【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】擦傷復元性および耐汚染性に優れ、かつ耐候性、耐薬品性、耐折曲性および耐衝撃性にも優れ、傷付き防止フィルムや加飾フィルムとして有用なフィルムを提供する。
【解決手段】ビニル化合物共重合体およびポリイソシアネートからなる組成物の架橋物からなるフィルムにおいて、該ビニル化合物共重合体が下記モノマー単位：（Ａ）水酸基を有しないビニル化合物（ａモル％）、（Ｂ）水酸基を有する直鎖状または分岐状のアルキル基を有し、該アルキル基の炭素数が１〜６であるビニル化合物（ｂモル％）、および（Ｃ）下記式：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯＯ−Ｙ［ここで、ＲはＨまたはＣＨ_３であり、Ｙは末端に水酸基を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素基であり、Ｙは所望により開環ラクトン基（−ＣＯ−（ＣＨ_２）ｎ−Ｏ−、ここでｎは４〜６の整数である）、カーボネート基（−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、エステル基（−ＣＯ−Ｏ−）、エーテル基（−Ｏ−）およびウレタン基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）から成る群から選択される１以上の基を有していてもよく、かつ１２〜１２０の炭素原子を有する］を有するビニル化合物（ｃモル％）から成り、上記ａ〜ｃが、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００でありかつ下記式（１）および式（２）：３（ｂ＋ｃ）／４≦ａ≦４（ｂ＋ｃ） ・・・（１）および４ｃ／３ ≦ｂ≦４０ｃ ・・・（２）を満たすところのフィルム。 （もっと読む）

【課題】ネガ型現像プロセスにおいて、エッチング耐性に優れたレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及び該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、レジスト膜を露光する工程、及びレジスト膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、基材成分（Ａ）として、アクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を用い、酸発生剤成分（Ｂ）が、環構造をアニオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】重合収縮および重合応力を軽減した歯科修復組成物を得るためのマクロ環状オリゴマーの製造方法を提供する。
【解決手段】修復歯科において使用される少なくとも１つの重合性基を有するフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する方法であって、（ｉ）反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質の縮合基を活性化させる工程と、（ｉｉ）カーボネート、エステル、シロキサンまたはホスホネートの結合を与える、活性化させた反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質とカップリング剤との間の縮合によって、擬高希釈条件下においてフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］炭素数５〜２１の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数４〜２０の２価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。


（式中、Ｒ_１は、炭化水素基を表す。Ｒ_２は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ａｒは、アリール基を表す。Ｒ_１は、Ａｒと結合して、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成していてもよい。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこれを用いたレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】アルコール系溶剤を含有する有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、微細な寸法のパターンを良好な形状で形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、アルコール系溶剤を含有する有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸の作用により極性が増大する共重合体（Ａ１）を含有し、該共重合体（Ａ１）は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であってラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）が分子内で均一に分散して配置されているものであることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンの製造。
【解決手段】式（ａａ）、（ａｂ）で表される構造単位を有する樹脂（Ｘ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する組成物。


［式中、Ａ^aa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基等；Ｒ^aa2は、脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物。


［式中、Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）


（式中、ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただしＡ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の炭素数の合計は６以下である）で表される基；Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】複数の位相差部と複数の等方部にパターニングされた光学素子を生産する上で好適な温度範囲にＮＩ点を有し析出物等が発生しない重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ａ）及び下記一般式（２）で表される重合性化合物（Ｂ）を含有し、（Ａ）及び（Ｂ）の含有量の合計が全重合性化合物の合計量中７０〜１００質量％であり、（Ａ）／（Ｂ）質量比が９５／５〜５０／５０である重合性液晶組成物。
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【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と（Ｂ）酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に、リソグラフィー特性を損なうことなく被覆膜を形成できるレジスト被覆膜形成用材料、および該レジスト被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト被覆膜形成用材料であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ）を７５〜１００モル％の割合で有する樹脂成分（ただし下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有するものを除く。）であり、前記有機溶剤（Ｓ）が、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤およびアルコール系溶剤からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤（Ｓ１）を含有することを特徴とするレジスト被覆膜形成用材料。
［化１］
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【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、および該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記（Ａ）として、酸の作用によりアルコール性水酸基を生じて親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を用いる。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる重合性フッ素系化合物を提供する。また、塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持できる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性フッ素系化合物を用いる。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは（メタ）アクロイルオキシ骨格を有する基であり、残りは水酸基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に２価の有機基、ＰＦＰＥはポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を表す。また、ｎは平均で０〜１０の範囲を表す。） （もっと読む）

【課題】 特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、芳香環およびラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）