【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 ショット領域間の相対位置の計測を容易に行いうるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、基準マークが形成されたモールドを保持する支持体と、各ショット領域に第１マーク及び第２マークが形成された基板を保持する基板ステージと、前記各ショット領域に形成された前記第１マーク及び前記第２マークと前記モールドに形成された前記基準マークとを検出することによって前記各ショット領域間の相対位置を計測する検出器とを備える。前記検出器は、隣接しあう２つのショット領域のそれぞれに形成された隣接しあう前記第１マーク及び前記第２マークそれぞれの前記基準マークに対する位置を検出することによって、隣接しあう前記２つのショット領域間の相対位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル材料により、１次元格子に代表される微細構造を有する光学素子を高歩留まりで製造する。
【解決手段】チタン系のゾルゲル材料を基板１に塗布し、真空乾燥を施して乾燥ゾルゲル皮膜であるチタニアゾル層２を形成し、その上に、型３を用いた型押し成形によりラインアンドスペース構造を転写後離型して、微細構造を有するチタニアゾル層４を形成する。次いで、加熱によりゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進して硬化させることで、ラインアンドスペース構造を有する酸化チタン構造部５を形成する。 （もっと読む）

【課題】生産性の点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板５上の未硬化樹脂を型により成形して硬化させ、前記基板５上に硬化した樹脂のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板５に対して前記未硬化樹脂と溶媒との混合液を吐出する吐出手段７と、前記基板５上に吐出された前記混合液から前記溶媒を蒸発させる蒸発手段９と、を備え、前記吐出手段７は、前記基板５上で液滴と液滴とが接触するように前記混合液を吐出する。 （もっと読む）

【課題】入射光の反射率及び回折光を低減できる微細構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の微細構造体１は、基材１１と、基材１１主面から上方に突出する複数の凸部１３を含み基材１１上に設けられた微細構造層１２とを具備し、複数の凸部１３が基材１１主面内のＹ軸方向においてピッチＰ１で配列されて凸部列１３−１〜１３−Ｎを構成し、凸部列１３−１〜１３−ＮがＹ軸方向と直交するＸ軸方向にピッチＰ２で並設されており、隣接する第１凸部列１３−１及び第２凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α１と、第２凸部列１３−２及び第２凸部列１３−２に隣接する第３凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α２とが互いに異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、マスター型での不良の発生を防止する。
【解決手段】型Ｍ１を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板Ｗ１の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部Ｗ２を設けて、マスター型Ｍ２を製造するマスター型製造装置１において、凸部Ｗ２を形成するための型Ｍ１の凹部Ｍ３に供給された硬化前の成型材料を観察する硬化前観察カメラ１７を有する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成不良を防止しつつ基板上に多くのショットパターンを形成する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法が提供される。前記パターン形成方法では、インプリントによって基板に回路パターンを形成する前の処理として、前記基板上でインプリントショットとなる領域の周囲を所定の高さで前記インプリントショット毎に囲うことによってインプリントショット間を遮断する壁パターンを形成する。そして、前記壁パターンで囲まれたインプリントショット内に、インプリント材を滴下する。そして、前記インプリント材にテンプレートを押し当てることにより、前記壁パターンで囲まれたインプリントショット内に、前記回路パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高精細なインプリント転写が安定して行えるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。
【解決手段】供給工程にて、モールド１の凹凸構造領域１Ａを有する面１ａと、充填用基材１１との少なくとも一方に樹脂材料５を供給し、充填工程にて、モールド１の面１ａと充填用基材１１との間に樹脂材料５を充填し、離間工程にて、モールド１側に樹脂材料５が残るように充填用基材１１とモールド１とを引き離し、押し当て工程にて、インプリント用の基板７を樹脂材料５に接触させ、離型工程にて、樹脂材料５からモールド１を引き離すように構成し、モールド１に対する樹脂材料５の接触角θｍと、充填用基材１１に対する樹脂材料５の接触角θｊと、インプリント用の基板７に対する樹脂材料５の接触角θｋとの間に、θｋ＜θｍ＜θｊの関係が成立するようにした。 （もっと読む）

【課題】気泡の除去を容易にするとともに変形を抑えた転写印刷用スタンプの製造方法および電子デバイスを提供する。
【解決手段】転写印刷用スタンプ５は、通気性シート３に樹脂を含浸させて通気性シート３を第１樹脂層１００中に含まれるように構成させている。これにより、第１樹脂層１００中に含まれる気泡を通気性シート３の隙間を通して容易に脱気させることができる。そのため、気泡によるパターン欠損などの問題を解消することができる。また、通気性シート３は、第１樹脂層１００中で骨格として機能するので、転写印刷用スタンプ５の強度を高めることができ、変形を抑えることができる。そのため、転写の寸法精度を高めることができ、大面積化させることができる。 （もっと読む）

【課題】インプリントレジスト特徴寸法の拡大を可能にするパターン化磁気記録ディスクの製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、インプリントレジストがＮＩＬによりパターン化された後インプリントレジスト特徴部の寸法を拡大する。インプリントレジスト材料の層は、ブランクディスク上に堆積される。インプリントレジスト層はＮＩＬによりパターン化され、上部から基部まで傾斜した側壁を有する複数の離間されたレジスト柱を生じる。被覆層が、傾斜したレジスト柱側壁の上を含むパターン化されたレジスト層の上に堆積される。被覆層は次に、レジスト柱間の空間部内にブランクディスクを露出する一方で傾斜したレジスト柱側壁上に被覆層を残すためにエッチングされる。レジスト柱は次に、ブランクディスクをエッチングするためのマスクとして使用され、ブランクディスク上に複数の個別のアイランドを残す。 （もっと読む）

