順を説明するための上面図である。
【図１４】図１４は、交換位置におけるマスク保持部とマスクトレー部を示す斜視図である。
【図１５】図１５は、複数のマスク駆動部の配置の変形例を示す概略図である。
【図１６】図１６は、複数のマスク駆動部の配置の他の変形例を示す該略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の露光装置の一実施形態に係る近接スキャン露光装置について図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
本実施形態の近接スキャン露光装置１は、図６に示すように、マスクＭに近接しながら所定方向に搬送される略矩形状の基板Ｗに対して、パターンＰを形成した複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにパターンＰを露光転写する。即ち、該露光装置１は、基板Ｗを複数のマスクＭに対して相対移動しながら露光転写が行われるスキャン露光装置である。なお、本実施形態で使用される略矩形状のマスクのサイズは、３００ｍｍ×３５０ｍｍに設定されており、パターンＰのＸ方向長さは、有効露光領域のＸ方向長さに対応する。
【００１７】
近接スキャン露光装置１は、図１及び図５に示すように、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向（図において、Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図において、Ｙ方向）に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部７１を有するマスク保持機構７０と、複数のマスク保持部７１の上部にそれぞれ配置され、露光用光ＥＬを照射する複数の照射部８０と、複数の照射部８０と複数のマスク保持部７１との間にそれぞれ配置され、照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光する複数の遮光装置９０と、複数のマスク保持部７１に保持される各マスクＭを交換するためのマスクチェンジャー１２０と、これらを制御する制御部１９０を備える。
【００１８】
これら基板搬送機構２０、マスク保持機構７０、複数の照射部８０、遮光装置９０、及び、マスクチェンジャー１２０は、レベルブロック３（図４参照。）を介して地面に設置される装置ベース２上に配置されている。ここで、基板搬送機構２０が基板Ｗを搬送する領域のうち、上方にマスク保持機構７０が配置される領域をマスク配置領域ＥＡ、マスク配置領域ＥＡに対して上流側の領域を基板搬入側領域ＩＡ、マスク配置領域ＥＡに対して下流側の領域を基板搬出側領域ＯＡと称す。
【００１９】
基板搬送機構２０は、装置ベース２上に他のレベルブロック４を介して設置された複数の角パイプ等によってそれぞれ構成される搬入フレーム５、精密フレーム６、搬出フレーム７上に配置され（図４参照。）、エアで基板Ｗを浮上させて支持する浮上ユニット２１と、浮上ユニット２１のＹ方向側方で、装置ベース２上にさらに他のレベルブロック８を介して設置されたフレーム９上に配置され、基板Ｗを把持すると共に、基板ＷをＸ方向に搬送する基板駆動ユニット４０と、基板搬入側領域ＩＡに設けられ、この基板搬入側領域ＩＡで待機される基板Ｗのプリアライメントを行う基板プリアライメント機構５０と、基板Ｗのアライメントを行う基板アライメント機構６０と、を有する。なお、各レベルブロック３，４，８は、除振台と置き換えられても良い。
【００２０】
浮上ユニット２１は、図３〜図５に示すように、搬入出及び精密フレーム５，６，７の上面から上方に延びる複数の連結棒２２が下面にそれぞれ取り付けられる長尺状の複数の排気エアパッド２３，２４及び長尺状の複数の吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂと、各エアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂに形成された複数の排気孔２６からエアを排出するエア排出系３０及びエア排出用ポンプ３１と、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂに形成された吸気孔２７からエアを吸引するためのエア吸引系３２及びエア吸引用ポンプ３３と、を備える。
【００２１】
基板搬入側領域ＩＡ及び基板搬出側領域ＯＡに配置される排気エアパッド２３は、長手方向が主にＸ方向に沿うように敷設されており、隣接するパッド同士の間隔を比較的大きくしてコストダウンを図っている。また、図３に示すように、マスク配置領域ＥＡに配置されるエアパッド２４，２５ａ，２５ｂのうち、排気エアパッド２４は、長手方向がＸ方向に沿うように敷設される一方、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、長手方向がＹ方向に沿うように敷設されている。
【００２２】
また、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、図５に示すように、複数の排気孔２６及び複数の吸気孔２７を有しており、エアパッド２５ａ，２５ｂの支持面３４と基板Ｗとの間のエア圧をバランス調整し、所定の浮上量に高精度で設定することができ、安定した高さで水平支持することができる。
【００２３】
