【課題】夜間等の暗い場所で照明光を照射しないで撮像した画像を表示しても、監視対象が明確に識別可能な監視装置及び監視システムを提供する。
【解決手段】従来の装置では、夜間等の暗い場所（監視視野内）を照明光を照射しないで撮像するため、可視光を十分に得ることができず、撮像しても色再現が困難であった。本発明の監視装置及び監視システムは、監視視野内の温度差を検出し、所定の温度差以上の領域を監視対象物体として検出し、該監視対象物体の位置情報を出力する熱検知センサと、該位置情報に基づいて前記監視対象物体に近赤外線領域のそれぞれ波長の異なる３つのレーザ光を照射する光源と、前記監視対象物体からの反射光を撮像し、前記３つのレーザ光それぞれの波長について擬似カラー画像を生成する電子増倍型ＣＣＤカメラとを備えた。 （もっと読む）

【課題】緻密で原料起因の不純物濃度が低く抵抗率が低い導電性膜を、速い成膜速度で形成する基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】複数の基板を積層して収容する処理室と、第１の処理ガスを前記処理室に供給する第１の処理ガス供給系と、第２の処理ガスを前記処理室に供給する第２の処理ガス供給系と、前記第１の処理ガス供給系及び前記第２の処理ガス供給系を制御する制御部と、を有する基板処理装置であって、前記第１の処理ガス供給系及び前記第２の処理ガス供給系の少なくともいずれか一方は、前記基板の積層方向に沿って立設する形状が異なる２本のノズルを有し、前記制御部は、前記第１の処理ガス及び前記第２の処理ガスを成膜速度の異なるパルスで前記処理室に供給して前記基板に膜を形成する際、前記第１の処理ガス及び前記第２の処理ガスの少なくともいずれか一方を前記形状が異なる２本のノズルからそれぞれ供給するよう構成される。 （もっと読む）

【課題】ウエハホルダによるウエハのスリップや反り等の弊害の発生を防止する。
【解決手段】ウエハ１の下面に面接触してウエハ１を保持するウエハホルダ７０をボート６０に多数段装着しておき、多数段のウエハホルダ７０にウエハ１をそれぞれチャージした状態で、処理室内にボートローディングし、ウエハ１のアニール処理後にボートアンローディングする。ボート６０の多数段のウエハホルダ７０からウエハ１をディスチャージする際に、ボート６０の最上段領域Ｕのウエハホルダ７０からウエハ１Ａをディスチャージし、その後に、最下段領域Ｂに向かってウエハ１をディスチャージして行く。取り出そうとしているウエハ１から落下した異物は下側のウエハ１に付着するので、異物が下側のウエハホルダに付着するのは防止でき、ウエハホルダに付着した異物による次回のウエハ１でのスリップや反り等の弊害の発生を未然に防止できる。 （もっと読む）

【課題】異常報知に疎漏なく対応して確実な電源バックアップ機能の維持が可能な電源装置を提供する。
【解決手段】電源兼充電装置１からラインＬ₊、Ｌ_- を介して負荷装置２に、直流電力が供給されるように構成した上で、ラインＬ₊、Ｌ_- に二次電池３を並列に接続してバックアップが得られるようにした電源装置において、電源兼充電装置１の＋側電源端子とラインＬ₊ の間に周期的にオンオフ制御されるスイッチ部１０１を設け、スイッチ部１０１がオフのとき、電圧測定部１０２では、二次電池３からラインＬ₊、Ｌ_- に現れている電圧だけが測定され、これにより二次電池３に関する異常も検出できるようにしたもの。スイッチ部１０１がオフされたときの負荷装置２の電源電圧はコンデンサ１１が維持する。 （もっと読む）

【課題】高精度なプロセス処理および高い安全性を実現することができる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、基板を処理する反応管４２と、反応管４２を支持するマニホールド４４と、反応管４２の周囲に設けられ反応管４２内を加熱するヒータ４６と、ヒータ４６より下方の反応管４２の側方を囲うように設けられる囲い部５００と、囲い部５００と反応管４２との間の間隙５０６を強制排気する排気装置３０１と、反応管４２とマニホールド４４との間の当接部に設けられる密閉部材１５０と、を有し、囲い部５００には、排気装置が囲い部５００の外側の雰囲気を間隙５０６へ吸気する吸気口５０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】Ｐｏｉｎｔ−ｔｏ−ＰｏｉｎｔのＴＤＤ無線通信においてスペースダイバーシチの受信方式により安定した通信を行うことが可能な無線通信システムを提供する。
【解決手段】少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２を介して対向する無線装置と無線通信を行う無線部１０２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信の切替を制御する制御部１０３とを有し、上記制御部１０３は、所定のタイミング信号を受信することで上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信を切替える。 （もっと読む）

【課題】
汚染物やパーティクルがシリコン膜等を有する基板に混入することにより基板の品質や半導体装置の性能が劣化することを抑制し、表面粗さの小さいシリコン膜を形成する。
【解決する手段】
基板にシリコン膜を形成する膜形成工程と、前記シリコン膜に酸化種を供給し、前記シリコン膜を熱処理し前記シリコン膜の表層を酸化シリコン膜に改質する改質工程と、前記酸化シリコン膜を除去する除去工程と、を有する半導体装置の製造方法を提供することで上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】監視カメラ等からの複数の画像が監視用装置において多画面表示される場合、上述したように、監視カメラ等からの原画像に対してリサイズ処理が施されて表示されるため、表示データそのものを保存する場合には画質の劣化の問題が発生していた。
【解決手段】複数の画像の少なくとも一つにリサイズ処理を行った後、複数の画像を一つの画面に同時に表示出力する画像表示装置において、表示出力される複数の画像のそれぞれについて、リサイズ処理前の原画像のサイズを取得し、これら複数の原画像が、表示出力の際と同様の配置となるように、かつ、複数の原画像のサイズのうちの最大サイズを各原画像のそれぞれについての画像領域のサイズとして、これら複数の原画像が少なくとも一つの合成画像となるように合成する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で安価且つ簡易に取り付けることができる棚板に対する耐震構造を提供すること。
【解決手段】耐震構造２１は、棚板１０が支柱１７に対して前後左右上下方向に移動することを防止する。耐震構造２１は、折れ曲がった前端部１３ｃが支柱１７に固定されることで、棚板１０が前後方向に移動することを防止する棚板１０の側面パネル１３と、棚板１０を側面パネル１３側から挟み込み、棚板１０が左右上下方向に移動することを防止する挟み込み部材である１対の耐震レール２３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】W等の金属膜の酸化を防止しつつ、金属膜上に低温で酸化膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に金属膜が形成された少なくとも１枚のウエハ３１０を処理室３１８内に搬入する工程と、金属膜を含むウエハ３１０表面にシリコンを含む酸化膜を形成する工程と、を少なくとも備える半導体装置の製造方法であって、酸化膜の形成工程は、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、シリコン原子を含む第１の反応物質を処理室３１８内に供給する工程と、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、酸素原子を含む第２の反応物質と、水素とを処理室３１８内に供給する工程と、を有し、処理室３１８内の加熱温度と、水素に対する第２の反応物質の供給比を制御することにより、金属膜の酸化を制御する。 （もっと読む）