【課題】耐候性に優れた帯電防止性を有し、透明性に優れた合成樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（２）で表される繰り返し単位を含む含フッ素重合体。


［式中、Ｗは連結基、Ｒ^１はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、Ｑは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した単位構造を表す。Ｍ^＋は、水素カチオン、金属イオンまたは一般式（１５）


（式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１４はそれぞれ独立に置換基を有するかまたは有しない炭素数１〜２０のアルキル基またはアリール基を表す。）で表わされる４級アンモニウムカチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】解像性及び感度に優れたレジストパターンを形成する。
【解決手段】本発明は、波長１〜３００ｎｍ帯の高エネルギー線が照射される感光性組成物である。この感光性組成物は、バインダー樹脂と、高エネルギー線がバインダー樹脂に照射されたとき、高エネルギー線を吸収したバインダー樹脂から放出される光電子と反応する光電子吸収剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】高感度のレジスト膜を形成でき、レジスト組成物を調製する際の溶媒への溶解性に優れた重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（ｕ）で表される構成単位を有する重合体を用いる。
［化１］


Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは有機基を表す。 （もっと読む）

本発明は、赤外線反射液晶層をベースとする熱放射遮蔽シートおよび熱放射遮蔽ラミネート、それらの製造方法、それらを含んだ顔料ならびに、特定のキラルドープ剤を含んだ組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】光学異方性膜の作製に有用な新規な重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、下記一般式（２）で表される光重合開始剤の少なくとも１種を含有する重合性液晶組成物。
一般式（１）
Ｑ^１−ＳＰ^１−Ｘ^１−ＭＧ−Ｘ^２−ＳＰ^２−Ｑ^２
（一般式（１）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ反応性基を表し、ＳＰ^１及びＳＰ^２はそれぞれスペーサー基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ連結基を表し、ＭＧはメソゲン基を表す。）
（もっと読む）

【課題】リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】酸に不安定な基を有する式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）のユニットと、酸の作用により脱離する置換基を有するアダマンタン構造を有する式（ＩＩ）のユニットと、多環式のラクトン構造を有する式（ＩＩＩ）のユニットとを含有する重合体。当該重合体と、露光により酸を発生する酸発生剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の視野角依存性を低減するために位相差層を形成することが行われており、近年、重合性液晶を溶媒に溶解した組成物を液晶セルの基板に塗布した後、重合性液晶を配向させた状態で架橋、固定化させる等により位相差層を形成する方法が採用されている。しかしながら重合性液晶を含む組成物は保管中等に架橋反応が生じやすく、一旦架橋が生じると重合性液晶組成物を位相差層形成のために利用することが困難となるとともに、重合性液晶組成物の廃棄の手間やコストがかかるという問題があった。本発明は重合性液晶組成物を利用可能な状態に保持することができる重合性液晶組成物の保管方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物の保管方法は、重合性液晶と溶剤を含む重合性液晶組成物を、１５℃〜６０℃で保持することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイ等の光学補償に使用される重合性液晶組成物を用いたパターン化位相差フィルムにおいて、表示のにじみが無く、表示品位を確保できるものを提供することにある
【解決手段】 重合性液晶組成物の硬化物により構成されパターンを有するパターン化位相差フィルムの各パターンの断面において、各パターンの側壁角：ＳＷＡが16°以上であり、該重合性液晶組成物が特定の重合性化合物を92.35質量％から96.84質量％含有することを特徴とするパターン化位相差フィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明は、固体構造、特に半導体構造内部に一つ乃至複数のエアギャップを形成して金属線の如き電気部品間の誘電的カップリングを減じる方法に関する。そのような方法によって、集積回路やパッケージの如き半導体構造内の誘電的カップリングを減じようとした前述の従来の試みに関連する一つ乃至複数の欠点を克服することができる。
【解決手段】本発明の一つの局面によれば、半導体構造内にエアギャップを形成する方法は、（ｉ）半導体構造内の閉鎖された内部空間を占めるための犠牲材料としてノルボルネン型ポリマーを利用し、（ｉｉ）該犠牲材料を一つ以上のガス状分解物へと分解（好ましくは熱処理によって自己分解）し、（ｉｉｉ）該内部空間に隣接する固体層の少なくとも一つを通じて上記ガス状分解物の少なくとも一つを排除する、工程からなる。 （もっと読む）

【課題】室温付近でコレステリック相を示し、組成により赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御でき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】R−P−X−(A−Z)_m−Y［RはCH₂=C(R¹)-COO等の重合性基（R¹は水素又はメチ
ル）；Pは単結合又はアルキレン（任意の−CH₂−はO、S、CH=CH、CO、COO又はOCOで置き
換えられてもよい。）；Xは単結合、O、S、COO、OCO、CON(R³)、N(R³)CO又はOCOO（Ｒ³は水素又はメチル）；Aは芳香族環又は脂肪族環；Zは単結合、COO、OCO又はCH₂CH₂；mは０
〜３の整数；Yは式(3-1),(3-2)又は(3-3)で表される基を示す。]で表される化合物と、特定の液晶性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
（もっと読む）

