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Fターム[4M118BA03]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 基本構造 (11,702) | 受光部(光電変換部)を複数持つもの (11,448)

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【課題】電圧保持率に優れ、コントラストの高い着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C);
(A)シクロヘキサノンに対する溶解量が1重量%を超えて20重量%未満である染料を含む着色剤、
(B)バインダー樹脂、及び
(C)架橋剤
を含有することを特徴とする着色組成物。
上記染料は、シクロヘキサノンに対する溶解量が1重量%を超えて20重量%未満である限り特に限定されるものではないが、本発明においては、シクロヘキサノンに対する溶解度が好ましくは1重量%を超えて15重量%以下、特に好ましくは3重量%以上8重量%以下である。また、上記染料はキサンテン系染料であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】微小な傾斜構造体を製造する。
【解決手段】基板の上方に犠牲膜を形成する工程(a)と、犠牲膜の上方に第1の膜を形成する工程(b)と、第2の膜であって、基板に接続された第1の部分と、第1の膜に接続された第2の部分と、上記第1の部分及び上記第2の部分の間に位置する第3の部分と、を含む第2の膜を形成する工程(c)と、犠牲膜を除去する工程(d)と、工程(d)の後に第2の膜の上記第3の部分を曲げて、第1の膜を基板に対して傾斜させる工程(e)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】単純な構成で、波長の大きく異なる複数の帯域の電磁波に対して収差の影響を低減した電磁波素子を提供する。
【解決手段】電磁波素子を、第1の誘電体1中に前記第1の誘電体1とは誘電率の異なる第2の誘電体2を分散させて複合誘電体で構成する。電磁波素子は、所定の第1の波長の電磁波および前記第1の波長よりも長い所定の第2の波長の電磁波に対して略等しい有効誘電率を有し、第2の誘電体2の平均的な粒径および平均的な間隔は、第1の波長よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】露出した素子の機能部の汚染が低減された、高い信頼性のある電子装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】電子装置108は、受光素子101と、受光素子101の受光部101bを囲むように立設する第1樹脂からなる枠材502と、枠材502の周囲を埋める第2樹脂からなる封止樹脂層106と、を備える。枠材502に囲まれた空間に受光素子101の受光部101bが露出している。枠材502の上面が封止樹脂層106の上面より高い。 (もっと読む)


【課題】対象物からの反射光を精度よく受光できるようにしつつ装置を薄型化する。
【解決手段】センシング装置において発光部20は受光部30より対象物F側に位置する。発光部20は、照射光ILを発する発光層26と、照射光ILと反射光RLを透過する第1電極22と、照射光ILと反射光RLを遮光すると共に開口部が形成された第2電極24と、第2電極24の開口部に対応する位置に設けられ、照射光ILと反射光RLを遮光すると共に第1電極22と第2電極24とを部分的に絶縁する絶縁層28とを備える。受光部30は反射光RLを受光する受光素子Dを備える。遮光層BMは、第2電極24の開口部に対応する位置に設けられ、照射光ILと反射光RLを遮光すると共に開口部が形成されている。対象物F側から平面視した場合に、遮光層BMは第2電極24の開口部と重なり、受光素子Dの受光面は遮光層BMの開口部内に位置する。 (もっと読む)


【課題】マイクロレンズ基板にスペーサーを形成する工程を簡素化する。
【解決手段】工程P1および工程P2では、基板12のうちスペーサー16が形成される領域13Aの周囲に反射パターン18を形成する。工程P3では、反射パターン18が形成された基板12上にポジ型の感光性材料で感光層52を形成する。工程P4では、感光層52のうちマイクロレンズ14およびスペーサー16の各々に対応する領域以外の領域を露光する。工程P5では、マイクロレンズ14に対応する第1パターン72とスペーサー16に対応する第2パターン74とを感光層52の現像により形成する。工程P6では、第1パターン72および第2パターン74の各々の表面を加熱により曲面状に変形させることでマイクロレンズ14およびスペーサー16を形成する。 (もっと読む)


【課題】エッチングによるダメージを低減した焦電型検出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】Sn膜271を形成し、パターニングする第1膜形成工程と、Sn膜271に重ねてIn膜272を形成する第2膜形成工程と、焦電体232を形成する第3膜形成工程と、酸素含有雰囲気にて加熱し、Sn膜271とIn膜272から第1電極234を形成するアニール工程と、第1電極234が形成されない場所のIn膜272と焦電体232を除去する除去工程と、を有する。第2膜形成工程が終了するとき、支持部材210上にはIn膜272とSn膜271とが積層されたInSn積層領域273と、In膜272とSn膜271とが積層されていないIn単層領域274と、が配置され、アニール工程ではInSn積層領域273にて第1電極234を形成し、In単層領域274のIn膜272を蒸発させる。 (もっと読む)


