【課題】本発明の目的は、従来と同じ演算式を用いながらも干渉縞の位相分布を高精度に求めることのできる干渉縞解析方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の干渉縞解析方法は、干渉縞の位相をシフトさせながらその干渉縞の輝度分布データを繰り返し取得する干渉測定系に適用される干渉縞解析方法であって、前記干渉測定系が取得した輝度分布データ群に生じているドリフト誤差を補正する補正手順（Ｓ１２，Ｓ１１）と、前記輝度分布データ群と所定の演算式とに基づき前記干渉縞の位相分布を算出する算出手順（Ｓ１３）とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学プリズムのような多層反射物体を被検体とした場合でも、被検体が有する複数の光学面の相対傾斜角度を高精度に測定することが可能な傾斜測定干渉計装置を得る。
【解決手段】光源部２１からの低可干渉性の光束を、被検体１に照射される第１の光束と基準光とされる第２の光束とに分岐するビームスプリッタ２５と、被検体１の光学面１１Ａ〜１１Ｄの各々を第１の光束の照射位置に順次移動させ得る回転支持手段３と、光学面１１Ａ〜１１Ｄが移動される毎に、被検面の傾斜情報を担持した干渉縞が得られるように、第２の光束の光路長を調整する光路長調整手段６０とを設ける。光学面１１Ａ〜１１Ｄそれぞれに対応した干渉縞に基づき、解析部５において、光学面１１Ａ〜１１Ｄの相対傾斜角度を求める。 （もっと読む）

【課題】急峻な傾斜を持つ被検体平面〔サンプル〕の計測時に生ずる干渉縞の狭間隔化を解消するようにした干渉装置及び平面形状の測定方法を得る。
【解決手段】従来のマイケルソン型干渉計装置の参照ミラー（参照平面）の代りに、基準のサンプル２１を配置した干渉装置１６に配設した制御手段を介して駆動手段と遮光手段を制御し自動的にサンプル（被検体平面）１の傾斜の急峻な高さ情報Ｈを得る干渉装置及び平面形状の測定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板表面上に形成された反射スポットが剥落しにくく、かつ基板からの反射光の発生を抑制し得る反射型ピンホールを得る。
【解決手段】反射型ピンホール１は、基板表面２ａ上に形成された反射スポット３の全体を、基板表面２ａと共に連続的に覆うＡＲコート４を備えている。このＡＲコート４により、被検光束の基板４からの反射率が低減されるとともに、反射スポット３の基板表面２ａからの剥落が防止されるので、反射型ピンホール１は、その取り扱いが極めて容易であるとともに、波面測定等に利用される際において反射型ピンホール１から測定系に戻るノイズ光を減少させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 被検光学系の光学特性を高精度に測定可能な干渉縞の解析方法、干渉方法及び干渉計を提供する。
【解決手段】 本発明の一形態は、光の干渉によって生じる干渉縞の解析方法であって、２つの光の干渉によって生じる第１の干渉縞の情報を取得する工程と、前記２つの光の少なくとも一方の位相を、ｎを整数とすると、（２ｎ＋１）πラジアン変化させて生成される第２の干渉縞の情報を取得する工程と、前記取得された第１と第２の干渉縞の情報に基づき、フーリエ変換を利用して前記第１と第２の干渉縞の位相情報を平均した情報を求める工程とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

非球面を有する光学素子または非球波面を形成する光学素子を測定する干渉走査法および装置に関する。基準面を用いて生成される既知の球波面の原点に対する走査軸に対して試験用光学素子を調整および移動し、前記非球面の頂点および前記球波面と非球面が共通の接点を有する放射領域において前記試験用光学素子を交差させる。前記試験用表面を空間分解能検出器上に結像して、前記基準面と試験用表面の間の光学距離の差に関する位相情報を含むインターフェログラムを形成する一方で、前記試験用光学素子が前記球基準面に対して移動する軸方向距離を干渉的に計測する。前記非球面の法線方向の設計と比較した前記非球面の形状のずれを決定して報告する。
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【課題】 測定空間における温度勾配による参照面および被検面の誤差成分を除去し、高精度な面形状計測が可能な干渉計測方法及び干渉計測装置を提供する。
【解決手段】 測定光軸を中心として前記参照面および前記被検面を回転方向方位を変えて複数の干渉計測データを測定する工程と、前記複数の干渉計測データを加算平均し誤差成分を算出する工程と、干渉計測データから前記誤差成分を差し引く工程とにより、測定空間の温度勾配による参照面および被検面の誤差成分を除去し、高精度な面形状計測を行う。 （もっと読む）

【課題】直交偏光ビームを分光と同時に位相シフトして多相検出する検出装置をモノリシック構成で小型化する。
【解決手段】位相シフトコーティングを備えた第１の接合面を備えたプリズムと、位相シフトコーティングを備えた第２の接合面を備えたビームスプリッタと、各相のビームを検出するための偏光子と、検出器と、をモノリシック（一体）に構成する。干渉計等により出力された直交偏光された物体および参照ビームを含んでいる一つのビームを入力して、第１および第２の接合面で反射と透過することで４本のビームに分光と同時に位相シフトを施して、４相のビームを生成する。この４相のビームを各々偏光子により直交偏光成分間で干渉を生じさせてから各検出装置で検出することで、多相の干渉信号の検出装置を小型化する。また、同時に多くのコモンモードエラーを除去可能とする。 （もっと読む）

