【課題】基板を保持するキャリアのクリーニングを行わなわずとも、高品質な被膜を基板に対して成膜することが可能であり、かつ、効率的な成膜を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗがキャリア２１からヒータ（アノードユニット）９０に移載された後、キャリアは成膜室１１から搬出される。基板をヒータに渡した後のキャリアは、成膜中は、仕込・取出室内で待機すればよい。この後、成膜室と仕込・取出室とを隔てるドアバルブを閉状態にする。 （もっと読む）

【課題】インライン生産工程の各検査装置の待ち時間をできるだけ少なくして検査装置全体のスループットを向上させ、生産効率の向上を図る。
【解決手段】ガラス基板に下からエアを吹き付けてガラス基板を浮上させるステージ手段と、この浮上させたガラス基板をステージ手段に沿って搬送する搬送手段と、この搬送手段で搬送している途中の通過するガラス基板を検査する検査手段とを備えたガラス基板をインラインで検査する装置において、搬送手段に、ステージ手段で浮上させた第１のガラス基板を保持し検査手段を通過して搬送する第１の搬送部と、ステージ手段で浮上させた第２のガラス基板を保持し検査手段を通過して搬送する第２の搬送部とを備え、第２の搬送部は第１の搬送部が移動しているときにこの第１の搬送部と逆方向に第１の搬送部を跨ぐようにまたは潜るようにして移動するように構成した。 （もっと読む）

【課題】 表面処理装置において、搬入、搬出手段の選択の自由度を高められるようにする。
【解決手段】
表面処理装置３は、上側構造部１０と下側構造部２０とを備えている。下側構造部２０は昇降機構３０により、上側構造部１０に当接し上側構造部１０と協働して密封された処理室を形成する閉じ位置と、上側構造部１０から離間した開き位置との間で昇降され、この昇降に際して、垂直の複数のガイドシャフト４１，４２により案内される。下側構造部１０が開き位置にある時、構造部１０，２０間の搬入・搬出空間Ｓは、３方向にわたって連続した開口１００を有している。この連続開口１００に対応する位置に配置された第１のガイドシャフト４１は第２ガイドシャフト４２より短く、その上端が上側構造部１０から離れている。上側構造部１０は、第２ガイドシャフト４２の上端部に支持されるとともに、連続開口１００を横切らない支持機構５０により支持される。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】基板９を加熱処理するチャンバ４内の気流を、基板９の位置に応じて変化させる。基板９の搬入時には搬入口４１からチャンバ内に流入する気流を形成する。基板９がチャンバ４内にて加熱される際は、排気口５１ａおよび５１ｂから排出される気体の量を制御することにより、基板９の中央部から端部方向に向かう気流を形成する。これにより、基板９の前端面および後端面は、加熱プレート２により加熱された気体による熱の影響を受けにくい状態で搬送される。その結果、基板９の加熱均一性が向上する。 （もっと読む）

【課題】基板内の温度差を抑制し、基板に生じる応力を緩和することが可能な成膜装置、及び成膜基板製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と接触して基板を搬送する回転自在の搬送ローラーの回転を正回転と逆回転とで切り替えて、基板を加熱または冷却しながら基板を往復動させる。これにより、基板と搬送ローラーとの接点の位置を変化させ、特定部位のみが搬送ローラーと接触すること回避し、基板内の温度差を抑制する。また、基板を往復動させることで、加熱／冷却手段の設置範囲を拡大せずに、基板の加熱／冷却を行うことができる。また、搬送ローラーを回転させながら、基板を加熱／冷却するため、基板と搬送ローラーとの摩擦係数を低減することができ、基板と搬送ローラーとの接点をずらし、基板の伸縮を許容する。 （もっと読む）

【課題】一の搬送方向と該一の搬送方向と直交する搬送方向とのコーナー部においても、円滑に９０度方向転換させることが可能な非接触搬送装置を提供する。
【解決手段】一の搬送方向（Ｘ方向）に沿って配された非接触搬送装置３と、一の搬送方向に対して直交する搬送方向（Ｙ方向）に配された非接触搬送装置４とのコーナー部に配される非接触搬送装置２であって、平面視直角三角形を呈すると共に、平面視直角三角形の斜辺２ｂを相対向させた一対の搬送用基板２ａ、２ａ’が直角三角形の一方の辺２ｃを一の搬送方向に向けると共に、他方の辺２ｄを搬送方向に直交する搬送方向に向けて配され、搬送用基板には、平面視直角三角形の搬送面に複数個の上昇流形成体８と複数個の吸引孔５ｎが設けられている非接触搬送装置１。 （もっと読む）

