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Fターム[4G001BE35]の内容

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Fターム[4G001BE35]に分類される特許

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【課題】耐火物の耐食性と強度と耐亀裂性(高温粘性)を更に向上させることができる窒化珪素鉄粉末と、それを用いた耐火物、特に出銑樋材や高炉出銑口閉塞用マッド材などとして好適な耐火物を提供する。
【解決手段】カルシウムシアナミド(CaCN)を含有することを特徴とする窒化珪素鉄粉末。カルシウムシアナミド(CaCN)が2〜40質量%、窒化珪素(Si)が40〜96質量%、鉄(Fe)が2〜30質量%を含有してなることを特徴とする窒化珪素鉄粉末。本発明の窒化珪素鉄粉末と、耐熱性骨材と、炭素粉末及び/又は加熱によって炭素が生成する有機バインダーとを含有してなることを特徴とする耐火物。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、不純物が少なく優れた熱伝導率とシャープな粒度分布を有すると共に、焼結時の熱収縮率が低い窒化アルミニウム粉末を安価に得ることのできる、窒化アルミニウム粉末の製造法を提供する。
【解決手段】 還元窒化法における窒化アルミニウム粉末の製造法において、出発原料としてアルミナ粒子粉末の粒子表面が表面改質剤によって被覆されていると共に該表面改質剤被覆アルミナ粒子表面に炭素粉末が付着している複合粒子粉末を用いる窒化アルミニウム粉末の製造法である。 (もっと読む)


【課題】 炭化ケイ素表面リッチ層を簡易に設けることができる炭化ケイ素焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】
炭化ケイ素粉末を含むスラリーを鋳型に流し込みグリーン体を得る工程と、上記グリーン体を圧縮して仮成形体を得る工程と、上記仮成形体の表面に炭素源をコーティングし表面炭素層を形成する工程と、上記表面炭素層にケイ素蒸気を暴露し、上記炭素源とケイ素を反応させて炭化ケイ素表面リッチ層を形成する工程と、を備えることを特徴とする炭化ケイ素焼結体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高密度高性能のSiC焼結体を提供しようとする。
【解決手段】 積層無秩序構造を持つ平均粒径が0よりも大きく100nm以下のSiC粒子と不可避不純物とから成る被焼結粉末を焼結して成り、相対密度99.40〜99.99%、平均径10〜500nmで断面数密度が1〜70個/μmの残留ポアを有し、α−SiC構造、β−SiC構造、α−SiCとβ−SiCとの混在構造から選択される構造を有する焼結体である。
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【課題】溶融金属による浸食を軽減することにより長寿命化を達成することができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体(ボート)を提供する。また、溶融金属のスプラッシュを低減させることができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体(ボート)を提供する。
【解決手段】二硼化チタン(TiB)及び/又は二硼化ジルコニウム(ZrB)と、窒化硼素(BN)と、必要に応じて窒化アルミニウム(AlN)とを含有してなるセラミックス焼結体であって、これらの成分から選ばれた少なくとも一種の成分の濃度が、厚み方向において、有位に異なっている部分があることを特徴とするセラミックス焼結体。このセラミックス焼結体からなる金属蒸着発熱体(ボート)。 (もっと読む)


1200℃以上の高温の酸化雰囲気中で用いるための、金属と、アルミニウム(Al)と、炭素(C)または窒素(N)との合金であって、
組成がMAlであり、Mは実質的にチタン(Ti)、クロム(Cr)および/またはニオブ(Nb)から成り、Xは炭素(C)であるか、またはMがチタン(Ti)である場合にはXは窒素(N)および/または炭素(C)であり、かつ
Z=1.8〜2.2、Y=0.8〜1.2、W=0.8〜1.2であり、
上記高温に加熱されたときにAlから成る保護酸化層が形成される
ことを特徴とする高温用材料。 (もっと読む)


【課題】
セラミックス材料を低反射材料として用いる場合、素材自体の反射率は低くても、加工によって高くなることがある。この加工によって高くなった反射率を素材のもつ反射率に戻した露光処理用基板保持盤を提供する。
【解決手段】
少なくとも基板保持側表面がセラミックスからなり、その基板保持側表面の彩度指数b*がプラスであり、明度指数L*が70以下で、かつ面粗度Raが0.6μm以下である露光処理用基板保持盤であり、好ましい態様において、基板保持側表面の光波長250〜550nmの範囲における全反射率は13%以下であり、また、基板保持側表面の彩度指数b*はプラスであり、セラミックスの主成分は、炭化硅素またはアルミナである。
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【課題】窒化けい素セラミックス基板を用いて各種パワーモジュールを構成した際にリーク電流の発生を効果的に抑制することができ、大電力化および大容量化したパワーモジュールにおいても絶縁性および動作の信頼性を大幅に向上させることが可能な窒化けい素セラミックス回路基板を提供する。
【解決手段】気孔率が容量比で2.5%以下であり、粒界相中の最大気孔径が0.3μm以下の窒化けい素焼結体から成り、温度25℃,湿度70%の条件下で上記窒化けい素焼結体の表裏間に1.5kV−100Hzの交流電圧を印加したときの電流リーク値が1000nA以下であり、熱伝導率が50W/m・K以上、3点曲げ強度が500MPa以上である窒化けい素セラミックス基板2上に複数の金属回路板3,3を設けると共に、該金属回路板3,3の間隔が0.1〜2.0mmの範囲である箇所を具備していることを特徴とする窒化けい素セラミックス回路基板1である。 (もっと読む)


