【課題】回転対称で複雑な被検面の形状を高精度に光干渉計測できるようにする。
【解決手段】面中心軸Ｃが測定光軸Ｌと一致した基準姿勢から、被検面８０を径方向に分割してなる複数の輪帯状領域上に測定光軸Ｌが順次移動するように、被検面８０の相対姿勢を順次変更し、相対姿勢が変更される毎に被検面８０を回転軸Ｅ回りに回転せしめる。回転する被検面８０に対して平面波からなる測定光を照射し、複数の回転位置毎に、各回転位置別干渉縞を１次元イメージセンサ３２により撮像する。撮像された各回転位置別干渉縞に基づき各輪帯領域別形状情報を求め、これらを繋ぎ合わせることにより測定領域全域の形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】精度が高く、演算速度が速く、補間精度と補間間隔が変化可能な補間方法を提供する。
【解決手段】予めフーリエドメイン光干渉断層計システムの特性により、波長情報を抽出し、波長空間に均一に分布している一組の波長ベクトルを得ることにより、当該波長ベクトルのCCDにおける仮想位置係数を得て、離散フーリエゼロパディング補間方法の伝達関数により重み係数マトリックスを生成し、システムの作動時に、重み係数マトリックス及び収集されたデータに基づいて補間を行うか又はデータマトリックスに対して窓掛け、切捨てを行った後補間して、所望の補間データを得る。 （もっと読む）

本発明は、厚さまたは表面形状の測定方法に関するものであって、本発明に係る厚さまたは表面形状の測定方法は、白色光干渉計を用いた、基底層上に積層された薄膜層の厚さまたは表面形状の測定方法であって、互いに異なる厚さを有する複数のサンプル薄膜層を想定し、各サンプル薄膜層に対する干渉信号をシミュレーションすることにより、各厚さに対応するシミュレーション干渉信号を生成するステップと、前記薄膜層に白色光を照射して前記薄膜層に入射する光軸方向に対する実際の干渉信号を取得するステップと、前記実際の干渉信号から前記薄膜層の厚さとなり得る複数の予想厚さを求めるステップと、前記予想厚さに対応する厚さを有するシミュレーション干渉信号と前記実際の干渉信号とが実質的に一致するか否かを比較するステップと、前記実際の干渉信号と実質的に一致するシミュレーション干渉信号の厚さを前記薄膜層の厚さに決定するステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
光学素子を追加する必要が無く、光量の損失を発生させず、干渉縞に影響を与える可能性があるゴミ、レンズ面上のキズや穴、レンズ内のバブル等のオプティカルアーティファクトの影響を低減させる干渉計を提供する。
【解決手段】
テレセントリックな光学系（３０１）を有する干渉計において、前記テレセントリックな光学系（３０１）を構成する少なくとも２つから構成されるレンズ（２０５，２０６）群の中心軸（５１）を、前記干渉計の光軸（５０）と異なる位置で前記光軸（５０）を中心として回転させる回転機構（６０）を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】２色法の原理を利用して異なる波長の同軸２光束が同一光学系を経由（透過および反射）する外乱の自己補償光学系を有するため外乱のある環境下でも安定で、可干渉距離の調整機能も備わっているため可干渉距離の短い光源に対しても適応でき、構造が単純で大幅な小型化が実現でき、調整が不要（または簡便）、さらに安価な光干渉計を構築するため利用することのできる光学装置を提供する。
【解決手段】光源１、光源からの光の一部を波長変換する光学素子または光学系、光源からの光と波長変換された光の位相差を制御できる位相制御用光学素子３または光学系、光源から光と波長変換された光の光路長を制御する光路長制御用光学素子４または光学系を備えており、光源からの光と波長変換された光は同軸２光束で同一光学系を経由（透過および反射）する。 （もっと読む）