図６に示すように、吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂは、マスク保持部７１に保持された露光時におけるマスクＭの下方に位置するように対向配置され、マスクＭのパターンＰが形成された露光領域より大きく設計されている。このように吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂが、マスクＭの露光領域より大きく設計されることで、エアパッドによる露光むらが発生するのを抑制することができる。
【００２４】
なお、精密フレーム６は、マスク配置領域ＥＡに配置された吸排気エアパッド２４，２５ａ，２５ｂからＹ方向一側に延設されており、後述するマスクプリアライメント機構１４０を構成する排気エアパッド１４１が、長手方向をＹ方向に沿うように連続配置されている。
【００２５】
基板駆動ユニット４０は、図２に示すように、真空吸着により基板Ｗを把持する把持部材４１と、把持部材４１をＸ方向に沿って案内するリニアガイド４２と、把持部材４１をＸ方向に沿って駆動する駆動モータ４３及びボールねじ機構４４と、フレーム９の上面から突出するように、基板搬入領域ＩＡにおけるフレーム９の側方にＺ方向に移動可能且つ回転自在に取り付けられ、マスク保持機構７０への搬送待ちの基板Ｗの下面を支持する複数のワーク衝突防止ローラ４５と、を備える。なお、基板駆動ユニット４０は、基板Ｗの撓み等を考慮して、Ｙ方向一側のみに設けられているが、Ｙ方向両側に設けられる構成であってもよい。また、把持部材４１は、基板Ｗのθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）の駆動を許容する構成であってもよい。
【００２６】
基板プリアライメント機構５０は、図７に示すように、基板搬入側領域ＩＡのＸ方向上流側、及びＹ方向一側、即ち、基板搬入側領域ＩＡで待機される基板Ｗの対向辺の一側近傍に配置される複数の基準ピン５１，５２と、Ｘ方向下流側、及びＹ方向他側、即ち、待機した基板Ｗの対向辺の他側近傍に配置される複数の押し当てピン５３，５４と、基板Ｗを吸着すると共に、吸着した基板Ｗと共にＸ方向に駆動可能なハンドシェイクピン５５と、を有する。
【００２７】
Ｘ方向に対向して配置された基準ピン５１及び押し当てピン５３は、上面視で複数のエアパッド２３と重ならない位置に配置される。これら基準ピン５１及び押し当てピン５３はそれぞれ、図示しない駆動部により、搬入フレーム５の上面から上方に進退可能であると共に、Ｘ方向に移動可能である。Ｙ方向に対向して配置された基準ピン５２及び押し当てピン５４は、Ｙ方向両側の一対のフレーム１０（図１参照。）に跨ってＹ方向に延びる一対の連結フレーム１１に掛け渡されるＸ方向フレーム１８に取り付けられる。基準ピン５２は、図示しない駆動部により、下方に進退可能に設けられ、また、押し当てピン５４は、図示しない駆動部により、下方に進退可能であると共に、Ｙ方向に移動可能である。また、これら基準ピン５１，５２及び押し当てピン５３，５４は、基板Ｗの縁端面と当接する軸受ローラ５８，５９をそれぞれ有する。さらに、ハンドシェイクピン５５は、エアパッド２３が配置されていない基板Ｗと対向可能な位置で搬入フレーム５に設けられ、図示しない駆動部により基板搬入領域ＩＡの略２／３程度に亘ってＸ方向に移動可能である。
【００２８】
なお、基準ピン５１のＸ方向位置は、基板Ｗのサイズ変更や、基板毎のアライメントマーク位置の変更、後述する遮光装置９０との同期を図るための基板Ｗの搬送開始位置変更等によって調整される。また、各基準ピン及び押し当てピンの本数は、少なくとも図７に示された数、即ち、２本の基準ピン５１と、それぞれ１本の基準ピン５２、押し当てピン５３，５４だけ最低限あればよく、必要に応じて増加してもよい。
【００２９】
基板アライメント機構６０も、図７に示すように、基板Ｗに設けられた基準マークを検出する２つのアライメント用カメラ６１と、基板Ｗを吸着すると共に、吸着した基板Ｗと共にＹ方向にそれぞれ駆動可能な一対のθ補正用吸着ピン６２と、を有する。
【００３０】
アライメント用カメラ６１は、連結フレーム１１にそれぞれ取り付けられ、図示しない駆動部によりＹ方向に沿って移動可能である。これにより、カメラ６１が基準マークを検出することで、アライメント時の基板ＷのＸ，Ｙ，θ方向の補正移動量が算出される。一対の吸着ピン６２は、エアパッド２３が配置されていない基板Ｗと対向可能な位置で搬入フレーム５に設けられ、図示しない駆動部によりＹ方向及びＺ方向に移動可能である。従って、Ｘ方向に所定距離離れた一対の吸着ピン６２がＹ方向に相対的に移動することで、吸着された基板Ｗのθ方向の位置合わせが行われる。なお、基板ＷのＸ，Ｙ方向のアライメント調整は、把持部材４１のＸ方向補正、後述するマスク保持部７１のＹ方向補正によって行われる。
【００３１】
マスク保持機構７０は、図２及び図５に示すように、上述した複数のマスク保持部７１と、マスク保持部７１毎に設けられ、マスク保持部７１をＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向、即ち、所定方向、交差方向、所定方向及び交差方向との水平面に対する鉛直方向、及び、該水平面の法線回りに駆動する複数のマスク駆動部７２と、を有する。
【００３２】
Ｙ方向に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部７１は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部７１ａ（本実施形態では、６個）と、下流側に配置される複数の下流側マスク保持部７１ｂ（本実施形態では、６個）と、で構成され、装置ベース２のＹ方向両側に立設した柱部１２（図１参照。）間で上流側と下流側に２本ずつ架設されたメインフレーム１３にマスク駆動部７２を介してそれぞれ支持されている。各マスク保持部７１は、Ｚ方向に貫通する開口７７を有すると共に、その周縁部下面にマスクＭが真空吸着されている。
