【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線露光において高感度なフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基等を表す。Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、炭素数３〜６の分岐状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基をとり得る。ＡおよびＢは、酸素原子または硫黄原子を表す。）で表される繰り返し単位を構成単位として有する高分子化合物および光酸発生剤を含有することを特徴とする、極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、基材成分（Ａ）が、スルホニル基を含む環式基を側鎖に含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、特定構造を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ５）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤に対する溶解性に優れ、重合後の液晶性及び透明性が良好であり、また耐熱性や配向制御に優れ、得られる光学異方体の薄膜化が可能な重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】重合性液晶組成物として、例えば下式で示される反応式で得られる重合性液晶化合物の一種以上及び、例えば、アクリロイル基を有する安息香酸エステルとアクリロイル基を有するフェノールとのエステル化反応により製造することができる重合性液晶化合物の一種以上を併用する。
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【課題】レジスト材料の溶解性が良好であり、優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるアルコール系有機溶剤を用いたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、前記有機溶剤（Ｓ）がアルコール系有機溶剤であり、前記樹脂成分（Ａ）が、側鎖に、ＯＨ基を有する炭素数４〜６の環状エーテルを有する構成単位（ａ０−１）、側鎖に、ＯＨ基を有するアルキレン基または脂肪族環式基を有する構成単位（ａ０−２）、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐久性が良好な位相差層、位相差フィルム及び画像表示装置用基板の作製に有用な重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】重合性液晶化合物の少なくとも１種と、硬化性多分岐化合物の少なくとも１種とを含む重合性液晶組成物、前記硬化性多分岐化合物は、例えば、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー、及びスターバーストポリマー等からなる群から選択される多分岐化合物に７つ程度以上の硬化性反応基が結合した化合物である。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
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【課題】
着色の少ないアジン結合を有する、重合性化合物及び重合性液晶化合物、これらの化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、及びこの液晶性高分子を構成材料とする光学異方体を提供する。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で示される、重合性化合物及び重合性液晶化合物、これらの化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、及び、この液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。
【化１】


〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_６は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等を、Ｇ_１及びＧ_２は炭素数１〜２０の２価の脂肪族基等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を、Ａ_１及びＡ_２は２価の脂環構造含有脂肪族基を、Ｘ_１〜Ｘ_８は水素原子等を、ａ及びｂは０又は１である。〕 （もっと読む）

【課題】スピロビインダン骨格を有する重合性液晶化合物及びこの化合物を含有する液晶組成物の提供。
【解決手段】式１で表される重合性液晶化合物。Ｇは単結合又は酸素であり；ＲはＨ、メチル又は式（ａ）で表される基であって、少なくとも２つのＲは式（ａ）で表される基であり；Ｐは重合性の基である。
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【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素化合物成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤（Ｓ１）と、沸点１５０℃未満のアルコール系有機溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】トナー用添加剤として有用な樹脂粒子の提供。
【解決手段】下記式(Ｉ）で示されるシルセスキオキサン(ａ)を含む付加重合性単量体を重合させるか、該シルセスキオキサン(ａ)と付加重合性単量体(ｂ)とを共重合体させて得られる、体積平均粒径１０〜５００ｎｍの樹脂粒子。［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷は水素、炭素数１〜４０のアルキル、置換または非置換のアリール、および置換または非置換のアリールアルキルからなる群からそれぞれ独立して選択される基である；このアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；そして、Ａ^１は付加重合性官能基である。］
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【課題】高い螺旋誘起力を有し、液晶組成物に添加することで、液晶組成物の物理的性質、光学的性質を大きく損なうことなく必要なヘリカルピッチ長を達成することができる光学活性化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性光学活性イミド化合物。該重合性光学活性イミド化合物としては、該一般式（Ｉ）中、Ｘ³及びＸ⁴が共に−ＣＯ−である化合物、環Ａ²及び環Ａ³が共にナフタレン環である化合物、環Ａ¹、Ａ²、Ａ³及びＡ⁴が全てベンゼン環である化合物、Ｍ¹及びＭ²が共に水素原子である化合物、環Ａ¹と環Ａ⁴及び環Ａ²と環Ａ³が、それぞれ同一の環であり、Ｍ¹とＭ²、Ｘ¹とＸ⁶、Ｘ²とＸ⁵及びＸ³とＸ⁶が、それぞれ同一の基であり、ｎとｍが同一の数である化合物が好ましい。
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【課題】透過性に優れた硬化物が得られるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも２種類の反応性の異なる硬化性官能基を同一分子内に有する単量体と、（Ｃ）酸化防止剤と、（Ｄ）離型剤とを含有するナノインプリント用硬化性組成物。前記（Ｄ）離型剤がシリコーン系離型剤である。（Ｄ）離型剤を組成物中に０．００１〜１０質量％の割合で含む。前記硬化性官能基の内、少なくとも１つがα、β−不飽和エステル基である。 （もっと読む）

【課題】ワニス状態での流動性に優れると伴に、硬化物の透明性、及び熱履歴後の耐熱黄変性に優れ、更に硬化物の強度にも優れるエポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂（Ａ）、メタクリル酸（Ｂ）、ポリシロキサン構造にアミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール系水酸基、シラノール系水酸基、メタクリロイル基、アクリロイル基、ポリエーテルアルコール基、メルカプト基、及びカルボキシル基から選択される反応性官能基を含む反応性シリコーン（Ｃ）、及びラジカル重合開始剤（Ｄ）、を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】広波長域での偏光変換可能な光学フィルム用化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される化合物。




［ＥＷＧはニトロ基等；ｐ、ｑ、ｓ、ｔは０〜４の整数；Ｒ’、Ｒ”はアルキル基等；Ａ^１は、環状炭化水素基等；Ｂ^１〜Ｂ^３は−Ｃ≡Ｃ−等；ｎは１〜４；Ｅ^１はアルキレン基等；Ｐ^１及びＰ^２は、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）。Ｒ^１〜Ｒ^５はアルキル基等。] （もっと読む）

【課題】パターン硬化可能なレジスト材料、レジスト膜を硬化させる工程を含むパターン形成方法を提供することにより、ダブルパターニングプロセス等により高度な微細加工を可能にする。
【解決手段】一般式（１）で表されるナフタレン環を有する単量体、及びその単量体に由来する繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²はＣ１〜１０の二価の有機基。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜１０の一価の有機基。Ｒ²とＲ³又はＲ²とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ³とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｘは水酸基、ハロゲン原子、又はＣ１〜１０の一価の有機基。ｎは０〜７。） （もっと読む）

【課題】感度、低現像欠陥、そして露光量依存性（ＥＬ）と、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、形状、マスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）性能、低現像欠陥、更に解像力、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有する繰り返し単位と、ヒドロキシスチレン由来の繰り返し単位と、酸分解性基を有するスチレン由来の繰り返し単位とを少なくとも含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物並びにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】広波長域で一様の偏光変換が可能な新規光学フィルム、該光学フィルムを与え得る新規化合物、これらを利用した偏光板、表示装置、光学フィルムの製造方法の提供。
【解決手段】式（１）の化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。


［Ｂ_１〜Ｂ_４は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ’−、−ＯＣＨ_２等、Ｅ_１及びＥ_２はＣ１〜２０アルキレン基、Ｐ_１及びＰ_２は上記（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）の基、Ｒ’、Ｒ_１〜Ｒ_５はＣ１〜４アルキル基又はＨを表す。］ （もっと読む）