【課題】光強度が変動するような場合でも高精度に測定できる干渉計及び形状測定方法を提供する。
【解決手段】干渉計は、光源１０１と、光源１０１からの光を測定対象物Ｗに照射する測定光と参照面に照射する参照光とに分割し、それらの光を合成するビームスプリッタ１０５と、参照面１０７は、参照光の一部を第１の輝度とすると共に参照光の一部を除く参照光を第１の輝度よりも高い第２の輝度とするコーティング１０７ｂが表面になされている。さらに、干渉計は、第２の輝度とした参照光と干渉しない非干渉領域を形成するように測定光を遮光する遮光部材１０６と、合成光により形成される干渉領域及び非干渉領域を撮像するＣＣＤカメラ１１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料に対する走査光の選択性を向上させる。
【解決手段】表面形状測定装置１００は、共焦点光学系と非共焦点光学系とを切換え可能であって、試料１０１を照明する照明光の波長を切替える波長切替手段１７と、非共焦点光学系に切換えられた状態で、照明光から参照光を生成すると共に、照明光を試料に照射させ、その反射光と参照光を合成して干渉光を生成する干渉光学系（干渉型対物レンズ１３）と、干渉光学系からの干渉光を受光する光センサ（ＣＣＤカメラ３６）と、共焦点光学系に切換えた状態において、試料１０１と共焦点光学系の光学的な距離を変化させる距離変化手段（顕微鏡ステージ１）と、光センサが干渉光を受光したときの測定結果と、距離変化手段によって光学的な距離を変化させたときの測定結果とに基づいて、試料の表面形状を算出する演算処理部（コンピュータ６）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】干渉計測の精度を向上させ、屈折率の標準測定装置としても使用可能な、高精度の屈折率の計測を行うことができるようにする。
【解決手段】被測定プリズム１と補償用プリズム２の斜面１１、２１を近接対向配置してプリズム対を形成し、これをマッハ・ツェンダー干渉計等の干渉計の中に配置し、レーザ測長器１０によって被測定プリズムの移動量を測定可能とする。被測定プリズムを補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させ、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させ、被測定プリズム中の光路長変化と、レーザ測長器で測定した被測定プリズムの移動量の関係から、プリズムの屈折率を求める。被測定器物はプリズム、くさび、それらの形状の容器に液体を充填したものでも良く、また種々の二光束干渉計を使用することができ、プリズムへの入射も種々の態様で実施することができる。 （もっと読む）

【課題】干渉計におけるコヒーレントアーティファクトの影響を低減するための干渉計装置および方法を提供すること。
【解決手段】干渉計におけるフリンジコントラストは、干渉図形内のフリンジコントラストが維持される一方で、干渉計において発生された望ましくない放射光のコヒーレントな重なりが抑制されるために、干渉計においてコヒーレントアーティファクトが存在する。干渉計における照明の異なるオフアクシス場所の視界からテスト表面の選択された特性の個々の干渉図形を生成する照明および干渉結像アーキテクチャの使用がなされ、次いで、それらのアーキテクチャを結合して、フリンジコントラストを維持すると同時に、異なる視界領域において存在するようにアーティファクトを配列することにより、結合された干渉図形における寄与が弱められる。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。
【解決手段】光源ユニット１０から、波長帯域1.0μｍ〜1.5μｍ内で、波長が繰り返し掃引される光Ｌａと、波長帯域0.6μｍ〜1.1μｍ内で、波長が繰り返し掃引される光Ｌｂとを同時に射出する。分波手段３は光Ｌａ、Ｌｂをそれぞれ測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとに分割する。合波手段５は、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂが測定対象Ｓに照射されたときの反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとを合波する。波長分割手段３０は、このとき生じた干渉光Ｌ４ａと干渉光Ｌ４ｂの波長帯域を0.9μｍ以下、0.9μｍ〜1.2μｍ以下、1.2μｍより長波長の３つの波長帯域に分割して干渉信号を取得する。光Ｌａと光Ｌｂとで波長が重複している重複波長帯域を含む0.9μｍ〜1.2μｍ以下の波長帯域においては、光源１０ａまたは光源１０ｂの一方の光源のみから光が射出される。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。
【解決手段】光源ユニット１０から、波長が1295nm〜1345nm 内で間欠的に繰り返し掃引される光Ｌａと、波長が1255nm〜1305nm 内で間欠的に繰り返し掃引される光Ｌｂとが同時に射出される。どちらかの光の波長が1290nm〜1310nmの間である場合には他方の光は射出されない。光分割手段３は光Ｌａ、Ｌｂをそれぞれ測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとに分割する。波長分割手段５aは、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂが測定対象Ｓに照射されたときの反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂを波長分割する。波長分割手段５ｂは、参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂを波長分割する。合分波手段６ａ、６ｂは反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとを各光ごとにそれぞれ合波する。干渉光検出手段４０ａ、４０ｂは上記合波により生ずる干渉光Ｌ４ａ、Ｌ４ｂを干渉信号として各光ごとに検出する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、作業効率を低下させることなく測定精度を向上させることのできる干渉測定方法を提供することを目的とする。また、本発明は、その干渉測定方法を実施するのに適した干渉測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の干渉測定方法は、干渉縞の画像を検出する干渉計（１０）を用意し、前記干渉計（１０）から被検面（１ａ）へ向かう光束が形成する光路に回折光学素子（２）を配置すると共に、前記干渉計（１０）から前記回折光学素子（２）へ向かう光束が形成する光路に、その光束径よりも小さい開口を有したマスク（３）を配置し、前記画像の検出期間内に前記マスクの開口が光束径（φ₀）内を少なくとも１回走査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】再現性の良い非球面干渉計を得ること
【解決手段】 光学素子の光学面の形状を測定するためのフィゾー型干渉計は、非球面形状の参照面と；該参照面と前記光学面とを近接させた状態で、前記参照面と前記光学面とを一体に保持する保持部材とを有する。そして、前記光学面からの光と前記参照面からの光とを干渉させる。 （もっと読む）

