【課題】耐酸化性に優れ、酸化による耐食性の低下が有利に抑制されたアルミナ−炭化ケイ素−炭素系クリンカー及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ−アルミナ源原料に対して、炭素源原料を、そこに含まれる炭素分の全量が該シリカ−アルミナ源原料中のシリカ分を化学量論的に全て炭化ケイ素とすることが可能な炭素量を超えるような量的割合において配合し、焼成することにより、アルミナ中に炭化ケイ素及び炭素が存在せしめられてなるアルミナ−炭化ケイ素−炭素系クリンカーとした。 （もっと読む）

【課題】高耐久性炭化ケイ素焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多孔質炭化ケイ素焼結体を酸化防止液に含浸させ、多孔質炭化ケイ素焼結体の気孔に酸化防止液を充填させる工程と、酸化防止液を乾燥させ多孔質炭化ケイ素焼結体内部及び表面に熱膨張係数が炭化ケイ素に近似する酸化防止膜を形成する工程と、を含む高耐久性炭化ケイ素焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】減圧環境下で使用されるセラミックス部品において、処理物への汚染の少ないセラミックス部品の装着方法および有機物の汚染の少ない半導体製造装置用セラミックス部品の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線光電子分光法で表面の深さ方向の測定をし、表面から５ｎｍ以深の深さで検出される炭素量が５ｍａｓｓ％以下である状態で半導体製造装置に装着することを特徴とする半導体製造装置用非汚染性セラミックス部品の装着方法である。 （もっと読む）

【課題】 内部に流体を流すための流路を有するウエハ保持体について、長期にわたって使用しても液漏れのない、信頼性の高い接続構造を提供する。
【解決手段】 内部に流体を流すための流路が形成されたウエハ保持体であり、流路に接続して外部から流体を供給し排出するためのパイプ部材と、流路の両端部付近の内周面に形成された雌ネジ部と、パイプ部材の先端部付近に形成された雄ネジ部と、雄ネジ部のパイプ部材先端と反対側の端部に設けたフランジ部と、パイプ部材の先端から挿入されてフランジ部に当接するＯ−リングとを有する。ウエハ保持体及びフランジ部のＯ−リングと接触する各接触面の表面粗さは、Ｒａで２.０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高温環境下で粒界相中の金属イオンの移動を防ぐことができ、かつ耐腐食性及び高温特性に優れているセラミックヒータを提供すること。
【解決手段】モリブデンの珪化物、窒化物及び炭化物、並びに、タングステンの珪化物、窒化物及び炭化物のうち、少なくとも１種を主成分とする発熱体と、窒化珪素を主成分とし、かつ希土類元素を酸化物換算で４〜２５質量％含有し、かつアルミニウム成分を窒化アルミニウム換算で０．０２〜１質量％含有し、かつ全酸素量に対する希土類元素の酸素量の比が０．３〜０．６であり、かつモリブデン、バナジウム、タングステン及びクロムから成る群より選ばれる少なくとも１種の珪化物を１〜８体積％含有する基体とを備え、前記基体の表面には、希土類元素のモノシリケート及び／又はダイシリケートが主結晶相であり、前記発熱体が前記基体に埋設されて成ることを特徴とするセラミックヒータ。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の問題を軽減するセラミック切削インサートを製造する方法およびセラミック切削インサートブランクの焼結後処理の効率的な方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、すぐに加圧成形できるセラミック粉末を準備する工程、すぐに加圧成形できる粉末を所望の形状の加圧成形体に加圧成形する工程、加圧成形体を高密度のセラミックブランクに焼結する工程およびセラミックブランクをタンブリングして焼結表皮を除去し且つ刃先丸めを行なう工程から成る粉末冶金処理を含んでなるプロセスにおいて、任意にウィスカを含む、酸化物セラミックまたは窒化物セラミックまたは混合セラミック材料に基づくセラミック切削インサートを製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 実用的な条件によって加工変質層を除去するＳｉＣ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のＳｉＣ基板１１は、実質的に平行な第１および第２の主面１１ａ、１１ｂを有し、第２の主面１１ｂのみが鏡面仕上げされており、反りが±５０μｍ以下であるＳｉＣ基板であって、第２の主面１１ｂの表面粗度Ｒａは１ｎｍ以下であり、第１の主面１１ａの加工変質層が除去されている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生が少ない耐食性部材、例えばガスノズルを提供すること。
【解決手段】窒化アルミニウム質焼結体からなる基体の表面の一部をなす複数の柱状の窒化アルミニウム結晶粒子を有し、前記柱状の窒化アルミニウム結晶粒子の頂点と、該頂点を中心とした２０μｍ四方における柱状以外の窒化アルミニウム結晶粒子の頂点との最大高低差が４μｍ以上である領域を有すること。 （もっと読む）