【００３３】
マスク駆動部７２は、メインフレーム１３に取り付けられ、Ｘ方向に沿って移動するＸ方向駆動部７３と、Ｘ方向駆動部７３の先端に取り付けられ、Ｚ方向に駆動するＺ方向駆動部７４と、Ｚ方向駆動部７４に取り付けられ、Ｙ方向に駆動するＹ方向駆動部７５と、Ｙ方向駆動部７５に取り付けられ、θ方向に駆動するθ方向駆動部７６と、を有し、θ方向駆動部７６の先端にマスク保持部７１が取り付けられている。従って、各駆動部７３，７４，７５，７６はＸ方向に並んで配置されており、マスク駆動部７２は、マスク保持部７１ａ，７１ｂのＸ方向側方で、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとが対向する側と反対側に延びて、メインフレーム１３に取り付けられている。
【００３４】
複数の照射部８０は、図５及び図８に示すように、筐体８１内に図示しない光源、ミラー、オプチカルインテグレータ、シャッター等を備え、マスク保持部７１に保持されたマスクＭに露光用光ＥＬを照射する。また、筐体８１の下面には、ガイドレール８２が取り付けられており、照射部８０は、メインフレーム１３や後述するサブフレーム１５に固設されたスライダ８３に案内され、マスク保持部７１の上方に配置される露光位置ＥＰ（図５の実線）と、露光位置ＥＰから外れた後退位置ＲＰ（図５の二点鎖線）との間をＸ方向に移動可能である。このため、照射部８０が後退位置ＲＰに位置される場合には、後述する中間連結フレーム１６の上方にスペースが形成されるので、作業者が中間連結フレーム１６上に乗って、マスク保持機構７０、後述する遮光装置９０、各種検出手段等の交換やメンテナンスを容易に行うことができる。
【００３５】
なお、露光位置ＥＰと後退位置ＲＰでの照射部８０の位置決めは、筐体８１の下面に設けられた一対のストッパ部材８４ａ，８４ｂをメインフレーム１３に設けられた固定部材８５に当接させることで行われる。また、照射部８０には、露光位置ＥＰに移動したことを検出する位置検知センサが構成されている。具体的には、露光位置ＥＰを規定するストッパ部材８４ａには、センサドグ８６が取り付けられており、固定部材８５近傍に設けられたフォトスイッチ８７によって、照射部８０が露光位置ＥＰに位置決めされたことを検知する。なお、図８に一点鎖線で示された固定部材８５及びフォトスイッチ８７は、照射部８０が露光位置ＥＰに位置する際の筐体８１との相対位置を示している。また、本実施形態では、各照射部８０のＸ方向移動量は、６７０ｍｍに設定されている。
【００３６】
複数の遮光装置９０は、図５、図９及び図１０に示すように、マスク保持部７１に保持されたマスクＭの近傍で、照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光するとともに、露光用光ＥＬを遮光する所定方向における遮光幅、即ち、Ｚ方向から見た投影面積が可変となるように、傾斜角度を変更する一対の板状のブラインド部材（遮光部材）１０８，１０９と、一対のブラインド部材１０８，１０９の傾斜角度を変更するブラインド駆動ユニット９２と、を有する。
【００３７】
ブラインド駆動ユニット９２は、上流側及び下流側のメインフレーム１３，１３との間で、装置ベース２のＹ方向両側に立設した柱部１４，１４（図１参照。）間で上流側と下流側に架設されたサブフレーム１５，１５にＺ軸駆動機構９１を介してＺ方向に昇降可能に固定される。
【００３８】
図９に示すように、ブラインド駆動ユニット９２は、開口９３ａを画成する筐体９３のＹ方向両側で、且つ、上下に取り付けられた４つのモータ９５ａ，９５ａ，９５ｂ，９５ｂと、モータ９５ａ，９５ｂの回転によってねじ軸９６ａ，９６ｂを回転させ、ナット９７ａ，９７ｂをＸ方向に移動させる４つのボールねじ機構９８ａ，９８ａ，９８ｂ，９８ｂと、ナット９７ａ，９７ｂをスライダ９９ａ，９９ｂと固定し、スライダ９９ａ，９９ｂがレール１００ａ，１００ｂに案内される４つのリニアガイド１０１ａ，１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｂと、下側のナット９７ａにねじ固定された連結部１０２ａを介して、ナット９７ａと共にＸ方向に移動し、一方のブラインド部材１０８が取り付けられる一対のアーム部１０３と、上側のナット９７ｂにねじ固定された連結部１０２ｂを介して、ナット９７ｂと共にＸ方向に移動し、他方のブラインド部材１０９が取り付けられる一対のアーム部１０４と、を備える。
【００３９】
また、各アーム部１０３，１０４はそれぞれ、図１０（ａ）に示すように、筐体９３からナット９７ａ，９７ｂと共にＸ方向に移動する第１アーム部１０５ａ，１０５ｂと、各一端が第１アーム部１０５ａ，１０５ｂの下端とそれぞれ連結し、各他端同士が互いに連結される第２アーム部１０６ａ，１０６ｂと、を備える。Ｙ方向両側に設けられた第２アーム部１０６ａの下方には、その長手方向がＹ方向に沿うように一方のブラインド部材１０８が固定される。また、Ｙ方向両側に設けられた第２アーム部１０６ｂの下方には、その長手方向がＹ方向に沿うように他方のブラインド部材１０９が固定される。
【００４０】
従って、遮光装置９０が照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光する場合には、一対のブラインド部材１０８，１０９が、開口９３ａ内の露光領域から外れた位置に収納された状態から、上側の一対のモータ９５ａ，９５ａを駆動して、第１アーム部１０５ｂを第１アーム部１０５ａから離間するようにＸ方向に移動させることで、一対のブラインド部材１０８，１０９が同一の傾斜角度を持って徐々に開かれる。これにより、ブラインド部材１０８，１０９が露光領域に進出した部分の露光用光ＥＬが遮光される。