【課題】画素サイズの小さい場合においても、高精度の測距が可能となる固体撮像素を提供する。
【解決手段】主導波路101と、主導波路に導かれた光の射出側に設けられた副導波路104,105と、副導波路に導かれた光の射出側に設けられた光電変換部と、を備えた画素を有する固体撮像素子であって、主導波路は、第1の方向から入射した光と、それとは異なる第2の方向から入射した光を導波するように構成し、副導波路は、主導波路を導波する光と結合するように構成された第1と第2の副導波路と、を備え、第1の方向から入射して第1の副導波路に導かれて射出される光量が、第2の方向から入射して第1の副導波路に導かれて射出される光量よりも大きい光量が射出可能に構成し、第2の方向から入射して第2の副導波路に導かれて射出される光量が、第1の方向から入射して第2の副導波路に導かれて射出される光量よりも大きい光量が射出可能に構成する。 (もっと読む)


【課題】一般的なデジタルカメラやビデオカメラに搭載されている撮像素子には、温度の変化に伴って増減するキズが存在しており、画質劣化の原因となる。
【解決手段】被写体からの入射光を光電変換し画像信号として出力する撮像素子を含む撮像手段と、撮像素子の欠陥画素を検出する欠陥画素検出手段と、欠陥画素検出手段で検出した欠陥画素を補正する欠陥画素補正手段と、欠陥画素補正手段からの信号に対して任意の領域ごとに画像信号補正を行う画像信号補正手段と、撮像素子付近の温度を計測する温度計測手段と、画像信号処理システムを統括して制御するシステム制御手段と、を具備し、システム制御手段は、温度計測手段から得た温度情報を用いて欠陥画素検出手段が欠陥画素を検出する際の検出条件、すなわち、露光時間、欠陥画素検出閾値、ゲインのうちのいずれか1つまたは複数を制御する。 (もっと読む)


【課題】欠陥画素が選択された場合であっても、正しい受光信号を得ることが可能な受光装置を提供する。
【解決手段】複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイ4と、各マイクロレンズを通過した被写体光をそれぞれ複数の受光素子で受光するように受光素子が配列された受光素子アレイ5と、複数のマイクロレンズの各々に対応する受光素子アレイ5上の有効領域のうち、欠陥画素を含む有効領域について、当該欠陥画素の位置に応じて第1の補間演算と第2の補間演算とのうちいずれか一方の補間演算を行う補間部18とを備える受光装置8。 (もっと読む)


【課題】 貫通電極を備えた撮像素子チップの受光面が良好な平坦性を有し、高画質な画像を得ることができる撮像モジュール及びカメラを実現することを目的とする。
【解決手段】 カバー部材と、フォトダイオードを備えた撮像素子チップと、撮像素子チップの周辺に配置され、カバー部材と撮像素子チップとを固定する固定部材と、撮像素子チップのカバー部材側とは反対側に配置された再配線基板と、を備え、カバー部材と撮像素子チップと固定部材とで囲まれた空間を有し、撮像素子チップは、半導体基板を有し、半導体基板は、カバー部材側の第1主面と第1主面の反対側の第2主面とを貫通する貫通電極を有し、撮像素子チップと再配線基板とを接続する接続部材を有し、撮像モジュールをカバー部材側から見た固定部材に対応する固定領域に、貫通電極と接続部材とが配置され、空間に対応する領域の半導体基板の厚みより薄くなる境界が、固定領域に配置されている。 (もっと読む)