【課題】耐クレーター性および強度を最適化することにより、耐欠損性に優れたｃＢＮ焼結体を提供する。
【解決手段】ｃＢＮ粒子を結合相で焼結した焼結体である。この結合相は二次元的に見て連続した構成となっている。また、この結合相は周期律表4a,5a,6a族遷移金属の炭化物，窒化物，炭窒化物，硼化物、Ａｌの窒化物，硼化物，酸化物、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉの少なくとも1種の炭化物，窒化物，炭窒化物，硼化物、およびこれらの相互固溶体よりなる群から選択される1種以上を含む。結合相厚みの平均値は１．０μｍ以下で、その標準偏差は０．７以下である。ｃＢＮの含有率は体積％で４５〜７０％である。そして、ｃＢＮ粒子の平均粒度は０．０１以上２μｍ未満である。 （もっと読む）

【課題】純度を低下させることなく化学気相成長法により形成された炭化珪素を、炭化珪素層の抵抗を低くして炭化珪素層を導電化させることができる炭化珪素導電化方法の提供。
【解決手段】化学気相成長法により炭化珪素焼結体表面に炭化珪素層を形成する工程と、表面に炭化珪素層が形成された炭化珪素焼結体を窒素雰囲気下で加圧処理することにより、炭化珪素層の抵抗を低下させて、当該炭化珪素層を導電化する工程を有する事を特徴とする炭化珪素導電化方法により得られる。 （もっと読む）

【課題】高い硬度を有する炭化硼素質焼結体は、研削抵抗が大きいため、研削加工時のクラックの伝播の効率が悪く、加工性が低という問題があった。
【解決手段】炭化硼素を主成分とし、グラファイトおよび炭化珪素を含み、気孔を有する炭化硼素質焼結体からなり、前記グラファイトが前記気孔を規定する気孔規定面に主として存在させることで、高い硬度を維持したままで研削加工性の高い焼結体を提供する。 （もっと読む）

【課題】色むらのない窒化アルミニウム焼結体を生産性良く製造する。
【解決手段】窒化アルミニウム粉末、焼結助剤および有機バインダーを含有してなる成形体を、非酸化性雰囲気中で脱脂と焼成を連続して行う窒化アルミニウム焼結体の製造方法において、体積基準累積粒度分布の累積９０％粒子径（ｄ９０）と累積１０％粒子径（ｄ１０）の差が３．０μｍ以下である窒化アルミニウム粉末を用い、焼成工程において１６００〜１７５０℃の温度域で４〜１０時間保持した後、焼結温度まで昇温することを特徴とする、色むらのない窒化アルミニウム焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】バーナーの小型化、少台数化、短時間の熱交換を図ることができ、しかも熱膨張、酸化、腐食等により損耗し難い蓄熱部材及び熱交換器を提供する。
【解決手段】理論密度比で９５％以上の緻密質セラミックスからなる蓄熱部材であって、緻密質セラミックスが、平均結晶粒径２〜５０μｍ、平均アスペクト比１０未満、純度８５質量％以上のアルミナ質セラミックス、平均結晶粒径２〜５０μｍ、平均アスペクト比１０未満、純度９０質量%以上のムライト質セラミックス、平均結晶粒径１〜２０μｍ、平均アスペクト比１５未満、純度８５質量%以上の窒化珪素質セラミックス、又は、平均結晶粒径０．５〜１０μｍ、平均アスペクト比１２未満、純度９０質量%以上の炭化珪素質セラミックスから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする蓄熱部材、及び、この蓄熱部材を少なくとも用いてなる熱交換器である。 （もっと読む）

【課題】摩耗や損傷が生じにくく、長寿命な窯炉用構造部材を提供する。
【解決手段】熱伝導率が３０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上、強度が５０ＭＰａ以上、ヤング率が２００ＧＰａ以上、見掛け気孔率が１０％以下のセラミックス材料からなる窯炉用構造部材であって、当該セラミック材料は、炭化珪素、窒化珪素、炭化珪素と窒化珪素との複合材料、炭化珪素と珪素との複合材料、及び炭化珪素と珪素化合物との複合材料の内の何れかである。 （もっと読む）

