【課題】高速搬送によってエンボス形成した場合に発生する同伴エアーを低減させ、低速搬送時と同一形状を有するエンボスを形成する。
【解決手段】マットローラ３１と、フィルムＦをマットローラ３１と挟持して搬送することで、フィルムＦにエンボスを形成するエンボス形成ローラ３２と、マットローラ３１とフィルムＦとの間に発生する同伴エアーを緩和させるエアー緩和手段とを備え、エアー緩和手段を、表面粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ≦Ｒａ≦１０μｍで規定されるマットローラ３１で構成した。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール１０５に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール１０５を熱キュア装置２００で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。 （もっと読む）

【課題】継ぎ目のない単粒子膜がロールを被覆した単粒子膜被覆ロールを簡便に製造できる単粒子膜被覆ロールの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の単粒子膜被覆ロールの製造方法は、ロール１１を水中に浸漬させる浸漬工程と、水面Ａに単粒子膜１２を形成する単粒子膜形成工程と、ロール１１を、その中心軸が鉛直方向に向いた状態で水面Ａ上に引き上げて、単粒子膜１２をロール１１の周面１１ａに移行させる移行工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】中間スタンパを用いるインプリント法において、アライメント精度が向上した中間スタンパの製造方法並びに凹凸パターンの精確な形成方法を提供すること。
【解決手段】光硬化性転写シートを用いて中間スタンパを製造する方法であって、前記光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、中間スタンパの基板となる硬質板の表面に、剥離シートのない表面が硬質板の表面と対向するように貼り付ける工程、前記硬質板から前記光硬化性転写シートの剥離シートを除去することにより、前記硬質板の表面に光硬化性転写層を形成する工程、金型の表面を、前記硬質板に形成された光硬化性転写層の表面に押圧し、前記表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程、及び、次いで前記積層体の光硬化性転写層の紫外線照射及び金型の除去により中間スタンパを得る工程、を含むことを特徴とする中間スタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント材料の充填速度を制御する。
【解決手段】実施形態のインプリント用のテンプレートは、一方の面に凹凸を有するパターンが形成された第１部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第１部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートである。このテンプレートは、端部領域に第２部材が設けられている。前記第２部材の前記インプリント材料に対する接触角は、前記第１部材の前記インプリント材料に対する接触角より大きい。 （もっと読む）

【課題】原版の再作成頻度を低減できるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】台座基板１０と、台座基板１０の主面１０ａの上に形成され、被転写物へ形状を転写するための凹凸パターン２１を有する樹脂製のパターン転写部２０と、を備えるインプリント用テンプレート１１０である。この台座基板１０の主面１０ａには凹凸部が設けられ、パターン転写部２０の主面１０ａ側が凹凸部の凹部に入り込むよう設けられている。基板上に被転写物を設ける工程と、台座基板１０に形成された樹脂による凹凸パターンを有するインプリント用テンプレート１１０を用い、凹凸パターン２１を被転写物に接触させる工程と、被転写物を硬化させた後、インプリント用テンプレート１１０を被転写物から離型し、被転写物に凹凸パターン２１の形状を転写する工程と、を備えたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの不良を低減するテンプレートの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレートの製造方法は、主面１１に凹凸を有するパターン１３０が形成され、パターン１３０をウエハ４上に形成されたレジスト材５に接触させてパターン１３０をレジスト材５に転写するインプリント処理に用いるテンプレート１であって、テンプレート１の少なくとも凹部１３２の底部１３２ａに荷電粒子を打ち込む工程を含む。 （もっと読む）

【課題】撥水剤の塗布や混練することなく、かつ特殊な加工設備・金型を必要とせず、簡単な工程で加硫ゴムの表面に高撥水構造を形成する方法を提供する。
【解決手段】ゴムの加硫成形工程において、メッシュシート２の構造をゴム組成物３の表面へ転写し、加硫ゴム表面に高撥水構造を形成する。メッシュシートのメッシュ数が１５０〜５０８メッシュである。メッシュシートのオープニングが２０〜１２０μｍである。メッシュシートのオープニングエリアが２０〜５０％である。 （もっと読む）

【課題】加工対象の表面の高さ分布に起因する微細パターンの形状のばらつきを低減させることが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１は、モールド基体部３と、裏面５Ｂと、裏面５Ｂとは反対側のパターン面５Ｓとを有するモールド本体部５と、モールド基体部３の表面３Ｓと、モールド本体部５の裏面５Ｂとの間に固定された弾性体部７とを備える。モールド本体部５のパターン面５Ｓには、ナノインプリント用のパターン５Ｐが形成されており、弾性体部７の体積弾性率は、モールド本体部５の体積弾性率よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】光インプリント後の被加工物との離型性に優れたナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基部３と該基部３の一方の面から突出する凸構造部４とを有する基材２と、凸構造部４の上面４ａに位置する転写形状部５と、凸構造部４の側面４ｂの周囲方向全域に位置する傾斜部６と、を備えたものとする。 （もっと読む）