【００４１】
さらに、下側の一対のモータ９５ｂ、９５ｂを駆動して、第１アーム部１０５ａを第１アーム部１０５ｂから離間するようにＸ方向に移動させることで、一対のブラインド部材１０８，１０９がさらに開かれ、露光領域全域をブラインド部材１０８，１０９によって遮光できる。
【００４２】
また、図１０（ｂ）に示すように、一方のブラインド部材１０８の一端部１０８ａは、略平板状に形成され、他方のブラインド部材１０９の一端部１０９ａは、一方のブラインド部材１０８の一端部１０８ａを覆う湾曲形状を有する。両ブラインド部材１０８，１０９は、駆動ユニット９２によって傾斜角度を可変とするが、これら一端部１０８ａ，１０９ａは、互いに近接対向し、傾斜角度に関わらず、上下方向から見て互いにオーバーラップしている。これにより、一対のブラインド部材１０８，１０９が傾斜角度を変えてＸ方向に移動した際に、互いの一端部側において露光用光ＥＬが漏れることが防止される。
【００４３】
また、一対のブラインド部材１０８，１０９は互いに平行となる位置まで傾斜角度を変更可能であるので、ブラインド部材１０８，１０９が露光領域を横切る際の露光量の低下を極力抑制することができる。
【００４４】
マスクチェンジャー１２０は、図１１及び図１２に示すように、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとの間に配置されており、マスクＭを保持すると共に、マスクＭをマスク保持部７１の下面に吸着させるべく、上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂの下面と対向可能な一対のマスクトレー部１２１と、上流側マスク保持部７１ａと下流側マスク保持部７１ｂとの間で、これら一対のマスクトレー部１２１を連結する連結部１２２と、これら一対のマスクトレー部を連結部１２２と共にＹ方向に駆動するマスク交換用駆動部１２３と、を有する。
【００４５】
一対のマスクトレー部１２１は、平板状のベース部１９１と、このベース部１９１の上方でベース部１９１に対して水平方向に相対移動可能に配置される平板状のチェイサー板１９２と、このチェイサー板１９２の周縁部の上面に設けられ、マスクＭが載置可能であると共に、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させる複数のエア供給機構１２５と、を備える。
【００４６】
また、一対のマスクトレー部１２１は、チェイサー板１９２とベース部１９１との間に配置された複数のばね部材１９４と、後述するマスクプリアライメントの際に、浮上したマスクＭの端面と当接して、チェイサー板１９２に対してマスクＭを水平方向に位置決めするための複数のマスク用位置決めピン（位置決め部）１９６と、同じくマスクプリアライメントの際に、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を備える。
【００４７】
チェイサー板１９２は、ばね部材１９４を介してベース部１９１の上方で支持されている。このため、チェイサー板１９２は、ベース部１９１に対して相対移動可能であるとともに、マスクＭとともにマスク保持部７１の移動に追従させることができる。これにより、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるとき、マスク保持部７１が一定の位置に降下する際、ばね部材１９４を伸縮させることで、マスクＭの取付位置を変えることができ、マスクＭの吸着力を一定にすることができる。また、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるときに、マスク保持部７１がマスクＭに衝突したとしても、ばね部材１９４を伸縮させることでマスクＭに過大な力が掛かるのを抑制することができ、マスクＭが変形したり、マスクＭが破損したりするのを防止することができる。
【００４８】
マスク用位置決めピン１９６は、複数のエア供給機構１２５によって浮上されるマスクＭの端面がプリアライメントされる際に当接可能な位置で、Ｘ方向一方側及びＹ方向一方側でベース部１９１上に配置されている。
【００４９】
押圧機構１９８は、マスク用位置決めピン１９６が配置される側と反対側のＸ方向他方側及びＹ方向他方側でベース部１９１上に配置されている。押圧機構１９８は、図示しない、シリンダ機構または、サーボ機構などによって構成され、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けてＸ方向及びＹ方向から押圧し、マスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に当接させることで、マスクＭのプリアライメントが行われる。なお、マスク用位置決めピン１９６及び押圧機構１９８は、チェイサー板１９２上に配置されてもよい。
【００５０】
連結部１２２は、上部にスライダ１２７が取り付けられる連結部本体１２８と、千鳥状に配置されるマスク保持部７１の配置に併せて、一対のマスクトレー部１２１をＸ方向に対して斜めに連結する一対の腕部１２９と、を有している。
【００５１】
