【課題】レーザー光線の照射によって効率よく回路形成を行うことができる電気基板材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）、式（２）および式（３）に例示されるシルセスキオキサン骨格を含む重合体からなる合成樹脂成形体の表面に金属微粒子が付着した材料にレーザー光線を照射して電気回路基板を作製する。


式（１）、式（２）および式（３）において、それぞれのＲは独立してフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、炭素数が１〜１０のパーフルオロアルキルまたはｔ−ブチルであり、それぞれのＲ¹は独立して炭素数１〜４のアルキルまたはフェニルである。 （もっと読む）

一般式（１）のメルカプト官能性シランを提供する：［ＨＳＧ^１ＳｉＺ^θＺ^β］_ｍ，［ＨＳＧ^２ＳｉＺ^β_３］_ｎ［ＨＳＧ^３ＳｉＺ^β_２Ｘ］_０［ＨＳＧ^４ＳｉＺ^βＸ_２］_ｐ（１）、式中：Ｇ^１、Ｇ^２、Ｇ^３、およびＧ^４の各々は、独立して、アルキル、アルケニル、アリール、またはアラルキルの水素の置換によって誘導される１から３０までの炭素を有するヒドロカルビレン基、または２から３０の炭素原子と一つもしくはそれ以上のエーテル性の酸素（−Ｏ−）および／または硫黄（−Ｓ−）の原子とを有する二価のヘテロ炭素基であり；Ｘの各々は、−Ｃｌ、−Ｂｒ、ＲＯ−、ＲＣ（＝Ｏ）Ｏ−、Ｒ_２Ｃ＝ＮＯ−、Ｒ_２ＮＯ−、−Ｒ、（ＨＯ）_ｄ−１Ｇ^５Ｏ−からなる群から独立して選択され、ここで、各々のＲは、水素、不飽和を有しても、または有さなくてもよい、直鎖、環状または分岐のアルキル、アルケニル基、アリール基、およびアラルキル基からなる群から独立して選択され、ここで、水素以外の各々のＲは、１から１８までの炭素原子を有し、Ｇ^５は、独立して２から１５までの炭素原子の置換炭化水素基、または一つもしくはそれ以上のエーテル性酸素原子を有する約４から１５までの炭素原子の置換ヘテロ炭素基であり；Ｚ^βの各々は、これは二つのケイ素原子の間に架橋構造を形成するが、［−ＯＧ^５（ＯＨ）_ｄ−２Ｏ−］_０．５であり、ここで、Ｇ^５の各々は、２から１５までの炭素原子のヒドロカルビレン基、または一つもしくはそれ以上のエーテル性酸素原子を有する４から１５までの炭素原子の二価のヘテロ炭素基からなる群から独立して選択され；Ｚ^θの各々は、これはケイ素原子をもつ環状構造を形成するが、独立して−ＯＧ^５（ＯＨ）_ｄ−２Ｏ−によって与えられ、ここで、Ｇ^５は、２から１５までの炭素原子のヒドロカルビレン基、または一つもしくはそれ以上のエーテル性酸素原子を有する４から１５までの炭素原子の二価のヘテロ炭素基からなる群から独立して選択され；そして下付文字ｄ、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐの各々は、独立して整数であり、ここでｄは、第一の実施態様において２から６まで、第二の実施態様において２または３であり、そして第三の実施態様において２であり；ｍは０から２０であり；ｎは０から１８であり；ｏは０から２０であり；そして、ｐは０から２０であり；ただし、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐは２と等しいかもしくはそれ以上である、という条件である。 （もっと読む）

【課題】ホスト分子としての機能を有しゲスト分子の分散性や表面配向性を改善し得るナノ粒子、及びこれにゲスト分子を包接させたナノ粒子複合体を提供すること。
【解決手段】ナノ粒子は、親水基と両末端のフルオロアルキル基を有する鎖状オリゴマー部位と、３次元シリカネットワーク部位と、フッ素又はケイ素を有する有機鎖とから成る。
【化１】


（式中のＲ’はそれぞれ独立してＨ又はアルキル基、Ｘは親水基であってそれぞれ独立してＯＨ基、ＮＣＯ基、ＮＨ_２基等、Ｒ_Ｆは炭素数２〜１０個で分子量１１９〜１０００のフルオロアルキル基、３Ｄ‐ＳＮは３次元シリカネットワーク部位、Ｂはそれぞれ独立してＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ等、ＥはＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ、ＮＨ−Ｃ＝Ｏ等、Ｇは［（ＣＨ_２Ｏ）_ｌ−［Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ］_ｋ−（ＣＨ_２Ｏ）_ｌ］等を示す）で表される構造を有する。 （もっと読む）

【課題】従来安定した分散ができなかった複数種の溶質分子を含む溶媒においても、安定して目的の溶質分子を分散させることが可能なナノ粒子複合体を提供すること。
【解決手段】親水基と両末端のフルオロアルキル基を有する鎖状オリゴマー部位と、３次元シリカネットワーク部位とから成り、次式
【化１９】