【課題】表面性状の滑らかなサイアロンセラミックス多孔体、その製造方法及び用途を提供する。
【解決手段】βサイアロンを主成分とする表面性状が滑らかなサイアロンセラミックス多孔体であって、(1)βサイアロンの組成の一般式Si6−z Al8−zにおいて、そのZ値が0.1以上3以下、(2)アスペクト比が1以上4以下のβサイアロン結晶粒の割合がβサイアロン結晶粒全体に対し60%以上であり、好適には、気孔率が30%以上70%以下、平均気孔径が0.2ミクロン以上2ミクロン以下であることを特徴とするサイアロンセラミック多孔体、その製造方法、及び当該セラミックス多孔体からなる耐食性部材。
【効果】高気孔率と高強度を両立し、かつ表面性状の滑らかな特性を有するサイアロンセラミックス多孔体及びその部材を提供できる。 (もっと読む)


【課題】離型性に優れ、さらには耐磨耗性にも優れた、高い耐久性を有する、ガラス成形型用セラミックス、当該セラミックスからなるガラス成形型、及び該成形型の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるガラス成形型用セラミックス、前記ガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、ガラス接触面の全部若しくは一部が前記ガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、前記ガラス成形型用セラミックスを使用するガラス成形型の製造方法、並びに、炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるセラミックスのガラス成形型としての使用。 (もっと読む)


【課題】非酸化物系セラミックスの表面に安定した超平滑な表面を形成したセラミック複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素及び酸化物を主成分とする混合粉末を成形する工程と、成形後、窒素ガスを含気流中で焼成し、前記ケイ素を窒化ケイ素に転化させると同時に焼結せしめる工程と、酸素を含む雰囲気中で加熱し、前記焼結体内部に存在する酸化物を毛管現象によって表面に染み出させた後、冷却して固化させる工程により、緻密で超平滑な表面を形成したセラミック複合体を製造する方法、及び平滑で緻密な表面を形成したセラミック複合体。
【効果】本発明によれば、加工や吹きつけでは得ることが困難な超平滑で安定な表面を有するセラミック焼結体及びその製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、AlN系セラミックスの色ムラを解消し、耐食性と機械的特性を改善させた、黒色を呈する高純度AlN系セラミックスを提供するものである。
【解決手段】本発明の黒色AlN系セラミックスは、1〜30重量%の酸化アルミニウムと残部が実質的に窒化アルミニウムより成る混合粉体を成形・焼結し、焼結中に酸化アルミニウムと窒化アルミニウムとの反応により生じる格子欠陥を有するAlON相を含有し、実質AlNとAlONの2相とから成り、密度が理論値の90%以上で黒色を呈する。 (もっと読む)


【課題】 窒化アルミニウム焼結体中の気孔を極力減少させることにより、均熱性に優れたサセプタを提供する。
【解決手段】 本発明の窒化アルミニウム焼結体は、含有するビスマスと塩素の量を一定値以下に制御する。すなわち、窒化アルミニウムを主成分とする窒化アルミニウム焼結体において、窒化アルミニウム焼結体中のビスマスの含有量が30ppm以下であり、かつ塩素の含有量が100ppm以下であることを特徴とする。前記窒化アルミニウム焼結体に、抵抗発熱体が形成されていることが好ましく、半導体加熱用部品として使用されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 電極に用いやすく、強度が高い多孔質構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】 3次元的な網目構造を形成する骨格部4と、骨格部4の表面に設けられ、網目構造の空隙の全部または一部を塞ぐ封止材5と、を備え、骨格部4または封止材5は、実質的にセラミックス、炭素またはこれらのうち少なくとも一方と金属とからなる複合材料により構成される。これにより、封止材5により空隙を塞がれた部分に導電体を接合する際の接触面積を大きくして、接合を容易にし、容易に多孔質構造体1を電極に用いることができる。また、封止材5により空隙を塞がれた部分は骨格が太くなるか、完全に空隙が閉ざされるため、多孔質構造体1の強度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】 亀裂のない反射膜の形成が容易であり、なおかつ超精密な表面粗さと平面度を有しているSiC−Si複合材料からなる基板の表面に反射膜を形成してなる光学反射ミラーを得る技術を提供する。
【解決手段】 Siマトリックス中にSiC強化材が複合されたSiC−Si複合材料からなる基板の表面に直接に反射膜を形成してなる光学反射ミラーであって、前記SiC−Si複合材料中のSiCの含有率が60〜90体積%であり、かつ、前記基板の表面粗さRaが10nm以下であることを特徴とする光学反射ミラー。さらに、前記SiC−Si複合材料組織中のSiマトリックス相幅の平均値が1μm以下であり、かつ、SiC強化材の平均粒径が3μm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウムの特性を維持しつつ、その耐食性を向上させる。
【解決手段】窒化アルミニウム質セラミックス10は、窒化アルミニウム粒子と粒界相とを備える。更に、窒化アルミニウム質セラミックス10は、その表層に内部11よりも粒界相を多く含む粒界相豊富層12を備える。そして、その粒界相豊富層12における粒界相は希土類元素又はアルカリ土類元素の少なくとも1つを含有する。 (もっと読む)