マスク交換用駆動部１２３は、Ｙ方向に延びる中間連結フレーム１６の下部に同じくＹ方向に延設された支持部１３１内に収容され、駆動モータ１３２によって回転駆動されるベルト１３３と、連結部１２２に固定されると共に、ベルト１３３の一部と連結され、ベルト１３３の回転によりＹ方向に駆動される可動部１３４と、を有する。可動部１３４は、支持部１３１の開口部１３１ａから側方に延び、下方に位置する連結部１２２に固定される。また、支持部１３１の下部にはガイドレール１３５が設けられ、ガイドレール１３５を跨ぐスライダ１２７によって一対のマスクトレー部１２１をＹ方向に案内する。なお、中間連結フレーム１６は、上流側及び下流側のサブフレーム１５，１５をＹ方向両側で連結するＸ方向に延びるフレーム１７，１７の中間部に取り付けられている（図１参照。）。
【００５２】
従って、連結部１２２を介して可動部１３４と連結された一対のマスクトレー部１２１は、マスクＭを交換すべく、ベルト１３３を駆動して、マスクＭを搬入又は搬出するための受け渡し位置ＷＰと、各マスク保持部７１の下面と対向する交換位置ＣＰとの間でＹ方向に移動する。この受け渡し位置ＷＰは、マスクトレー部１２１やマスク交換駆動部１２３等が基板駆動ユニット４０の各部品と干渉しないように、基板駆動ユニット４０が設置されるＹ方向の一端側と反対側に設けられている。
【００５３】
また、図１２に示すように、マスクトレー部１２１のベース部１９１は、複数の照射部８０からの各露光用光ＥＬが照射される各位置に、各露光用光ＥＬの照度を検出する照度センサ１９９を備える。また、各照射部８０には、照射部８０内での露光用光ＥＬの照度を検出する他の照度センサが設けられており、制御部１９０は、照度センサ１９９を用いて、各照射部８０における照度が目標照度値となるように光源の電流値を制御し、また、複数の他の照度センサによって各照射部８０における照度値が維持されるように制御することで、複数の照射部８０における各光源の照度を同一に制御することができる。
【００５４】
また、図４及び図１１に示すように、近接スキャン露光装置１には、レーザー変位計１６０，１６１、マスクアライメント用カメラ１７１、追従用カメラ１７２、追従用照明１７３等の各種検出手段が配置されている。
【００５５】
レーザー変位計１６０（１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃ）は、基板Ｗと各マスクＭとが対向する領域で少なくとも３箇所の位置にそれぞれ設けられている。マスクＭの上方に位置する一つのレーザー変位計１６０ａは、マスク保持部７１に取り付けられており、基板ＷとマスクＭとのギャップを検出するギャップセンサを構成する。基板の下方に位置する２つのレーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃは、マスクＭの下方に位置する露光領域より大きいエアパッド２５ａの側方で、基板ＷとマスクＭとが対向する位置に配置され、基板Ｗの厚さを検出する（図３参照。）。なお、基板Ｗが素ガラスの場合には、レーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃは、上記ギャップも検出可能であり、レーザー変位計１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃが、ギャップセンサを構成する。
【００５６】
マスクアライメント用カメラ１７１は、マスクＭに形成された基準マークを撮像して、後述する制御部１９０に送信する。追従用カメラ１７２は、マスクＭと基板Ｗとの相対位置ズレを検出するため、基板Ｗ上の基準マーク、又は基板Ｗに形成された下地パターンを撮像して、後述する制御部１９０に送信する。
【００５７】
これら２つのレーザー変位計１６０ｂ，１６０ｃ、マスクアライメント用カメラ１７１、追従用カメラ１７２は、マスク配置領域ＥＡの隣接するエアパッド２４，２５ａ，２５ｂ間に、エアパッド２４，２５ａ，２５ｂの上面より突出しないように精密フレーム６に取り付けられている。
【００５８】
また、レーザー変位計１６１は、搬入フレーム５に取り付けられ、基板Ｗの厚さを検出する。追従用照明１７３は、ブラインド駆動ユニット９２の筐体９３に取り付けられる。
【００５９】
ここで、図４に示すように、搬入、精密、搬出フレーム５，６，７は、装置ベース２上に水平方向に延びる複数の角パイプ１８０、及び鉛直方向に延びる複数の角パイプ１８１を連結して構成され、Ｘ方向及びＹ方向に貫通するスペース１８２を画成している。これにより、作業者は、このスペース１８２内に入り込んで、例えば、エアパッド２２，２３，２４，２５ａ，２５ｂや、上述した各種検出手段、ワーク衝突防止ローラ４５、また、基準ピン５１、押し付けピン５３、ハンドシェイクピン５５、吸着ピン６２、及びこれらピン５１，５３，５５，６２の駆動軸等、これら補機類の交換、メンテナンス作業等を容易に行うことができる。
【００６０】
制御部１９０は、上記検出手段や上記各駆動部を含む基板搬送機構２０、マスク保持機構７０、照射部８０、遮光装置９０、マスクチェンジャー１２０等の各機構と接続されており、プログラムや各検出手段からの検出信号に基づいて各機構を駆動制御する。特に、制御部１９０は、露光時において、マスクＭと基板Ｗとの相対位置ズレを検出し、検出された相対位置ズレに基づいてマスク駆動部７２を駆動させ、マスクＭの位置を基板Ｗにリアルタイムで追従させる。同時に、マスクＭと基板Ｗとのギャップを検出し、検出されたギャップに基づいてマスク駆動部７２を駆動させ、マスクＭと基板Ｗのギャップをリアルタイムで補正する。
【００６１】
