【課題】 孤立パターンの解像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂を備えている。
【化１】
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【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための含フッ素単量体、及び、該含フッ素単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】相当するフッ素アルコール化合物をエステル化して得られる一般式（５）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ^１はＨ、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、この時、−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれＨ、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、Ｒ^５はＨ、Ｆ、−ＣＨ_３又は−ＣＦ_３を示す。） （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第二の膜形成用材料を塗布して第二の膜を形成し、第一のレジストパターンが形成された位置を含む領域を露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像する工程（２）と、を有し、第二の膜形成用材料として、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有し、且つ第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物と同じかそれよりも少ないエネルギー量ではアルカリ現像液に対する溶解性が増大しないものを使用し、工程（２）にて、露光した領域内の第一のレジストパターンのみがアルカリ現像により除去されるように露光量およびＰＥＢ温度を設定するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される２価の基を含む化合物。［Ｑ^１〜Ｑ^４は、−ＣＲ^１＝又は−Ｎ＝を表す。Ｔ^１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＮＲ^２−を表す。Ｙ^１は、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環等を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｇ^１及びＧ^２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基等で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。］
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２以上のアミド基を含むモノマーと、以下の式（ａ）のモノマーと、スルホン酸又は塩モノマーとを共重合することを含む方法を提供する。
【化１】


式中、Ｒ¹はＣＨ₃又はＨである。前記方法で製造されたポリマーを提供する。電極を準備し、ラジカル開始剤、２以上のアミド基を含むモノマー、以下の式（ａ）のモノマー及びスルホン酸又は塩モノマーの溶液を準備し、電極を前記溶液で濡らし、濡らした電極を加熱して、２以上のアミド基を含むモノマー、式（ａ）のモノマーと、スルホン酸又は塩モノマーとを共重合することを含む、電極の被覆方法を提供する。前記方法で被覆された電極を提供する。 （もっと読む）

【課題】高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）炭素数５から８の単環の酸解離性シクロアルキル（メタ）クリレート単位と置換スチレン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、炭素数３以上の炭化水素基を置換基を芳香環に有する構造のスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の基板等に対する密着性に優れ、パターン倒れが抑制されたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、エポキシ樹脂（Ｇ）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。支持体上に、前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）が小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）特定の繰り返し単位を含む重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｃ）有機溶剤と、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】４−（置換カルボニルオキシ）−１−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び当該化合物とラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物。（但し、置換カルボニルオキシの置換基はアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、ナフタレン環上の水素はアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基で置換されていても良い。） （もっと読む）

【課題】狭分散で、分子量が制御された多分岐ポリマーを提供する。
【解決手段】多分岐ポリマーは、式（ＩＩＩ）で表される構造を有する。式中、Ｃは炭素原子を表し、Ｘ^４及びＸ^５は、周期表第１４族〜１６族のいずれかの原子を含む連結基を表し、Ｙ^４は活性ハロゲン原子を有する官能基を表し、Ｒ^１４は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシル基を表し、ｎ^７、ｎ^８は、それぞれ独立して０又は１以上の整数を表す。ｍ^３は３又は４を表し、式：−（Ｘ^４）ｎ^７−Ｙ^４−Ｑ^４で表される基同士は、同一であっても相異なっていてもよい。Ｑ^４は、重合性不飽和結合により誘導される繰り返し単位を有するアーム部を表す。
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【課題】レジスト用成分の溶解性に優れるとともに、高解像性で、かつ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む酸発生剤成分とを、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤を含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物。式（ｂ１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｒ^７０（Ｒ^７０は有機基）で表される基で置換された置換アリール基である。Ｒ^７”〜Ｒ^９”のいずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^１は酸素原子を含む２価の連結基、Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。
［化１］
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【課題】植物性の原料を用い、室温や体温付近でコレステリック相を有する液晶組成物であって、組成を変えることで室温や体温付近で赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することでき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し、コレステリック相を固定化することができる液晶組成物を提供する。
【解決手段】本発明の重合性コレステリック液晶組成物は、γ−オリザノール（Ａ）の加水分解物の残基と環構造とを有する重合性エステル化合物（１）、γ−オリザノール（Ａ）の加水分解物の残基を有し、かつ環構造を有しない重合性エステル化合物（２）およびγ−オリザノール（Ａ）の水添物の残基を有する重合性エステル化合物（３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）次の一般式（Ｉ）で表わされる感光性樹脂


（但し、Ｒ^１は水素原子又は酸により分解可能な有機基であり、Ｒ^２〜Ｒ^５はそれぞれ水素原子、水酸基及びカルボキシル基からなる群から選ばれた同一又は異なる１価の原子又は基であり、ｍ及びｎは１以上の整数を表す）と、（Ｂ）活性光線により酸性化合物に変化する光酸発生剤と、（Ｃ）前記（Ａ）感光性樹脂を溶解する有機溶剤と、からなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】焦点深度マージン（ＤＯＦ）、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−Ｃ(Ｘ₁)(Ｘ₂)(ＯＲ₁)で表される基（Ｘ₁及びＸ₂は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、Ｘ₁及びＸ₂のどちらか一方又は両方に少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。Ｒ₁は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも１つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少なく、液浸露光に好適に用いることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、（Ｃ）フッ素原子を有し、リビングアニオン重合により得られる樹脂と、（Ｄ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】圧電性や焦電性を持つ有機圧電材料として、特に、配向性が高く、かつ熱的に安定な有機圧電材料及びそれを用いた超音波探触子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を、少なくとも１種類以上含む化合物を含有し、かつそのガラス転移温度が１００℃以上、１３０℃以下であることを特徴とする有機圧電材料。


〔式中、Ｑは高分子主鎖を表す。Ａ_１はアルキレン基、オキシアルキレン基を表し、Ａ_１、Ａ_２はメソゲン基を表す。Ｙはウレア基、チオウレア基、ウレタン基、チオウレタン基、アミド基、チオアミド基、カーボネート基、スルホンアミド基、スルホンジアミド基から選ばれる２価の連結基を表す。Ｚは、炭素数１〜２５の脂肪族基、芳香族基及び複素環基から選ばれる基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】従来のレジスト材料を上回る現像特性、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れた耐熱パターン形状保持性を示す可溶性多官能ビニル芳香族共重合体及びレジスト組成物、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物を得る。
【解決手段】ジビニル芳香族化合物由来の構造単位（ａ）及びモノビニル芳香族化合物由来の構造単位（ｂ）を含む共重合体であって、その末端に平均して1分子あたり１個以上の下記式（１）で表されるカテコール系化合物由来の末端基を有し、数平均分子量が５００〜１０，０００であり、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類等の有機溶媒に可溶である多官能ビニル芳香族共重合体、及びこの多官能ビニル芳香族共重合体と酸発生剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト組成物。式（１）において、Ｒ₂は水素原子又は酸不安定基であり、Ｒ₂中の５〜５０モル％は酸不安定基である。
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【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）