【課題】低温で再配向処理、重合が可能な重合性の化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


［式中、Ａ_１は２価の環状炭化水素基又は複素環基、Ｂ_１は、−ＣＲ_５Ｒ_６−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ_５−等、Ｄ_１は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＲ_１Ｒ_２−ＣＲ_３Ｒ_４−、−Ｏ−ＣＲ_１Ｒ_２−、−ＣＲ_１Ｒ_２−Ｏ−、−ＣＲ_１Ｒ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表す。Ｒ_１〜Ｒ_６は、Ｈ又はＣ１〜４のアルキル基、Ｅ_１は、置換されていてもよいＣ１〜１２の炭化水素基、Ｇ_１はＨ、ハロゲン原子又は式（１）の右項で表されるＤ_１、Ａ_１、Ｂ_１、Ｅ_１、Ｐ_１であり、Ｐ_１Ｈ又は重合性基、Ｙ_１は、Ｈ、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、スルホン、カルボキシル等、ｍは０〜８の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】室温付近でコレステリック相を示し、組成により赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御でき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】式（１）の化合物と特定の液晶性化合物とを含有する重合性液晶組成物。


［ＲはＨ等；Ａは炭素数１〜１２のアルキレン等；Ｘ及びＹは独立して芳香族環又はシクロヘキサン環等；Ｚは独立して単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＯＯ、ＯＣＯ、ＣＯＮ（Ｒ¹）又はＮ（Ｒ¹）ＣＯ；Ｒ¹は水素又はメチル；ｍは０〜３の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】強靱性及び柔軟性に優れる硬化物を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】樹脂と、下記一般式（１）に示す構造を含む重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む感光性樹脂組成物。


一般式（１）に示す構造は、＊の位置で他の構造と結合して重合性化合物をなす。また、一般式（１）において、Ｒ_０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ_１は水素原子、一価の有機基又は前記他の構造と結合して−Ｒ_１ＣＨＸ−を含む環構造を形成する二価の有機基を表す。Ｘは−Ｏ−、−ＮＲ_２−又は−Ｓ−を表す。Ｒ_２は水素原子、一価の有機基又は前記他の構造と結合して−Ｒ_２Ｎ−を含む環構造を形成する二価の有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】光学材料に好適なガラス転移点を有するシクロオレフィンコポリマーおよび生産性、表面性状の良好なフィルムを提供する。
【解決手段】エチレン及び炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物から選ばれる少なくとも１種の非シクロオレフィンモノマー（Ａ）と、特定構造のノルボルネン系化合物（Ｂ）との付加共重合により得られるシクロオレフィンコポリマーであって、数平均分子量が５００００〜１００００００であり、かつノルボルネン系化合物（Ｂ）に由来する繰り返し単位が前記コポリマー中の５５〜８０モル％であることを特徴とするシクロオレフィンコポリマーおよび該コポリマーを用いてなるフィルム。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、第二のレジスト組成物として用いることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ポジ型レジスト組成物からなる第一のレジスト膜から形成された第一のレジストパターンが形成された支持体上に、ポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成した後、選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する方法において、特定構造の構成単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、前記第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる、前記第二のレジスト膜を形成するために用いられるポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】剥ぎ取り性が良好な生産性の高いノルボルネン系重合体フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（I）で表されるノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位（１）を、全繰り返し単位のうち、０．０１〜２．００モル％含むノルボルネン系重合体。
【化１】


（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、または置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴のうち少なくとも１つは前記アリール基を表す。） （もっと読む）

【課題】液晶相を示す温度範囲がより広く、化学的に安定であり、安価に製造でき、しかも、選択反射波長帯域Δλが広い重合性液晶化合物、この化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、並びに、この液晶性高分子を構成材料とする光学異方体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性液晶化合物；該重合性液晶化合物及びこれと重合可能な重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物；前記重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子；該液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。


（Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等をそれぞれ表す。ａは０又は１である。） （もっと読む）

【解決手段】一般式（２）で示されるアミン化合物の１種又は２種以上を含有するレジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、レジストの膜減り防止に対する効果が高く、解像性とフォーカスマージン拡大効果が高いものである。 （もっと読む）

【課題】ホスゲンを用いることなく製造可能で、かつ広い波長域で一様の偏光変換が可能な光学フィルムを提供する。
【解決手段】分子内にアクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を２つ以上有し、式（Ａ）で表される基を有する化合物を含む組成物を、成膜化しさらに延伸してなる光学フィルム。


（式（Ａ）中、Ｂ_１及びＢ_２は、それぞれ独立に、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はグリシドキシ基を表す。Ｘは、２価の炭化水素基、スルフィド基、スルホニル基、エーテル結合又は単結合を表し、該炭化水素基は、−ＣＯ−Ｏ−を含んでいてもよい。ａ_１及びａ_２は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】可とう性が高く、硬化物の熱分解温度が低い、重合性化合物および該重合性化合物を含む重合性組成物、ならびに、該重合性組成物を重合させて得られる成形体を提供する。
【解決手段】本発明の重合性化合物は、１個以上のカーボネート結合と１個以上のアセタール結合と１個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に有する。 （もっと読む）