【課題】 複数の受光素子により光ビームの暗線の位置（全反射減衰角θ_ＳＰ）の検出を行う測定装置において、測定精度を向上させる。
【解決手段】 光ビームを検出する各フォトダイオード17ａ、17ｂ、17ｃ……に接続された差動アンプ18ａ、18ｂ、18ｃ……の中から、全反射減衰角θ_ＳＰに対応する微分値Ｉ´＝０に最も近い出力が得られているものを選択し、次に、選択した差動アンプを中心として前後２ｃｈ分の合計５ｃｈの作動アンプの出力に基づいて３次の近似式を算出し、この近似式を作動アンプの出力（微分値）と全反射減衰角θ_ＳＰ（暗線）の位置との関係を示す関係式として、この関係式と上記で選択した作動アンプの出力とに基づいて全反射減衰角θ_ＳＰの位置を求める。
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【課題】半導体ウェハの外周部の形状特性を正確に取得することができる形状特性取得方法及びプログラムを提供すること。
【解決手段】半導体ウェハの表裏面の径方向に沿った形状データを取得し、この形状データから半導体ウェハの厚みの中点を算出し、前記中点から２次の近似曲線である基準曲線を算出する。そして、前記半導体ウェハの表面及び裏面の形状データから、前記基準曲線の成分を除去したプロファイルを求め、さらに、半導体ウェハの外周部を除く前記プロファイルの所定の区間を１次関数でフィッティングした後、このフィッティングしたプロファイルから、前記１次関数の成分を差し引く。これにより、前記所定の区間が略変位のない基準線２７を有するプロファイル２８を得ることができる。そして、この基準線２７に対する半導体ウェハの外周部の所定位置におけるずれ量Ｔ１，Ｔ２を求める （もっと読む）

【課題】 中空円筒の偏心測定装置において、確実でかつ高精度な偏心測定装置を実現することを可能とする。
【解決手段】 半導体レーザー投光装置９を被測定物１の出射面付近を照射する位置に設置する。被測定物１に当たった半導体レーザー光１０は、光スペックルパターンを発生させる。このスペックルパターンをカメラ５で撮影し、画像処理検査装置６でこの画像を処理すれば、回転の有無を判定できる。カメラ５および画像処理検査装置６は偏心の測定にも利用できる。 （もっと読む）

【課題】 撮影後に、すばやい目の瞬きや、手先等の非剛体の動きを迅速に検出し、三次元形状計算をする前に使用者にメッセージを出し、計測対象者への負担を軽減することなどを可能とする。
【解決手段】 複数の画像に微分フィルタを適用した後、ある画像領域内で、各画像のエッジ強度の絶対値の差分の絶対値の和を求め、この絶対値の和を、前記画像領域内の複数の画像の一の画像のエッジ強度で除した値を求め、この値が所定の閾値を超えた場合には、画像領域内において計測対象物が動いたと判断する。計測中に手等が動いた時に、その旨計測対象者に知らせることができる。簡単な計算によって、短時間で計測対象者の動きを検出することができる。微分フィルタとして、平滑化微分フィルタ又はソーベル微分フィルタを用いることができ、微分フィルタを適用した後の画像にメジアンフィルタを適用してもよい。 （もっと読む）

少数のマーカを用いて人体等の多関節体の構成要素の位置情報と角度情報を取得するために、多関節体の各構成要素が備える制約条件を利用し、少数のマーカから得られたある構成要素の位置情報から、この制約条件を満足するような他の構成要素の姿勢候補を抽出し、この姿勢候補と多関節体の画像との重ね合わせにより角度情報を取得する。
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【課題】
ロッド（断面円形の線状体あるいは棒状体）の反りの大きさを簡便な方法により迅速に測定する。
【解決手段】
被検査物ロッドを転がし台上で回転転落させ、回転転落中のロッドによる遮光をラインセンサーにより一次元画像信号として検出する。一次元画像信号から得られる二次元画像信号によりロッドの回転転落中の位置揺らぎ量を求め、この位置揺らぎ量に基づいてロッドの反りの大きさを求める。位置揺らぎ量は、二次元画像信号から回転転落中のロッドの重心位置を求め、この重心位置と重心位置移動平均値との差から、回転転落中の修正重心位置を求め、その後修正重心位置の最大振幅を求めることにより算出される。遮光信号の検出は、回転転落する被検査物ロッドの先端近傍で行う。 （もっと読む）

【課題】 複数層に形成されたパターンを光学的に検出するときの最適条件を決めるために用いることができる光学測定評価方法を得る。
【解決手段】 光学測定評価方法が、積層形成された状態の二つ以上のパターンを光学的の撮影して画像を取得する第１のステップと、この画像から前記層のそれぞれにおけるパターンを含む領域を切り出す第２のステップと、切り出された領域毎について比較パターンとの相関関数を計算する第３のステップと、領域毎について相関関数のピークの鋭さを示す評価値を算出する第４のステップと、領域毎について算出された評価値を用いて相対的に測定精度を制限している層に比重が置かれるような総合指標を算出する第５のステップと、総合指標から最適値を評価する第６のステップとから構成される。 （もっと読む）