【課題】離型時のテンプレートおよびレジストパターンへの衝撃を可及的に低減すること。
【解決手段】第１の硬化性樹脂材料を被処理基板に塗布して、前記第１の硬化性樹脂材料が塗布された被処理基板にテンプレートに作成された半導体集積回路のパターンを転写するインプリント方法であって、１回の転写によりパターンが形成される領域のうちの外周部のうちの少なくとも一部に前記第１の硬化性樹脂材料よりも離型性が高い第２の硬化性樹脂材料を塗布するステップを備える、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造が表面に形成された物品の製造を終了する際にモールドの表面に発生する表面欠陥が、物品の製造を再開した際に物品の表面に転写されることを抑制することができる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の硬化性樹脂組成物３９を、微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成し、物品４０を得る工程（Ｉ）、内部離型剤を含む第２の硬化性樹脂組成物３８をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成する工程（II）、第１の硬化性樹脂組成物３９または第３の硬化性樹脂組成物をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、物品４０を得る工程（III）を有する製造方法。 （もっと読む）

【課題】転写の際に、被成形品に気泡が発生することを防止することができ、転写のための押圧力を小さくすることができ、被成形品と型との型離れがよい転写装置を提供する。
【解決手段】ベース部材の上方に位置するビームの下部の平面に、基板を保持可能な門型フレームと、ベース部材のＹ軸方向に移動自在な第１の移動部材と、第１の移動部材のＸ軸方向に移動自在な第２の移動部材と、第２の移動部材のＺ軸方向に移動自在な第３の移動部材と、第１の移動部材を移動させる第１の駆動手段と、第３の移動部材を移動させる第２の駆動手段と、凸面の内側の揺動中心軸を第３の移動部材に揺動自在に支持された型保持体と、揺動中心軸を中心にして型保持体を一方向に付勢する付勢手段と、型保持体を前記一方向とは逆に揺動させるアクチュエータと、型保持体に保持された型の転写パターンが形成された面に、薄膜状の被成形層を設ける被成形層設置手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】モールドの離型中における計測器による計測の正確さの点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】型を保持する保持部と、基板または前記型の位置決めに係る物体の位置を計測する計測器と、前記保持部を支持する第１支持体と、前記計測器を支持する第２支持体と、前記第１支持体および前記第２支持体を支持する第３支持体と、前記第３支持体の鉛直方向上方、かつ、前記第１支持体と前記第２支持体との間に設けられ、鉛直方向の剛性がそれ以外の方向の剛性より高い継手機構と、を有し、前記第３支持体は、前記第１支持体および前記第２支持体の一方および前記継手機構を介して前記第１支持体および前記第２支持体の他方を支持する。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量％とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー（Ａ）が、
（ａ１）炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
（ａ２）ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が５０℃以上を示す高軟化点モノマー ５〜１２０重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が３，０００〜２０，０００であるフッ素系ポリマー（Ａ１）である材料組成物。 （もっと読む）

【課題】接着性、微細パターン形成、離型性に優れた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】基材１１、該基材上に設けられた金属層１４及び該金属層上に設けられたＳｉＯ_２層１５が積層されてなるエッチング層１２、並びに該エッチング層上に設けられ、カチオン硬化性樹脂組成物とラジカル硬化性樹脂組成物とを含むレジスト層１３を具備する感光性樹脂積層体。該カチオン硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種類のカチオン硬化性モノマーと光酸発生剤を含み、該ラジカル硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリレート誘導体であるラジカル硬化性モノマーと光ラジカル発生剤と所定のウレタン（メタ）アクリレート化合物を含み、該ウレタン（メタ）アクリレート化合物の含有量は、該カチオン及び該ラジカル硬化性樹脂組成物の固形分合計１００重量部に対し０．１〜５重量部である。 （もっと読む）

【課題】転写の際に、被成形品に気泡が発生することを防止することができ、転写のための押圧力を小さくすることができ、さらに、被成形品と型との型離れがよい転写装置を提供する。
【解決手段】基板テーブル１０３と、基板テーブル１０３に対して相対的に移動自在な型保持体１０５と、型保持体１０５をＹ軸方向で基板テーブル１０３に対して相対的に移動位置決めするための駆動手段と、型保持体１０５をＺ軸方向で基板テーブル１０３に対し接近・離反する方向で相対的に移動位置決めするための駆動手段と、型保持体１０５に保持されている型５５の転写パターンが形成されている面に、薄膜状の被成形層１６を設ける被成形層設置手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 従来数ナノメートル線幅を有するマスクを作る金型を、電子線露光法にて製作していたが、電子ビームのゆれのため製作が困難で又その検査も難しかった。又マスク自体をレジスト膜としては使用できなかった。
【解決手段】 拡大した金型を電子線露光法で製作し、高分子化合物の溶液を塗布し凍結して拡大した金型より剥離し、凍結乾燥した後溶液を再度含ませ、溶液が凍らない温度で乾燥する方法により乾燥縮小したマスクを製作する。 （もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】型の撓み量を制限する、または、型の特定の撓み状態を得るのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板５上の未硬化樹脂５６を型３により成形して硬化させ、基板５上に硬化した樹脂５６のパターンを形成するインプリント装置であって、型３を引きつけて保持する保持部２４と、保持部２４に保持された型３の背圧を離型と並行して減少させる減圧手段５２と、を備える。 （もっと読む）