【課題】熱応力によって割れの危険がなく、かつ自動搬送に適したサセプタカバー、及び該サセプタカバーを備えた気相成長装置を得る。
【解決手段】本発明に係るサセプタカバーは、チャンバー２３内に公転可能に設置されると共に、薄膜を堆積させる基板２５が自転可能に載置される複数の基板載置部４７を有するサセプタ２７を備えた気相成長装置１７におけるサセプタ２７に設置されるサセプタカバー１であって、サセプタカバー１は、外形が円形であって、基板載置部４７に対応する部位に開口部５が周方向に連続して設けられてなり、隣接する開口部５の間の部位において内周側１ａと外周側１ｂに２分割されてなり、内周側１ａと外周側１ｂとが、内周部１ａ側又は外周部１ｂ側のいずれか一方を持ち上げると、他方も持ち上げられるような係合部７によって係合されてなることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、マスクを基板に近接させる時に、両者に空気圧が発生し、マスクが変形して、これが平坦（露光可能な状態）に戻るまでに時間を要するために、マスク近接速度向上の妨げとなり、高スループット化の妨げとなる可能性がある。
【解決手段】マスクをガラス基板に近接させる時の速度プロファイルを、加速時の加速度を減速時の加速度より大きくするように制御することにより前記空気圧力上昇を小さくでき、マスクの変形量を小さくできる。その結果、マスク近接速度を向上できるので、スループットを向上できる。 （もっと読む）

【課題】吸着物の表面に対し周辺部が相対的に湾曲しているシート状被吸着物であっても、その全体を吸着パッドの表面に沿って確実に位置決め保持する真空チャックを提供する。
【解決手段】シート状被吸着物の周辺部を位置決め保持する吸着パッドの表面の部位に吸気領域ＶＥを設定し、吸気領域の単位面積あたりのコンダクタンスＣｎ１を、吸気領域を除く吸着パッドの表面の単位面積あたりのコンダクタンスＣｎ２より大きくすることにより、周辺部が吸着パッドの表面から離れていても、吸気領域ＶＥを通過する通気量を増加いさせて表面への吸着力を増加させる。 （もっと読む）

【課題】保持部に対する基板の位置合わせを正確に行う。
【解決手段】基板保持部によって基板を保持させる際に基板保持部に対して予め決められた位置関係となるように基板を位置合わせ可能に構成され、各々の基端部３２同士が回動可能に連結されると共に各基端部３２と基板保持部との位置関係が固定された状態で基板保持部に取り付けられる一対のアーム３１ａ，３１ｂ、および各々の先端部４２同士が回動可能に連結されると共に各々の基端部４５が各アーム３１ａ，３１ｂの各中間部位３５に対して回動可能にそれぞれ連結されて各アーム３１ａ，３１ｂを連結する一対の連結部４１ａ，４１ｂを有するリンク機構２１ａ，２１ｂと、各連結部４１ａ，４１ｂの各先端部４２と各アーム３１ａ，３１ｂの各基端部３２との離間距離を変化させて各アーム３１ａ，３１ｂの各先端部３７間の距離を伸縮させる駆動機構２３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板処理(ＪＯＢ)開始時に基板処理で使用される処理室に対して、予め必要と思われる前処理を一括で実施することにより、大気搬送ロボットの待機状態を解消し、基板処理(ＪＯＢ)の処理スループットの向上を図る。
【解決手段】基板を処理する処理室と、前記処理室に連接され、前記基板を搬送する搬送手段を備える搬送室と、基板を格納する基板収容器が載置される基板載置台と、前記基板収容器から最初の基板を搬出するときに、前記基板を処理する際に使用される全ての処理室を前処理するように制御する制御手段で少なくとも構成されている。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯留する貯留槽１２と、貯留槽１２に貯留された洗浄液をガラス基板１００の表面に供給するスプレーノズル１と、ガラス基板１００に供給された洗浄液を貯留槽１２に回収する回収槽１９とを備えた第１洗浄部１０１と、下方を向く洗浄液吐出口を有する洗浄液吐出ノズル２と、洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面を備えた液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面に純水を供給する裏面洗浄部４とを備えた第２洗浄部１０２と、第１洗浄部１０１におけるスプレーノズル１と、第２洗浄部１０２における洗浄液吐出ノズル２との間に配設されガラス基板１００の表面から洗浄液を除去する上下一対のエアナイフ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の一方の主面に部材を接触させることなくガラス板を搬送することができる搬送装置及び搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１は、移動可能な台座部１０に対して上下方向に変位可能に設けられており、上方に向かって開口する第１の凹条部２４ａを有する第１の保持部２４と、第１の保持部２４の上方において、第１の保持部２４に対して上下方向に変位可能に設けられており、下方に向かって開口する第２の凹条部３２ａを有する第２の保持部３２とを備えている。第２の保持部３２は、下方に向かって台座部１０側に傾斜する第１の壁部３２ａ１と、第１の壁部３２ａ１に対して台座部１０とは反対側に位置し、第１の壁部３２ａ１と共に第２の凹条部３２ａを構成している第２の壁部３２ａ２とを有する。第１の壁部３２ａ１は、第２の壁部３２ａ２よりも下方に位置している。 （もっと読む）