本発明は、低コヒーレンス干渉法に基づくタンデム干渉計光センサシステムによって物理量を測定するための方法とシステムとを提供する。本システムは、光システムとセンシング干渉計と偏光読み出し干渉計とを備える。本発明は、単一の複屈折楔を備える偏光干渉計を提供する。本発明はまた、分散補償型光センサシステムに備えている。本発明はまた、ｘカット方位を有するＬ_iＢ₃Ｏ₅結晶内に軌道を備える温度に高感度である干渉計を提供する。
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【課題】 干渉計を搭載し、簡易な構成及び／又は高精度に投影光学系の収差情報を得ることができる露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有し、前記測定装置は、互いに対向する第１及び第２の面を有する光学部材を有し、前記第１の面には第１の計測用パターンが形成され、前記第２の面には第２の計測用パターンが形成され、前記第２の面は第１の面よりも前記投影光学系側に配置され、前記測定装置は、前記第１及び第２の計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高精度に被検光学系の光学特性を測定する測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するため、本発明に係る被検光学系の光学特性を干渉を用いて測定する測定装置は、光源からの光により照明され、球面波を生成する球面波生成手段と、前記光源からの光を分割する光分割手段と、前記球面波生成手段と前記光分割手段とを通過し、２つの球面波となって前記被検光学系に入射した光のうち一方の光が集光する位置にスリットが配置されたスリットを有するマスクと、前記スリットを通過した光と、前記被検光学系を経てスリットを通過しない光とで形成される干渉縞を受光する受光手段とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 円筒形状の被測定物の形状を素早く計測することができ、水平面内の最大主応力軸を高精度で求めることが可能な測定装置を実現する。
【解決手段】 本発明のレーザ干渉型測定装置は、測定試料としての円筒形状の岩石コア１１を支持する、円周方向に回転可能なサンプルホルダ１２と、岩石コア１１の半径方向に移動可能なナイフ・エッジ１３と、岩石コア１１の側面とナイフ・エッジ１３との間に形成されたスリット１４にレーザ光を出射するレーザ光源１５と、スリット１４を通過したレーザ光の干渉縞を測定するＣＣＤ１６とを備えているから、測定した干渉縞に基づいて、岩石コア１１の側面の円周外形を高い精度で素早く求めることができる。 （もっと読む）

【課題】結像レンズを持たないＰＤＩを用いて、高精度に面形状を測定できる形状測定装置及び形状測定方法を提供する。
【解決手段】光源と、該光源から放射される光束をピンホールを有するミラーに集光する集光光学系と、該ピンホールから回折される波面の一部からなる参照光束と該波面の他の一部が被検面で反射され、さらに該ミラーで反射された測定光束との干渉縞を検出する検知器と、検出された干渉縞の強度分布より該被検面の面形状を算出する演算部と、を有する被検面の面形状測定装置であって、
該検知器の有効面の開口数をNAccd、該被検面の照射領域の開口数をNAillu、該被検面の測定領域の開口数をNAtestとするとき、NAccd＞NAillu≧ NAtest または、NAccd≧NAillu＞ NAtestとなされている面形状測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高精度のピンホール形状と、高い遮光性を有し、かつ面精度の良好なピンホールマスクを提供する。
【解決手段】 SiＮ薄膜２の上にレジスト３を塗布し（ｄ）、ＥＢ描画により、レジスト３のピンホールを作成したい部分を露光し、レジスト３を現像することにより、ピンホール４を形成する。そして、残ったレジスト３をマスクとしてＲＩＥエッチングにより、SiＮ薄膜２にもピンホール５を形成する（ｆ）。その後、レジスト３をドライエッチングにより除去する。これにより、ピンホールを有するSiＮ薄膜２からなるメンブレンが完成する（ｇ）。その後、後に説明するように、SiＮ薄膜２からなるメンブレンの両面に、２種類以上の金属からなる、金属薄膜６を、蒸着やスパッタリングにより成膜する。この際、成膜された金属薄膜にも、ピンホール７が形成される（ｈ）。 （もっと読む）

【課題】光学素子の面形状、偏心などを、周辺環境に関わらず安定的かつ高精度に測定できるシヤリング干渉計等を提供すること。
【解決手段】レーザ光源１１１と、レーザ光源１１１からの光束を第１の光束と第２の光束とに分割する光束分割部１１５と、光束を光軸ＡＸに関して所定角度だけ回転させるイメージローテータ１１６とを有し、反対の向きに所定角度ずつ回転している第１の光束と第２の光束とを合成する光束合成部１１５と、合成された光束を結像する結像光学系１１８と、干渉縞を取り込むＣＣＤカメラ１１９とを有し、光束回転部１１６は、第１の光束と第２の光束とをそれぞれ対向する向きから入射させ、第１の光束と第２の光束とをそれぞれ反対の向きに所定角度だけ回転させ、光束分割部１１５の機能と光束合成部１１５の機能とを同一のビームスプリッタ１１５が兼用する。 （もっと読む）