【課題】 プレス成形後に生じた割れを正確に検知できるようにする。
【解決手段】 プレス成形されたワークの所定部位を包含し当該ワークからはみ出す検査領域に前記ワークの前面からレーザー光を照射するレーザー光照射手段と、当該検査領域に照射されたレーザー光を前記ワークの背面から受光するレーザー光受光手段と、前記検査領域で受光されたレーザー光に基づいてレーザー光の漏洩面積を演算する漏洩面積演算手段と、良品ワークにおけるレーザー光の漏洩面積を基準漏洩面積として記憶する記憶手段と、前記演算された漏洩面積を当該基準漏洩面積と比較する比較手段と、前記演算された漏洩面積が前記基準漏洩面積よりも大きいときに前記ワークに割れが生じていると判断する判断手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 小火器の照準補正量を決めるために連続して何度も射撃及び計測が可能で、風や騒音などの外乱要因によらず高精度での計測を可能にする弾道位置計測装置を得る。
【解決手段】 弾道位置計測枠６を弾丸が通過するように細い四角形のフレーム形状とし、内側の隣接する２辺に弾丸の大きさ以下の間隔で等間隔に配列されたレーザ光源部１０から出たレーザ光１２が弾道位置計測枠６の内側をメッシュ状に照射し、対辺にレーザ受光部１１を配置して、小火器１から照準方向の補正を行う距離だけ離れた地点に照準軸５と直交するように設置する。弾丸通過時に受信信号１３が変化することを弾道位置計測部７で検知し、信号の変化したレーザ受光部１１の位置から弾道位置Ｐを計測するとともに、弾道位置表示器８で射手に示すようにした。 （もっと読む）

【課題】対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査において、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上する。
【解決手段】基板９に塗布されたレジストの濃淡ムラを検査するムラ検査装置１では、基板９の撮像画像が圧縮された後にローパスフィルタ処理が行われ、さらにハイパスフィルタ部４２１４によりハイパスフィルタ処理が行われる。ハイパスフィルタ部４２１４では、ハイパスウィンドウがエッジ近傍に存在する場合には、ハイパスウィンドウが縮小されてフィルタ処理による画素値算出の対象となる注目画素が属する領域以外の領域を避ける。このように、ムラ検査装置１では、ハイパスフィルタ処理に利用される画素群を、ハイパスウィンドウ内の画素、すなわち、実質的に注目画素が属する領域内の画素に制限することにより、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 眼鏡使用者に対しても適用できる視線ベクトル検出システムを提供することを課題とする。
【構成】 眼又は顔を照射する赤外線光源と、眼又は顔を撮影するカメラと、該カメラの撮影画像データを処理して視線ベクトルを算出する計算機とを具備する視線ベクトル検出システムにおいて、前記計算機は前記撮影画像データから真の輝点及び瞳孔の中心を検出する画像処理部と、視線ベクトルを算出する演算部とを含み、該画像処理部は近傍に瞳孔を有する輝点の中で所定の要件を満たす輝点を真の輝点と決定すると共に該瞳孔の中心を求め、更に、角膜球の中心を求める処理を実行することを特徴とする。
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本発明は、低コヒーレンス干渉法に基づくタンデム干渉計光センサシステムによって物理量を測定するための方法とシステムとを提供する。本システムは、光システムとセンシング干渉計と偏光読み出し干渉計とを備える。本発明は、単一の複屈折楔を備える偏光干渉計を提供する。本発明はまた、分散補償型光センサシステムに備えている。本発明はまた、ｘカット方位を有するＬ_iＢ₃Ｏ₅結晶内に軌道を備える温度に高感度である干渉計を提供する。
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【課題】 半導体ウェハにおいて、その周縁部に発生する欠陥切欠き部分を精度よく検出することができるウェハの欠陥検出方法および装置を提供する。
【解決手段】 中心軸線２９からウェハの周縁部まで延びる周縁直線４０が、中心軸線２９まわりを角変位する場合の、周縁直線の距離変化に基づいて、ウェハの切欠き部分の幅Ｗと、深さＨとを算出する。注目する切欠き部分の幅と深さとの少なくとも１つが、ノッチ２２またはオリフラ２４に対して設定される幅と深さとの規定範囲外である場合に、その注目する切欠き部分を欠陥切欠き部分として検出する。このように切欠き部分の幅と深さとの両方に基づいて、切欠き部分が欠陥であるかを判断する。これによって、ウェハ２１に発生する欠陥切欠き部分をノッチ２２またはオリフラ２４と誤検出することを防ぎ、欠陥切欠き部分を精度よく検出することができる。 （もっと読む）