次に、以上のように構成される近接スキャン露光装置１を用いて、基板Ｗの露光転写について説明する。なお、本実施形態では、下地パターン（例えば、ブラックマトリクス）が描画されたカラーフィルタ基板Ｗに対して、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかのパターンを描画する場合について説明する。
【００６２】
近接スキャン露光装置１は、図示しないローダ等によって、基板搬入領域ＩＡに搬送された基板Ｗを排気エアパッド２３からのエアによって浮上させて支持し、基板Ｗのプリアライメント作業、アライメント作業を行った後、基板駆動ユニット４０の把持部材４１にてチャックされた基板Ｗをマスク配置領域ＥＡに搬送する。
【００６３】
そして、基板Ｗがマスク配置領域ＥＡに設けられた排気エアパッド２４及び吸排気エアパッド２５ａ，２５ｂ上に移動し、振動を極力排除した状態で浮上させて支持される。そして、照射部８０内の光源から露光用光ＥＬを出射すると、かかる露光用光ＥＬは、マスク保持部７１に保持されたマスクＭを通過し、パターンを基板Ｗに露光転写する。
【００６４】
このとき、基板Ｗの移動誤差によるパターンのズレが、追従用カメラ１７２によって検出された下地パターンの画像を処理することで与えられる。そして、マスク駆動部７２が、この処理された画像データに応じてマスクＭの位置を微調整することで、パターンのズレをリアルタイムに補正することができる。
【００６５】
また、露光動作中、各マスク毎に設置されたレーザー変位計１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃは、基板ＷとマスクＭとの間のギャップを検出している。そして、検出されたギャップに基づいて、マスク駆動部７２のＺ方向駆動部７４が、マスク保持部７１を上下方向にリアルタイムに駆動制御する。このため、基板Ｗが基板搬送機構２０によって搬送される際、基板Ｗの厚さばらつきにより、３０μｍ〜４０μｍ程度の高さのばらつきが発生する場合があるが、上記制御によりリアルタイムでのギャップ調整を可能としている。
【００６６】
以上、同様にして、連続露光することで、基板Ｗ全体にパターンの露光を行うことができる。マスク保持部７１に保持されたマスクＭは、千鳥状に配置されているので、上流側或いは下流側のマスク保持部７１ａ，７１ｂに保持されるマスクＭが離間して並べられていても、基板Ｗに隙間なくパターンを形成することができる。
【００６７】
また、マスクＭを所定のタイミングで洗浄するために、マスクチェンジャー１２０を用いて随時マスクＭの交換が行われる。該マスク交換は、図１３に示すように、まず、Ｙ方向一端に配置された１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１において左右同時に行われ、順次、隣の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ２，７１ｂ２，．．．，７１ａ５，７１ｂ５にて行われ、最後に、Ｙ方向他端に配置された６番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ６，７１ｂ６にて行われる。
【００６８】
具体的に、まず、マスク駆動部７２は、全てのマスク保持部７１を、マスク交換を行うための退避位置に上昇させる。この時、遮光装置９０も筐体９３を上昇して退避させる。そして、マスクＭが搭載されていない空の一対のマスクトレー部１２１を１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１の下方（交換位置ＣＰ）へ移動させる。そして、１番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１のマスク駆動部７２を駆動して、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を着脱位置まで下降させる。
【００６９】
次に、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１に保持された使用済みのマスクＭをマスクトレー部１２１が受け取る。具体的に、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１が使用済みのマスクＭの吸着を解除すると共に、マスクトレー部１２１では、エア供給機構１２５からエアをマスクＭの下面に送り、押圧機構１９８によって浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧することでチェイサー板１９２に対して浮上したマスクを位置決め保持する。その後、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を退避位置まで上昇させ、マスクトレー部１２１を受け渡し位置ＷＰに移動させる。マスクＭを搬送する際には、マスク用位置決めピン１９６と押圧機構１９８によって位置決めしつつ、浮上したマスクＭを搬送してもよく、或いは、マスクＭを浮上させずにエア供給機構１２５の上面に載置した状態でマスクＭを搬送してもよい。特に、マスクＭを浮上させながら、マスクトレー部１２１がマスクＭの受け渡し位置ＷＰと交換位置ＣＰとの間を移動することで、摩擦によってマスクＭが損傷するのを防止することができる。
【００７０】
受け渡し位置ＷＰでは、まず、図示しないマスクローダにより、浮上している使用済みのマスクＭをマスクトレー部１２１から図示しないカセットに戻す。その後、未使用（洗浄済み）のマスクＭをマスクローダによりカセットからマスクトレー部１２１に載置すると、マスクＭのプリアライメントが行われる。
【００７１】