【課題】製造したテンプレートの形状と、そのテンプレートによって形成された被処理膜を形成するためのパターンが、テンプレートの描画データに基づいて正しく製造されているかを調べるために使用するパターン検査データの作成方法を提供する。
【解決手段】隣接する一対のライン部を形成するパターンの端部間が接続された閉ループ構造のデバイスパターン形成用パターンを有するテンプレートを形成するための描画データのパターンの外周を、外向き／内向きに所定の量だけ移動させたバイアスデータを作成し、ついで、パターンの外周を外向きと内向きの両方に所定の量だけ移動させて２つのバイアスデータを作成した場合には、２つのバイアスデータの差分を取り、パターンの外周を外向きまたは内向きの一方に所定量だけ移動させて１つのバイアスデータを作成した場合には、バイアスデータとパターンの描画データとの差分を取ってパターン検査データを作成する。 （もっと読む）

【課題】ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。
【解決手段】実施形態のテンプレート１０は、第１凹凸パターンに硬化剤を充填して硬化させることにより第１凹凸パターンを硬化剤に転写して硬化剤からなる第２凹凸パターンを被加工層上に形成するインプリントに用いるテンプレートである。このテンプレート１０は、基板の一面側に第１凹凸パターンを備える。第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 （もっと読む）

【課題】多数のインプリント用型を容易に得ることができる型の製造方法を提供する。
【解決手段】微細な転写パターンＭＡが形成されたマスター型Ｍ０を用い、微細な転写パターンＭＢが形成されている一次型Ｍ１を金属で生成する一次型生成工程Ｓ１と、基材３にスピンオンガラス５を設けてスピンオンガラス設置済基材７を生成するスピンオンガラス基材生成工程Ｓ３と、スピンオンガラス設置済基材を、一次型で押圧して、スピンオンガラス設置済基材に設けられているスピンオンガラスに、一次型に形成されている微細な転写パターンを転写するスピンオンガラス転写工程Ｓ５と、微細な転写パターンが転写されたスピンオンガラス設置済基材を用い、微細な転写パターンＭＣが形成されている二次型Ｍ２を生成する二次型生成工程Ｓ７とを有する。 （もっと読む）

【課題】光学シートの金型ロールに関し、広い幅の金型ロールであっても切削工具の交換をすることなく、又は交換回数を減らすことができる金型ロールの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シートの凹凸部分を成形する金型ロールを製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凹凸に対応する溝を形成させる工程を含み、切削工具の横逃げ角を２度以上、５度以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されるアライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】台座付き基板を作製する方法として、アライメントマーク５が形成された台座形成領域１ａと台座非形成領域１ｂを覆う状態でネガ型のレジスト層６を形成する第１工程と、均し基板１０の平坦面１０ａをレジスト層６の表面に密着させて均す第２工程と、均し基板１０側から露光光を照射してレジスト層６を露光する第３工程と、露光後のレジスト層６を現像して得られるレジストパターンをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより台座を形成する第４工程とを有する。そして、第２工程でレジスト層６を均すことにより、台座形成領域１ａ上のレジスト層６と台座非形成領域１ｂ上のレジスト層６との間に、不溶化するのに必要な露光量の差を生じさせ、第４工程にて台座形成領域１ａにレジストパターンが形成されるように、第３工程にて露光光の露光条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】親テンプレートからインプリント法により個別識別マークを備えたテンプレートを容易に作製する。
【解決手段】第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製するテンプレート作製方法であって、第１のテンプレート上に形成された転写を希望する凹凸パターンに対応する被処理基板上のパターン形成領域に第１のレジストを塗布し、第１のテンプレート上のパターンの形成されていない領域に対応する被処理基板上のマーク形成領域に、所望するパターンとなるように第２のレジストを選択的に塗布する。レジストが塗布された被処理基板上に第１のテンプレートを密着させて、第１のテンプレートの凹部に第１のレジストを浸透させる。第１及び第２のレジストを硬化させ、硬化されたレジストをマスクに用いて被処理基板を加工する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】皺や転写不良の発生を充分に抑えることができる、微細パターンを表面に有する成型体の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）光重合性組成物２０をモールド１０の表面に供給し、（ｂ）空気に接した状態で比較的高い照度の紫外線を硬化度合Ｘが３０〜９０％となる光量にて照射し光重合性組成物２０を硬化させて半硬化物２２とし、（ｃ）光重合性組成物２０を半硬化物２２の表面に供給し、（ｄ）工程（ｂ）と同様に光重合性組成物２０および半硬化物２２を硬化させて半硬化積層物２４とし、（ｅ）光重合性組成物２０を半硬化積層物２４の表面に供給し、（ｆ）光重合性組成物２０の上に透明基板３０を載置し、（ｇ）空気に接しない状態で紫外線を硬化度合Ｘが９５％以上となる光量にて照射し光重合性組成物２０および半硬化積層物２４を硬化させて硬化積層物２６とする、成型体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 モールド欠陥の発生を抑制できるインプリント用モールドを提供すること。
【解決手段】 基板と、前記基板上に設けられ、転写するべきパターンに対応した凹凸パターンと、不純物が添加されていない溶融石英よりも不活性ガスに対する透過性が高いガス透過性領域とを具備してなり、前記不活性ガスに対する透過性は、被処理基板上に塗布されたインプリント剤に前記凹凸パターンを接触させた場合に、前記凹凸パターンとは反対側の面から前記基板内に前記不活性ガスを取り込む性質であり、前記ガス透過性領域は、前記凹凸パターンが形成された面と反対側の面から、前記凹凸パターンが形成された面に向かって、前記不活性ガスに対する透過性が異なる複数の領域を具備することを特徴とするインプリント用モールド。 （もっと読む）