【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したCSPにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO 56〜66%、Al 9〜26%、B 1〜11%、MgO 0〜6%、CaO 0〜6%、ZnO 4〜13%、LiO 0〜4.0%、NaO 0〜5.0%、KO 0〜6.0%、ただし、LiO+NaO+KO 1%以上を含有し、30〜300℃の範囲における平均熱膨張係数が30〜38×10−7−1、ヤング率が78GPa以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、セラミック基板及びその製造方法並びにイメージセンサーパッケージ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック基板は、上部面に第1溝が形成され、第1溝に第2溝が形成され、第2溝に貫通孔が形成されたセラミックボディーと、第1溝に形成された第1電極パッドと、セラミックボディーの上部面、下部面及びこれら両面のうちのいずれかに形成され、第1電極パッドに電気的に接続された第2電極パッドと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光利用効率が高く、十分な光感度を有すると共に、色ごとのずれが発生せず、回路やプログラム等からなる補完機構を設ける必要のない、動画カメラや静止画カメラ等に用いることができるカラー撮像素子を提供する。
【解決手段】カラー撮像素子1は、2次元配列された複数の集光レンズ2と、各集光レンズ2を透過する光を複数の波長成分に分離する回折格子3と、各集光レンズ2及び回折格子3を透過する光が概ね集光される位置に前記各波長成分に対応する複数の受光素子4a〜4cからなる1つの受光部4が配置されるように2次元配列された複数の受光部4とを備えている。 (もっと読む)


【課題】CCD製品の中空モールドパッケージにおいて、モールド成形時のパッケージ中空部内の内部リードずれ発生による連続成形性を防止し、下型の金型離型の際の引っ張り力が、モールド樹脂と内部リードの接合部に集中することなく、表面のモールド樹脂膜によって拡散軽減され、内部リード3がずれて浮き上がる現象が改善される。
【解決手段】本発明にかかる中空モールドパッケージは、リードフレーム8と、リードフレーム8の先端部を上下方向から挟み込むように形成した樹脂部13とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的画素欠陥検査と、画像分析による画素欠陥検査を行うことができ、歩留まりを向上させる固体撮像素子の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像素子検査装置は、複数の画素が形成された固体撮像素子2に対して電気的欠陥検査を行う接触型のプローブ121bを備えるテスタ11と、テスタ11による欠陥画素の検出結果に基づき、欠陥画素が検出された固体撮像素子を撮像する撮像部123、及び、撮像部123からの出力画像を基に異物の有無を検出する画像分析部(例えば、画像分析部112)を備えるプローバ12とを含む。 (もっと読む)


【課題】フォトダイオードにおける量子効率を向上させることが可能な固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】半導体基板11の表面に、一部がこの表面から突出するように形成された凸レンズ状のフォトダイオード13と、半導体基板11の表面において、フォトダイオード13とは離間して形成された不純物層14と、不純物層14を含み、不純物層14とフォトダイオード13との半導体基板11の表面上に、ゲート酸化膜15を介して形成されたゲート電極17と、ゲート電極17を含むゲート酸化膜15上に形成された層間絶縁膜18と、層間絶縁膜18の表面のうち、フォトダイオード13の上方を除く領域に形成された配線19と、配線19を含む層間絶縁膜18の表面上に形成されたパッシベーション膜22と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】小型化可能な分光センサー及び電子機器等を提供すること。
【解決手段】分光センサー装置は、光源部110と、光源部110からの光を観察対象に照射することで得られる光が入射される分光センサー100を含む。分光センサー100は、透過波長が異なる複数の光バンドパスフィルター61〜64と、複数のフォトセンサー部31〜34を有する。第1の光バンドパスフィルター61は、第1の特定波長を透過する波長特性を有し、第2の光バンドパスフィルター62は、第1の特定波長とは異なる第2の特定波長を透過する波長特性を有する。第1のフォトセンサー31は、第1の光バンドパスフィルターを透過した第1の特定波長の光をセンシングし、第2のフォトセンサーは、第2の光バンドパスフィルターを透過した第2の特定波長の光をセンシングする。 (もっと読む)


【課題】複数台の撮像装置を使用して、カラーの合成画像と距離情報を得ることができる撮像装置において、解像度の低下を招くことなく感度を向上し、さらには多くの色情報の取得が可能な撮像装置を提供する。
【解決手段】カラー画像を取得するとともに、被写体までの距離情報を取得するために、入射した光を光電変換して画像信号を出力する2系統の撮像素子と、2系統の画像信号に基づき被写体までの距離情報を求める距離情報取得部と、2系統の画像信号を合成してカラー画像を得る合成部とを備える撮像装置であって、撮像素子のうち第1の撮像素子は透明画素と光の3原色のうち第1の原色画素と第2の原色画素とを一組とした画素構成を有し、第2の撮像素子は透明画素と光の3原色のうち、第3の原色画素と、第1または第2のいずれかの原色画素とを一組とした画素構成を有している。 (もっと読む)


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