（式中のＸは親水基であって、それぞれ独立してＯＨ基、ＮＣＯ基、ＮＨ_２基、ＮＨＲ基（Ｒ：アルキル基）又はＯＣＹ基（Ｙ：親水基）、Ｒ_Ｆは炭素数２〜１０個で、分子量１１９〜１０００のフルオロアルキル基、３Ｄ‐ＳＮは３次元シリカネットワーク部位、Ｂはそれぞれ独立してＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ、ＮＨ−Ｃ＝Ｏ又はＮＲ−Ｃ＝Ｏ（Ｒ：アルキル基）を示す。ｎは１≦ｎ≦１０、ｍは１≦ｍ≦ｎを示す。）で表される構造を有するホスト分子と、これに包摂されたゲスト分子を含有することを特徴とするナノ粒子複合体である。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一なゲルマニウムドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびゲルマニウム化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を生成せしめるゲルマニウム原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるゲルマニウム含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】オリゴマー分子あたりそれぞれ少なくとも一つのヒンダードアミノ基を含む１価の有機基と少なくとも一つのアルコキシル基又はヒドロキシル基を有することを特徴とする光安定化基含有シロキサンオリゴマー。
【効果】本発明のシロキサンオリゴマーは、有機ポリマー中での反応の際のアルコール生成量が少なく、高い沸点、高い発火点、低い蒸気圧を有するカップリング剤に有用なシロキサンオリゴマーであり、かつ有機ポリマーの光安定化効果をもたらす化合物として非常に有用である。 （もっと読む）

半導体ナノ結晶でドープしたマトリックスが提示されている。特定の実施形態において、半導体ナノ結晶は特定の波長で光を吸収または放出するような粒径および組成物を持つ。ナノ結晶には、マトリックスによる光の散乱が最小となるように、高分子を含むさまざまなマトリックス材料の混合を可能にするリガンドを含みうる。本発明のマトリックスはまた、屈折率整合の用途にも利用できる。別の実施形態において、半導体ナノ結晶はマトリックス内に埋め込みナノ結晶の密度勾配を形成することで有効屈折率勾配を生む。本発明のマトリックスはまた、光学装置へのフィルタや反射防止コーティングとして、また逓降変換層としても使用できる。また、半導体ナノ結晶を含むマトリックスを生成する過程が提示されている。高量子効率、小さな粒径、および／または狭い粒径分布を備えるナノ構造のほか、リン化インジウムナノ構造およびコアシェルナノ構造をII-VI族シェルにより生成する方法も記述されている。多様な新規ナノ構造リガンドについても記述している。
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フッ素性化学物質オリゴマーシラン、そのようなシラン及び／又はそのようなシランの縮合生成物を含む組成物、並びにこうした組成物で製造されるコーティング。 （もっと読む）

【課題】新規エポキシ化合物とその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式


（上式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭素数１から６までのアルキル基または炭素数１から４までのトリアルキルシリル基を表し、Ｒ^３は同一であっても相異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基またはフルオロアルキル基を表し、そしてｎは０または正の整数を表す）でもって代表される化合物。 （もっと読む）

【課題】アミド系溶媒以外の低沸点有機溶媒に対する溶解性および低溶融粘度等の成形性に優れ、硬化物の耐熱性および弾性率、引張強度および伸び等の機械的特性の高い新規な末端変性アミド酸シリルエステルオリゴマーおよびワニス並びに末端変性イミドオリゴマーおよびそれらの硬化物を提供する。
【解決手段】本発明の可溶性末端変性アミド酸シリルエステルオリゴマーは、一般式（１）で表される。


（式中、Ｒ_１は２価の芳香族ジアミン残基を、Ｒ_２は４価の芳香族テトラカルボン酸類残基を、Ｒ_３は１価の有機ケイ素基を表し、ｎは１≦ｎ≦２０の関係を満たす。） （もっと読む）

【課題】電子機器及び電子機器などの信頼性を低下させることのないシリコーンオリゴマーの製造法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン又はアルコキシ基を有するシランカップリング剤を固体酸触媒の存在下、アルコキシ基に対して０．１５〜０．５当量の水と反応させ、反応後、該固体酸触媒を除去することを特徴とするシリコーンオリゴマーの製造法。 （もっと読む）