具体的に、未使用のマスクＭは、エア供給機構１２５から供給されたエアによって浮上して保持され、押圧機構１９８によって浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧することでチェイサー板１９２に対して浮上したマスクＭが位置決め保持される。これにより、未使用のマスクＭのプリアライメントが完了する。なお、マスクＭのプリアライメントは、各マスク保持部７１ａ，７１ｂの下方へ移動した際、マスクアライメント用カメラ１７１を用いて行うことも可能である。また、マスクＭのプリアライメントは、マスクＭの搬送中でも可能であり、これにより、タクトタイムの短縮、スループットの向上につながる。
【００７２】
そして、マスクＭが載置されたトレー部１２１を再び、１番目の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１の下方へ移動させた後、１番目のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１を再び着脱位置まで下降させる。
【００７３】
また、１番目のマスク保持部７１ａ１，７１ｂ１をマスク駆動部７２により移動させ、未使用のマスクＭの位置を微調整する。その後、未使用のマスクＭがマスクトレー部１２１上で浮上した状態で、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１でマスクＭが吸着される。また、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１が退避位置まで上昇する。これにより、１番目のマスクＭの交換を完了する。なお、マスク保持部７１ａ１，７１ｂ１でのマスクＭの吸着は、マスクＭを浮上させずに行うことも可能である。
【００７４】
次に、空きとなったマスクトレー部１２１をＹ方向一端から隣の２番目の上流側及び下流側のマスク保持部７１ａ２，７１ｂ２の下方へ移動させる。
【００７５】
以降、上記動作を繰り返し行い、Ｙ方向他端側の６番目のマスク保持部７１ａ６，７１ｂ６のマスクＭが交換されるまで行われ、マスクＭの交換作業が完了する。交換作業の完了後は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は受け渡し位置ＷＰに移動する。従って、上記マスク交換によれば、一対のマスクトレー部１２１の１往復の動作で１対のマスクＭの回収及び装着を実現でき、タクトタイムの短縮を図ることができる。
【００７６】
以上説明したように、本実施形態の近接スキャン露光装置１によれば、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。従って、マスク用位置決めピン１９６と押圧機構１９８によって位置決めしながら浮上したマスクをプリアライメントすることができるので、マスクＭとマスクＭが接する面との間の摩擦によってマスクＭが損傷するのを防止することができる。また、マスクトレー部１２１によってマスクＭを浮上させた状態で、押圧機構１９８によってマスク用位置決めピン１９６に向けてマスクＭを移動させることでマスクＭのプリアライメントを行うことができ、マスクＭの交換時間を短縮することができると共に、マスクＭのプリアライメントのための装置を別途設ける必要がない。
【００７７】
また、一対のマスクトレー部１２１は、チェイサー板１９２とベース部１９１との間に配置された複数のばね部材１９４を有するので、マスクＭを浮上させずにマスク保持部７１にマスクＭを取り付ける場合であっても、マスク保持部７１が一定の位置に降下する際、ばね部材１９４を伸縮させることで、マスクＭの取付位置を変えることができ、マスクＭの吸着力を一定にすることができる。また、マスク保持部７１にマスクＭを取り付けるときに、マスク保持部７１がマスクＭに衝突したとしても、ばね部材１９４を伸縮させることでマスクＭに過大な力が掛かるのを抑制することができ、マスクＭが変形したり、マスクＭが破損したりするのを防止することができる。
【００７８】
なお、本実施形態では、複数のマスク駆動部７２は、複数の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂが互いに対向する側と反対側に延びて配置される場合、マスクトレー部１２１は、受け渡し位置ＷＰと各上流側マスク保持部７１ａの各交換位置ＣＰとの間を移動可能な上流側マスクトレー部と、受け渡し位置ＷＰと各下流側マスク保持部７１ｂの各交換位置ＣＰとの間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部１２３を有する。一方、図１５に示すように、複数のマスク駆動部７２が、複数の上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂ間に位置するように配置されている場合には、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部１２３を有するようにしてもよい。また、図１６に示すように、複数のマスク駆動部７２がすべて、上流側及び下流側マスク保持部７１ａ，７１ｂの下流側に延びて配置されている場合にも、マスクチェンジャー１２０は、上流側マスクトレー部と下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部１２３を有するようにしてもよい。
【００７９】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、その発明の範囲内で変更・改良が可能であることはもちろんである。
【００８０】