【課題】 フェムトスライダー、アトスライダー等の小型化されたスライダーに好適に用いる磁気ヘッド用基板において、結晶組織の均一化が十分ではないため、イオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって得られる流路面には直径１００ｎｍ〜５００ｎｍの微小な気孔が生じやすい。
【解決手段】 Ａｌ_２Ｏ_３を３５質量％以上、７０質量％以下、ＴｉＣを３０質量％以上、６５質量％以下の範囲である焼結体から成る磁気ヘッド用基板１であって、磁気ヘッド用基板１の両主面部３および厚み方向の中央部２におけるＴｉＣの格子定数の差が１×１０^−４ｎｍ以下である。これにより、磁気ヘッド用基板を短冊状に切断し、切断面を研磨して鏡面とした後に、イオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって鏡面の一部を除去して得られる流路面の表面粗さのばらつきを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】立方晶型窒化硼素を20体積％以上含むＣＢＮ焼結体からなる基材またはダイヤモンドを40％以上含むダイヤモンド焼結体からなる基材を有する工具用の複合高硬度材料の改良。
【解決方法】Ｃ、ＮおよびＯの中から選択される少なくとも１種の元素と、Tiと、Alとを主成分とした少なくとも１層の硬質耐熱被膜を少なくとも切削に関与する箇所に有する。ＣＢＮ焼結体またはダイヤモンド焼結体の高い硬度および高い強度（超硬合金に比べ数倍）と、硬質耐熱被膜の優れた耐摩耗性とを併せ持った、焼入鋼切削や鋳鉄の粗切削、鋳鉄とアルミ合金との共削り等で用いた場合に従来工具に対して著しく長い寿命を示す理想的な工具用複合高硬度材料。 （もっと読む）

【課題】剛性が高く、軽量で、低コストで平滑な面を持つ、大型化のセラミック構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板等の被処理物を乗せた状態で加工処理を行うための架台として用いられるセラミック構造体であって、該架台は、剛節架構構造を有する複数のユニットが結合・一体化された構造を有している、上記架台の表面は、緻密な膜で被覆されている、上記架台を構成する固体部分は、反応焼結窒化ケイ素又は反応焼結炭化ケイ素を主成分とする材料で構成されている、上記架台の部分の応力の大きさに応じて異なる気孔率を有するユニットが配設されている、ことを特徴とするセラミック構造体。
【効果】半導体や液晶の露光装置に必要なステージやテーブル等について、剛性が高く、軽量で、平滑な面を持ち、大型化に対応できる製品を低コストで製造し、提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスとの反応性が少なく、耐磨耗性と耐久性が高く、成形したガラスの成形型表面からの離型性が良好なガラス製ハードディスク基板用成形型を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素−炭素複合セラミックスを含む、ガラス製ハードディスク基板用成形型であって、前記炭化ケイ素−炭素複合セラミックスが、炭化ケイ素１００重量部に対し１５〜５０重量部の炭素粒子を含有し、前記炭素粒子の平均粒径が０．３〜１００μｍの範囲である成形型とする。 （もっと読む）

【課題】 高密度ＬＳＩ検査用のプローブガイドに適用可能な、薄肉で深い穴やスリットを精度よく形成できる快削性を持ち、かつ画像処理装置を使用して加工形状の検査や位置合わせが反射光で妨害されないように、均一に黒色化された、熱膨張係数の低いセラミックスを提供する。
【解決手段】 窒化珪素25〜60質量％および窒化硼素40〜75質量％を骨材とし、焼結助剤を添加した原料粉末に、ジルコニアを骨材の 0.1〜20質量％の量で添加し、還元性雰囲気で焼成する。焼成中のジルコニアの還元によりセラミックスが黒色化する。この黒色化は他のセラミックスの黒色化にも応用できる。 （もっと読む）

【課題】板等の固体の成膜面に蒸着により薄膜を形成する場合に蒸着用材料の加熱に使用され、加熱により溶融、蒸発させる蒸着用材料の溶融物の耐濡れ性に優れた分子線源用坩堝を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム焼結体により構成され、且つ、少なくとも内壁面を構成する窒化アルミニウム焼結体が、アルミニウム以外の金属元素の総濃度が５００質量ｐｐｍ以下であり、且つ、酸素濃度が１．０質量％以下である、薄膜堆積用分子線源用坩堝１０。坩堝１０は、窒化アルミニウム焼結体のバルクを製造した後、この窒化アルミニウム焼結体のバルクを非酸化性雰囲気下で、冷却しながら切削加工して坩堝１０の形状とする。 （もっと読む）