【課題】塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる重合性フッ素系化合物を提供する。また、塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持できる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性フッ素系化合物を用いる。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは（メタ）アクロイルオキシ骨格を有する基であり、残りは水酸基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に２価の有機基、ＰＦＰＥはポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を表す。また、ｎは平均で０〜１０の範囲を表す。） （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体２２上に、露光によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する１つまたは複数種のポジ型レジスト組成物によりポジ型レジストパターン２０を形成する工程（１）と、前記ポジ型レジストパターン２０が形成された前記支持体２２上に、露光により有機溶剤に対する溶解性が減少するネガ型現像用レジスト組成物を塗布してネガ型現像用レジスト膜２１を形成する工程（２）と、前記ネガ型現像用レジスト膜２１を露光し、前記有機溶剤を含有するネガ型現像液により現像して、前記ポジ型レジストパターン２０を除去するレジストパターンを形成する工程（３）と、を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率異方性等の光学的性質を変化させることなく、耐熱性や強度に優れた光学部材を形成するために用いることができる重合性化合物を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、Ｐ−Ｘ−Ｍ−Ｘ−Ｐ（ここで、Ｍはコア部であり、Ｐは重合性基を含む末端部であり、Ｘは結合基である。）で表され、４官能以上であり、直鎖のみのアルキル鎖が比較的短い重合性化合物を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】高湿高温の条件で保管した場合の耐性（耐湿熱性）に優れた光学フィルム、及び、該光学フィルムの作製に好適な組成物を提供する。
【解決手段】本発明の組成物は、式（Ａ）で表される化合物、酸化防止剤及び光重合開始剤を含むことを特徴とする。


［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−等を表す。Ｙ¹は、芳香族炭化水素基等を表す。Ｑ¹及びＱ²は、水素原子等を表す。Ｄ¹及びＤ²は、−ＣＯ−Ｏ−等を表す。Ｇ¹及びＧ²は、脂環式炭化水素基等を表す。Ｌ¹及びＬ²は、１価の有機基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】電気特性を損なうことなく、耐久性が高く、かつ塗布成膜可能な新規な有機半導体材料となり得る重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置。


〔式中、Ｘ_１及びＸ_２はＯ等を、Ａ_１及びＡ_２は特定のの芳香族基を、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
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【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第１繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、疎水性樹脂とを含有している。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する、少なくとも２種の繰り返し単位（Ｂ１）および（Ｂ２）を含有する樹脂（Ｐ）を含む感活性光線性または感放射線性樹脂組成物において、繰り返し単位（Ｂ１）で発生するアルカリ可溶性基と、繰り返し単位（Ｂ２）で発生するアルカリ可溶性基とが異なることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】硬化物における屈折率が高く、かつ、粘度も低く、また、硬化性にも優れる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該組成物を硬化してなる硬化物及びプラスチックレンズを提供する。
【解決手段】芳香環に重合性不飽和二重結合が直接結合している化合物（Ａ）とホスフィンオキサイド系光重合開始剤（Ｂ）とマレイミド化合物（Ｃ）とを含有し、且つ化合物（Ｃ）の含有割合が、化合物（Ａ）の重量の０．１〜２０％であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線照射により硬化させる。 （もっと読む）

【課題】パターンエッジの形成性、分散性および保存安定性に優れた遮光性硬化性組成物、並びにそれを使用して作成された遮光部を有するウエハレベルレンズおよび遮光性カラーフィルタを提供すること。
【解決手段】（Ａ）無機顔料、（Ｂ）ポリエステル構造を有する分散剤、（Ｃ）ポリエステル構造を有する重合性化合物、（Ｄ）重合開始剤、及び（Ｅ）溶媒を含む遮光性硬化性組成物、並びにこの組成物を硬化して作成されたれ遮光部を有するウエハレベルレンズおよび遮光性カラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、特に高温雰囲気下において割れの発生が少なく、安定した光学性能を維持することができる位相差素子を提供する。
【解決手段】イソシアヌル酸誘導体を１種類以上と、少なくとも１種類以上の液晶性化合物を含む組成物からなる位相差素子。 （もっと読む）

【課題】欠陥なく均一な液晶層を形成できる液晶層形成用組成物を提供する。
【解決手段】液晶層形成用組成物に、１分子中に２つ以上の重合性官能基を有し且つ屈折率異方性が０．２０以上である液晶性化合物と、環状ケトン構造を有する溶媒と、環状エーテル構造を有する溶媒とを含ませる。 （もっと読む）

【課題】耐光性や耐熱性及び形状保持性にも優れた成形体を短時間で形成することができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】該組成物は、脂肪族（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）と、（メタ）アクリレート系モノマー（Ｂ）及び／又はα−メチレンラクトン構造を有するモノマー（Ｃ）とを含み、モノマー（Ｃ）は、下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^５基、又は、−Ｃ−Ｏ−Ｒ^６基を表す。Ａｃ基はアセチル基を表す。）で表されるモノマーである成形用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた特性のレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物とともに、このようなフォトレジスト組成物を提供する化合物及び樹脂並びにレジストパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ＶＩＩ）で表される化合物。


［式中、Ｒ⁰はＨ又はメチル基；Ｘ^２１及びＸ^２２は、２価飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、Ｏ又は−ＣＯ−で置換されていてもよいが、Ｘ^２１及びＸ^２２に含まれるメチレン基の少なくとも１つは−ＣＯ−で置換されている；Ｒ^２１及びＲ^２２は、−Ｃ（Ｒ^1R）（Ｒ^2R）（Ｒ^３R）基、置換基を有していてもよい脂環式又は芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基中のメチレン基は、Ｏ、−ＣＯ−、Ｓ又は−ＳＯ_２−で置換されていてもよい；Ｒ^１R、Ｒ^２R及びＲ^３Rは、アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位であって、酸解離性基を含む繰り返し単位（Ａ）と、少なくとも芳香環基を有する繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）