【課題】透明測定対象５の裏面での反射光に基づく干渉縞の外乱を完全になくすことの出来る形状測定装置を提供すること及び上記反射光による誤差の無い干渉縞の画像を透明測定対象表面上の広い面積にわたって効率よく取得することの出来る形状測定装置を提供すること。
【解決手段】斜干渉計における上記透明測定対象の表面に近接して、第１の回折格子から出た光の一部が透明測定対象表面で反射する位置と上記透明測定対象の裏面で反射した第１の光線の一部が上記透明測定対象表面から出射する位置との距離より短い幅のスリット透孔を備えたマスク体を上記透明測定対象の表面に沿って配置した形状測定装置。 （もっと読む）

放射源からの電磁放射を制御可能にチャープするシステムおよび方法は、光学キャビティ構成を含む。光学キャビティ構成は、電磁放射を実質的に線形チャープレートで且つ設定可能な周期で生成することを可能にする。電磁放射を光学キャビティに選択的に注入することによって、電磁放射は、実質的に線形のチャープレートで周波数シフトされた単一共振モードで生成されてもよい。電磁放射を単一共振モードで生成することにより、電磁放射のコヒーレンス長が長くなり、これは、電磁放射が様々な用途で実現されるときに有利なことがある。例えば、光学キャビティ構成によって生成される電磁放射は、レンジ、速度、精度および／またはレーザレーダシステムの他の態様を強化する。
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各々が入力放射から第１の波面及び第２の波面を導出し、かつ、第１及び第２の波面を合成して第１及び第２の波面の経路間の光路長の差に関する情報を備える出力放射を供給するように構成された複数の干渉計を含み、各々が第１の波面の経路内に位置決めされた反射素子を備え、干渉計の少なくとも１つの反射素子が、第１の物体上に取り付けられるシステムを開示する。本システムは、また、複数のファイバ導波路及び電子制御装置を含む。各ファイバ導波路は、入力放射を対応する干渉計に送出するか、又は、出力放射を対応する干渉計から対応する検出器に送出する。電子制御装置は、干渉計の少なくとも１つからの情報に基づいて、第２の物体に関する第１の物体の絶対変位をモニタする。
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【課題】媒体の屈折率が変化しても安定して測定することが可能な干渉計を提供すること。
【解決手段】モノリシック光学素子(201,801)を含む光学干渉計(105)。 （もっと読む）

透過性又は拡散性の物体（１９）上の幾何学量を測定する方法及び装置のために、２つの基準アームと短いコヒーレンス長とを有するマイケルソン干渉計が用いられる。基準アーム（１１、１２）の基本光学遅延時間は、結果として、幾何学量としての層厚に対応する光学遅延時間差を生成するように選択される。少なくとも２つの基準アームビーム（３３ａ、３５ａ）が、互いに空間的なオフセット角（ｄｗ）を成して、単一の回転式光路長変更素子（２３）に送られる。光路長変更素子（２３）によって引き起こされる遅延時間変化が、基準アーム（１１、１２）内の基本光学遅延時間に対して逐次的に適用されるようにするために、回転角に依存する、基準アームビームの遅延時間変化が、回転によって引き起こされる回転角の関数として生成される。測定されることになる表面上に光強度構造を投影し、その像を測定することによって、さらなる幾何学量としてトポグラフィが得られる。 （もっと読む）

【解決課題】
投影光学系の波面収差を測定する際に、機械的な振動のために集光点が変動することに起因する誤差を低減する、高輝度ではあるが低ＮＡである光源を波面収差測定に整合させる、非テレセントリックな光学系に対して主光線を整合させる、ことを目的とする。
【解決手段】
集光光束の状態を検出して集光点を制御する、開口数調整ピンホールを配置する、集光光学系中で集光光束を軸はずしとする手段をとる。
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光学系の取付構造体において互いに対して取り付けられた複数の光学素子を有する光学系の製造方法は、前記光学系の前記光学素子の表面に入射する測定光のビームを成形するための干渉計光学部品及び選択可能なホログラムを有する干渉計装置のビーム経路に前記光学系を配置する工程と、前記干渉計装置の第１のホログラムを選択し、第１の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも１つの第１の干渉パターンを記録する工程と、前記干渉計装置の、前記第１のホログラムとは異なる第２のホログラムを選択し、前記第１の光学素子とは異なる第２の光学素子の表面で反射された測定光によって生成された少なくとも１つの第２の干渉パターンを記録する工程と、前記第１の干渉パターン及び前記第２の干渉パターンに基づいて、前記取付構造体における前記第２の光学素子に対する前記第１の光学素子の位置を調整する工程とを含む。
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