本発明の基板を浮上させて支持する機構は、本実施形態のように、低コストで入手でき取り扱いが容易なエアを利用した浮上ユニットであると好ましいが、それに限られない。また、本発明の基板を浮上させて支持する機構は、少なくとも露光領域に設けられていればよく、他の領域においては、支持面から突出する複数のローラで基板Ｗを支持し、支持面から浮上させる構成であってもよい。
【００８１】
また、本発明のマスクチェンジャー１２０は、一対のマスクトレー部１２１がそれぞれ１枚ずつマスクＭを搬送しているが、それぞれ複数枚ずつマスクＭを搬送するように構成してもよい。
【符号の説明】
【００８２】
１ 近接スキャン露光装置（露光装置）
２ 装置ベース
３，４，８ レベルブロック
１３ メインフレーム
１５ サブフレーム
２０ 基板搬送機構
２１ 浮上ユニット
４０ 基板駆動ユニット
５０ 基板プリアライメント機構
６０ 基板アライメント機構
７０ マスク保持機構
７１ マスク保持部
７２ マスク駆動部
８０ 照射部
８２ ガイドレール
８３ スライダ
９０ 遮光装置
１２０ マスクチェンジャー
１２１ マスクトレー部
１２５ エア供給機構
１９０ 制御部
１９２ チェイサー板
１９４ ばね部材
１９６ マスク用位置決めピン（位置決め部）
１９８ 押圧機構
１９９ 照度センサ
ＣＰ 交換位置
ＷＰ 受け渡し位置
ＥＰ 露光位置
ＲＰ 後退位置
ＩＡ 基板搬入側領域
ＥＡ マスク配置領域
ＯＡ 基板搬出領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対してマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置と、前記マスク保持部の下面と対向する交換位置との間を移動可能なマスクトレー部を有するマスクチェンジャーと、
を備え、
前記マスクトレー部は、
前記マスクの下面にエアを供給して、前記マスクを浮上させるエア供給機構と、
前記浮上したマスクの端面と当接して、前記マスクを位置決めする位置決め部と、
前記浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記マスクトレー部は、ベース部と、前記チェイサー板と前記ベース部との間に配置された複数のばね部材と、を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項１】
基板に対してマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクを搬入又は搬出するための受け渡し位置と、前記マスク保持部の下面と対向する交換位置との間を移動可能なマスクトレー部を有するマスクチェンジャーと、
を備え、
前記マスクトレー部は、
前記マスクの下面にエアを供給して、前記マスクを浮上させるエア供給機構と、
前記浮上したマスクの端面と当接して、前記マスクを位置決めする位置決め部と、
前記浮上したマスクの端面を前記位置決め部に向けて押圧する押圧機構と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記マスクトレー部は、ベース部と、前記チェイサー板と前記ベース部との間に配置された複数のばね部材と、を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部の両方を同期駆動するマスク交換用駆動部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光装置は、複数のマスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であり、
前記マスク保持部は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部と下流側に配置される複数の下流側マスク保持部とを有して、前記複数の上流側マスク保持部と前記複数の下流側マスク保持部とは、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置され、
前記マスクトレー部は、前記受け渡し位置と各上流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な上流側マスクトレー部と、前記受け渡し位置と各下流側マスク保持部の各交換位置との間を移動可能な下流側マスクトレー部と、を有し、
前記マスクチェンジャーは、前記上流側マスクトレー部と前記下流側マスクトレー部をそれぞれ駆動する一対のマスク交換用駆動部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１２−２２０７２２（Ｐ２０１２−２２０７２２Ａ）
【公開日】平成２４年１１月１２日（２０１２．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−８６３５６（Ｐ２０１１−８６３５６）
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【出願人】（３１１０１１４４９）ＮＳＫテクノロジー株式会社 (51)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月１２日（２０１２．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【出願人】（３１１０１１４４９）ＮＳＫテクノロジー株式会社 (51)
【Ｆターム（参考）】
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