【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる組成物であって、かかる組成物を硬化して得られる重合膜に対し、重合膜を薄膜化しても充分な光学特性が得られ、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される二官能（メタ）アクリレート化合物と、一般式（２）で表される末端にニトリル基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物とからなり、それらの質量比率（前者／後者）が９０／１０〜４０／６０である重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】高い螺旋誘起力を有し、液晶組成物に添加することで、液晶組成物の物理的性質、光学的性質を大きく損なうことなく必要なヘリカルピッチ長を達成することができる光学活性化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性光学活性化合物。
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【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトｇ少なく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の脂環ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ１）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の親水性基を有する構成単位（Ｄ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】次の構造式：


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ_２はフルオロ化されたエチレングリコール基を有するＣ_３〜Ｃ_１０の炭化水素基であり、Ｒ_５は水素原子、ヒドロキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０の炭化水素基、またはＣ_１〜Ｃ_１０のフルオロ化された炭化水素基であり、ｍ／（ｍ＋ｏ）＝０．１〜０．６、ｏ／（ｍ＋ｏ）＝０．４〜０．９である。）を有する感光性ポリマーによって上記課題は解決される。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に、リソグラフィー特性を損なうことなく被覆膜を形成できるレジスト被覆膜形成用材料、および該レジスト被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト被覆膜形成用材料であって、
前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ）を有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤およびアルコール系溶剤からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤（Ｓ１）を含有することを特徴とするレジスト被覆膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】室温で十分安定したネマチック相を有し、かつ、均一なハイブリッド配向性を示す重合体を得ることを可能にする組成物を提供すること。
【解決手段】第１成分として特定の重合性液晶化合物と、第２成分として下記式で表される化合物から選ばれる１種以上の化合物（第１成分とは異なる）と、第３成分として特定の重合性化合物（第１成分及び第２成分とは異なる）とを含有する重合性液晶組成物。


［式中、Ｒ³およびＲ⁴は独立に水素または炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｐ⁵は特定
の重合性基であり；ｑ³は０〜１の整数であり；ｊ³は１〜１０の整数である。］ （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも、高感度で、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストのラインエッジラフネスの改善に寄与するための親水性基含有ナフチル基骨格を持ち、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステル等の重合性モノマーと共重合させた場合に共重合性が良好で、組成が均一であり、波長１９３ｎｍの光線透過率が高い重合体を得ることができる重合性モノマー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特定のナフタレン骨格を有する重合性モノマー及び特定のモノマーを特定の条件下で反応させる重合性モノマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 配向角度が低く、また重合温度により配向角度の変化のないまたは軽減された光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の下記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有する組成物。


（一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の連結基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の単環構造官能基を表す。） （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物、さらに、ＥＵＶ光による露光下で、コントラストが良く、さらに露光時のアウトガスの問題がないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の置換基を有するスチレン系繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアリールスルフォニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、ＬＷＲ（ラインウィイズスラフネス）、疎密依存性の低減を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】酸分解性アセタール基を有する芳香族基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物とそのパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】室温付近でコレステリック相を示すとともに、組成物の組成を変えることで、赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することができ、さらに、対象となる基材上に、コレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物は、特定の単官能液晶性アクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも２種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学用途への利用可能な、粒子径制御可能かつ粒径の揃った、実質的に分散安定剤を含まない熱硬化性樹脂微粒子を提供する。
【解決手段】単官能および多官能エチレン性不飽和単量体を分散安定剤非存在下、水および／またはアルコール溶媒中で、ラジカル重合性開始剤によって重合してなる樹脂微粒子であって、単官能および／または多官能エチレン性不飽和単量体が、下記構造式の官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む熱硬化性樹脂微粒子。
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【課題】酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好な形状のパターンを得ることができる感光性樹脂及び感光性組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するスルホニウム基を置換基として含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、特定の構造を有する基を含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、ヒドロキシスチレンの繰り返し単位と、必要に応じてスチレンの繰り返し単位とを有する感光性樹脂とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、形状に優れたレジストパターンを形成でき、ＰＥＢマージンにも優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０）で表される構成単位（ａ０）を有し且つアセタール型酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有さない重合体（Ａ１）と、前記構成単位（ａ１）を有し且つ前記構成単位（ａ０）を有さない重合体（Ａ２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつ良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０−２）とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基；Ｙ^１、Ｙ^３は脂肪族環式基；Ｚは第３級アルキル基含有基またはアルコキシアルキル基］。
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【課題】安価且つ容易に、硬度などの機械強度、および基材密着性に優れた位相差層を形成することのできる液晶組成物、それを用いたカラーフィルタ、およびこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】１種または２種以上の架橋性液晶分子と、分子構造中に（メタ）アクリロイル基を含有するシランカップリング剤と、分子構造中にアルコール性水酸基および多官能（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと、イソシアネート化合物と、を含有することを特徴とする液晶組成物、およびこれを透明基板２に塗工して固定化した位相差層４を備えるカラーフィルタ１ならびに該カラーフィルタ１を表示側基板１２とする液晶表示装置１１。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつリソグラフィー特性も良好なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、第３級アルキル基含有基含有の脂肪族環式基を含むアクリル酸エステル単位（ａ０）と、第３級アルキルエステル型であって多環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）