【課題】透明または半透明の製品内の不良部分等の高さ位置の検出を高速で行う。
【解決手段】異なる角度で設置された２つのカメラ３、４の撮像範囲を合わせて、透明または半透明の被検査物Ｗ内の異物を同時に撮影し、各カメラ３、４の画面上の異物の重心位置をコンピュータ７の記憶装置に取込み、カメラ３、４による異物の位置情報に基づき、予め記憶された各カメラ３、４の設置角度およびカメラ５による被検査物Ｗの厚み情報等を用いた演算によって、被検査物Ｗ内の異物の高さ位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】 ピストン上に電気機器を配置することなく、かつ、ガスホルダの規模にかかわらずピストンの傾斜を正確に検出し得る乾式ガスホルダのピストン傾斜検出装置、及び当該検出装置を備える乾式ガスホルダを提供する。
【解決手段】 乾式ガスホルダ本体１内部に配置されるピストン２の傾斜を検出する、乾式ガスホルダのピストン傾斜検出装置であって、ピストン２までの距離を計測する少なくとも３基以上の非接触式距離計４、４、…と、非接触式距離計４、４、…の計測値を用いてピストン２の傾斜を算出する演算装置５と、演算装置５の算出結果を表示する表示装置６とを備え、非接触式距離計４、４、…は、乾式ガスホルダ本体１に設けられるとともに、ピストン２よりも上方に配置されている、乾式ガスホルダのピストン傾斜検出装置。 （もっと読む）

【課題】視野の広い被写体の像を複数の撮像光学系を用いて撮像する際、他の撮像光学系の光源からの照明光による影響を受けない撮像装置を実現する。
【解決手段】複数の撮像光学系（２，３）を近接配置する。各撮像光学系は照明光源（１０）と、撮像レンズ系（１２）と、リニァイメージセンサ（１３）とを具える。光源駆動回路（２１）を設け、各光源を所定の周波数で順次発光させ、各光源の発光期間中に各リニァイメージセンサは読出サイクルを実行してビデオ信号を出力する。リニァイメージセンサ（１３）の後段に配置したビデオ出力回路（２３）により、各リニァイメージセンサから出力されるビデオ信号を順次切り換えてビデオ出力として出力する。ビデオ出力回路は、ｉ番目の撮像光学系の光源の発光サイクルが終了した後とが撮像光学系のリニァイメージセンサからのビデオ信号を出力する。このように切り換え制御を行うことにより、他の撮像光学系の光源が発光する期間中に蓄積された電荷に基づくビデオ信号は廃棄されるので、別の撮像光学系の光源からの照明光が入射しても影響を受けることはない。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも二つ以上の光学面の偏心量を容易かつ高精度に測定することのできる光学素子、その測定方法及びその製造方法を得る。
【解決手段】 金型１５，１６によって成形された光学素子１０であって、光学面１１，１２の有効径内に調整用マークとして凹部１１ａ，１２ａが設けられている。一対の光学顕微鏡を光学素子１０の上方及び下方に配置し、各顕微鏡にて凹部１１ａ，１２ａを検出し、凹部１１ａ，１２ａの偏心量を算出する。さらに、この偏心量に基づいて金型１５，１６の位置を微調整し、光学素子１０を成形する。 （もっと読む）

【課題】透過波面の高さ方向の測定分解能を保ちつつ、その透過波面の面方向の測定分解能を高めることのできるシャックハルトマン式の波面収差測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系（ＰＯ）に測定光束を投光する投光手段と、前記被検光学系（ＰＯ）を透過した前記測定光束を複数に分割して所定面上に複数のスポットを形成する光学素子アレイ（１４）と、前記複数のスポットの各々の位置を検出する検出手段（１５）とを備え、前記位置の理想位置からのずれ量に基づき前記被検光学系の波面収差を求める方式の波面収差測定装置において、前記光学素子アレイ（１４）の各光学素子に個別に入射する各光束の周縁部の光量をそれぞれ低減するフィルタ手段（１６）を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】略方形環状の成形品に対してバリや欠け等の欠陥検査を行うのに適した技術を提供すること。
【解決手段】所定の基準ラインＸ、Ｙに沿って、複数箇所で、外周側のエッジ間距離Ｙ（ｎ）、Ｘ（ｎ）を取得し、これらと予め設定された基準値Ｙ（ｓ）、Ｘ（ｓ）とを比較している。そして、外周側のエッジ間距離Ｙ（ｎ）、Ｘ（ｎ）が、外周側の基準値Ｙ（ｓ）、Ｘ（ｓ）の半分であるとかどうかを判定し、その判定結果に基づいて成形品１が部分的に途切れているか否かを判定しているため、成形品１の途切れによる形状不良について、より適切に欠陥検査を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】波面収差測定装置のシステム誤差を確実に既知とすることのできる波面収差測定装置の校正方法を提供する。
【解決手段】被検光学系（０）の透過波面（Ｗ）の形状の勾配のデータ（δＷ）を取得する波面収差測定装置の校正方法であって、前記波面収差測定装置内の所定光学系と前記被検光学系（０）との相対位置関係（θ）を変化させる変化手順と、互いに異なる複数の前記相対位置関係の下で（（ａ），（ａ’））それぞれ前記データを取得する測定手順と、前記取得された複数の前記データの間の差異（ΔδＷ）と、複数の前記相対位置関係の間の差異（θ１）とに基づき、前記所定光学系に起因するシステム誤差を求める校正手順とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）