本発明の対象は、少なくとも２のオルガノポリシロキサン単位（Ｓ）および少なくとも１の、一般式（１）Ｌ¹Ｌ²Ｎ−Ｍ１ （１）［式中、Ｍ１は、基−ＨＣＲ¹−ＯＨを表し、Ｒ¹は、水素を表すか、または−ＣＮもしくは−ハロゲンにより置換されていてもよいＣ₁〜Ｃ₁₀−炭化水素基を表し、かつＬ¹およびＬ²は、有機Ｎ−Ｃ結合基を表し、その際、少なくともＬ¹は、少なくとも１のオルガノポリシロキサン単位（Ｓ）を有し、その際、Ｌ¹中で少なくとも１のオルガノポリシロキサン単位（Ｓ）は、Ｓｉ−Ｃ結合を介して結合しており、その際、Ｌ²中で、Ｎ−Ｃ結合は、１の脂肪族飽和炭素原子を介して行われ、かつその際、オルガノポリシロキサン単位（Ｓ）の少なくとも５０％は、置換されていない炭化水素基およびＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合のみを有する］のメチロール基を有する化合物（Ｍ）、その製造および使用である。 （もっと読む）

電子装置において使用することができる、シリルエチニル基が結合したアセン−チオフェンコポリマーを提供する。コポリマーは、一般的な有機溶媒に可溶性である場合が多く、コーティング組成物の一部であることができる。 （もっと読む）

本発明は、タイプ（Ｈ₂ＳｉＯ）_n［式中、ｎは、３又はそれ以上の整数である］の水素に富むシクロシロキサンを、ａ．）タイプＨ₂ＳｉＸ₂［ここでＸ＝ハロゲンである］のハロゲンシランをｂ．）リチウム塩、銅（ＩＩ）塩又は元素の周期表の第２主族又は第２副族からの金属の塩又はこれらの塩の混合物と反応させることにより選択的に合成することに関する。環サイズは、有利にはｎ＝３、４、５、６（特にｎ＝４〜６）に調節可能であるので、より大きな環は形成されない。本方法の特に有利な態様において、シクロヘキサシロキサン（Ｈ₂ＳｉＯ）₆の選択的な製造のために、反応後に溶剤が少なくとも部分的に分離され、引き続き新たに溶剤が添加される。
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【課題】ヒドロシリル化触媒として有用な白金−ビニルシロキサン錯体の保存安定性を改良する。
【解決手段】白金−ビニルシロキサン錯体に下記一般式（１）又は（２）で示される低分子量の鎖状又は環状のビニルシロキサンをビニル基／白金原子の比が０．５〜１０ｍｏｌ／ａｔｏｍになるように添加する白金錯体触媒の製造方法。


（式中、Ｒ1，Ｒ2は独立に１価の脂肪族及び芳香族炭化水素基から選択される。） （もっと読む）

本発明は、低熱変形モールドを形成するために使用することができる組成物及び方法を提供する。組成物は、揮発成分除去ポリマーと少なくとも１種の揮発成分除去架橋剤とを使用して形成された硬化性弾性シリコーン組成物を含んでもよい。本方法の一実施形態は、エラストマーの第２の側面の近くで繊維性材料で含浸されたエラストマーの第１の側面にパターンを形成するステップを含んでもよい。
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本発明は、その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び１個のシリル−配位子を有するルテニウム−錯体；その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合されているルテニウム−錯体及びその配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び少なくとも１個の他の配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合しているルテニウム−錯体を含む群から選択されるルテニウム−化合物、その製造及びヒドロシリル化での触媒としての使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、他の性質を低減させずに、架橋密度および弾性率が減少したコンタクトレンズおよび／または生物医学用具が得られる、２つの重合性ビニル部分の代わりに１つの重合性ビニル部分を持つ親水性ジカチオンシロキサンプレポリマーに関する。 （もっと読む）

本発明は、ルテニウム触媒が、少なくとも２個の無関係な炭素−π−結合配位子を有し、その際、これら配位子の少なくとも１個をη^６−結合アレーン配位子、η^６−結合トリエン配位子、η^４−結合１，５−シクロオクタジエン配位子及びη^４−結合１，３，５−シクロオクタトリエン配位子を含有する群から選択することを特徴とする、ルテニウム化合物触媒の存在におけるヒドロキシル化法、このようなルテニウム−化合物のヒドロシリル化触媒としての使用及びこのようなルテニウム−化合物を含有する組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、液体状の、ナノ粒子状の、官能化された、疎水性の、ケイ酸テトラアルキルエステルと、式Ｐ−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ（ＯＲ）₃［式中、Ｐ、Ｒおよびｎは相互に独立して以下の意味を有する：Ｐは１の重合可能なＣＨ₂＝ＣＨ基、ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｏ基、スチリル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、または１の重付加可能なＳＨ基を表し、Ｒはメチル、エチル、またはプロピルを意味し、かつｎ＝３〜１５である］の官能化されたトリアルコキシシランとの共縮合体を含む歯科材料に関し、ケイ酸テトラアルキルエステルと、ω位で官能化されたアルキルトリアルコキシシランとの共縮合によって、および引き続いたトリメチルシリル基による末端基の官能化によって製造可能である。さらに本発明は、充填複合材料、固定セメント、または被覆用の材料のための、歯科材料の使用に関する。 （もっと読む）