【課題】セラミックスヒータの高温耐食性被覆表面での燃料の安定燃焼温度を、例えば、従来の1500℃から1300℃程度にまで低下させ、腐食速度を更に抑制し、且つ、腐食を更に長時間に亘り抑制することを可能とする新規高温高耐食性被膜及びこの被膜で被覆されたセラミックスヒータ等を提供する。
【解決手段】燃焼触媒機能が付与された高温耐食性被膜であって、希土類シリケート層のシリコンサイトをマンガンで一部置換した複酸化物層、希土類シリケート層とガンマアルミネート層もしくは希土類マンガナイト層とから構成される多層被膜、又は希土類シリケート相とガンマアルミネート相もしくは希土類マンガナイト相とから構成される複合相被膜からなる高温高耐食性被膜、及びこの高温高耐食性被膜を被覆したセラミックスヒータ。 (もっと読む)


残存する量の遊離炭素及びグラファイトを除去するために炭化ケイ素物を熱処理するための方法を提供する。この方法は、炭化ケイ素物を供給すること及び所定の時間、所定の温度範囲内で炭化ケイ素物を加熱することを含む。加熱は、酸化試薬の存在下で行われる。結果として、一酸化炭素及び二酸化炭素などの気体の生産物が、残存する遊離炭素及びグラファイトを除去するために遊離炭素及びグラファイトを酸化することによって形成された副生産物を含むものとして遊離される。気体は、炭化ケイ素物の加熱の結果として生産される。粒子は、炭化ケイ素物上に酸化被膜を形成させることなく炭化ケイ素物から除去される。結果として、炭化ケイ素物は、実質的に炭素及びグラファイトの封入体がない状態になる。 (もっと読む)


〔解決課題〕 窒化アルミニウム等の非酸化物セラミックスの表面に高品質な酸化膜を形成し、高性能化・高機能化された非酸化物セラミックスを提供する。
〔解決手段〕 本発明は、非酸化物セラミックスの表面を酸化して表面に酸化物層を有する非酸化物セラミックスを製造する方法に関し、以下の工程を含むことを特徴としている。
(1)非酸化物セラミックスを準備する工程、
(2)前記非酸化物セラミックスを炉内に導入した後に、炉内の雰囲気を1mに含まれる酸化性ガスの合計モル数が0.5mmol以下である雰囲気とする工程、
(3)炉内の雰囲気を低酸化性ガス雰囲気に保ちながら非酸化物セラミックスの酸化開始温度より300℃低い温度以上の温度に加熱する工程、
(4)前記工程(3)で加熱された非酸化物セラミックスと酸化性ガスとを接触させた後、当該非酸化物セラミックスの酸化開始温度より高い温度に保持して酸化物層を形成する工程を含み、
且つ前記工程(4)において前記非酸化物セラミックスと酸化性ガスとの接触を開始し、酸化開始温度以上となってから少なくとも2分を経過するまでの間は酸化性ガスの圧力または分圧を50kPa以下とする。 (もっと読む)


本発明は、溶融金属に対する耐食性が改善されたセラミックス焼結体、その製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び長寿命化を達成できる金属蒸着用発熱体を提供することを課題とする。本発明は、窒化硼素、二硼化チタン、カルシウム化合物及び窒化チタンを含有してなる相対密度が92%以上のセラミックス焼結体であり、カルシウム化合物がCaO換算として0.05〜0.8質量%、窒化チタンに由来する(200)面のX線回折によるピーク強度が、BNの(002)面のピーク強度に対して0.06〜0.15であることを特徴とするセラミックス焼結体に関する。また、該セラミックス焼結体の製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び該セラミックス焼結体で構成された金属蒸着用発熱体も開示する。 (もっと読む)


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