【課題】各種処理における処理時間を短縮しても生産性が頭打ちになる事情を抑制できる被処理体の搬送方法を提供すること。
【解決手段】第１トランスファアームを伸縮させ、処理室３２ａに収容された処理済の被処理体（ａ）を第１ピック３５ａに受け取らせる工程と、第１、第２トランスファアームを旋回させ、処理前の被処理体（１）を保持した第２ピック３５ｂを処理室３２ａ前に設定された受け渡し位置に移動させるとともに、処理済の被処理体（ａ）を保持した第１ピック３５ａをロードロック室４１ｂの前に設定された受け渡し位置に隣接する位置に移動させる工程と、第２トランスファアームを伸縮させ、第２ピック３５ｂに保持された処理前の被処理体（１）を処理室３２ａに収容する工程と、第２トランスファアームを旋回させ、被処理体を保持していない第２ピック３５ｂをロードロック室４１ｂの前に設定された受け渡し位置に移動させる工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄・現像処理装置における基板を搬送する搬送ローラーの洗浄、清掃を自動化し、洗浄清掃操作の手間や労力を省力化し、洗浄・清掃作業を短時間で実施し、搬送ローラーの洗浄、清掃操作による洗浄・現像装置の長期の稼動停止ロスの発生を防止する。
【解決手段】基板材料ｐを水平に載置して洗浄・現像チャンバー１内の洗浄処理手段Ｂと現像処理手段Ｃとに水平搬送する搬送ローラー40を備えた洗浄・現像処理装置Ａにおいて、基板材料ｐが載置、搬送されていない搬送ローラーを特定する検出手段を備え、特定された搬送ローラーの回転中又は回転停止中に、洗浄・現像チャンバー１内の搬送ローラー40上方に対峙する専用の清掃ノズル31にて該搬送ローラーに清掃液ｄを噴射し、搬送ローラーに付着する汚損物を自動清掃除去して搬送ローラーを清掃する。 （もっと読む）

【課題】ダイ供給装置において、突き上げ機構のポット取付部に取り付けた突き上げポットの交換作業を簡単化する。
【解決手段】突き上げ機構１８のポット取付部５５に突き上げポット２７をクランプ機構４９により交換可能に係合保持する構成とする。突き上げポット２７の下部には、突き上げ動作時に突き上げポット２７の上端面にダイシングシートを吸い付けるバキューム圧を導入するバキューム圧導入管の接続口部を下向きに設けると共に、突き上げ機構１８のポット取付部５５には、突き上げポット２７のバキューム圧導入管の接続口部と接続されるバキューム圧供給口部５７を設け、該ポット取付部５５に突き上げポット２７を係合保持させる際に、突き上げポット２７のバキューム圧導入管の接続口部をバキューム圧供給口部５７に接続することで該突き上げポット２７の係合位置を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】
ワイヤとワイヤの狭い間隔を利用して、任意の基板をカセットから出し入れする。
【構成】
基板移載装置は、上下方向に沿って多段に基板を支持する複数本のワイヤを設けたワイヤカセットに対して、基板を出し入れする。基板移載装置は、ワイヤカセットの上下のワイヤの間に進出及び後退が自在な長尺状のアームと、アームの長手方向に沿って、アームの上側に少なくとも２列に配置された支持部材と、少なくとも２列の支持部材を、基板を支持する上昇位置と、ワイヤを回避する下降位置との間で、列毎に昇降させる昇降駆動部と、昇降駆動部を制御する制御部、とを備える。 （もっと読む）

【課題】吸着パッドの摩耗を検出することが可能な吸着装置及びロボットシステムを提供する。
【解決手段】ロボットシステム１０は、搬送物Ｇを吸着する吸着パッド７６及び吸着パッド７６の吸着圧力を検出する圧力センサ６６ａ〜６６ｄが設けられたエンドエフェクタ４８ａ、４８ｂを有するロボット２０と、吸着パッド７６が搬送物Ｇを吸着してから吸着パッド７６の吸着圧力が安定するまでの間に圧力センサ６６ａ〜６６ｄが検出した吸着圧力の過渡データＤに基づいて、吸着パッド７６の摩耗を判断する判断部８６を有する制御装置３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状基板を個別に安全かつ清浄さを保ち、簡便な方法で収納・開梱するための基板収納ケースを提供すること。
【解決手段】平板状の基板を略水平に載置するための複数の基板受けピンを設け縁辺部に側壁を付設した下底部と、前記下底部の側壁と係合する縁辺部を有する蓋部と、からなる基板収納ケースであって、下底部の所定の位置に接続して基板の各辺の端部を保持するための基板保持治具を設けてあり、前記基板保持治具の内、少なくとも１コーナーを挟む２辺に関わる２つの基板保持治具が、基板の中央に向けて基板端部を押し付ける方向にスライドできるスライド式基板保持治具であり、前記スライド式基板保持治具に対向する蓋部の所定の位置に、スライド式基板保持治具をスライドさせる押し込み治具を蓋部に垂直に設け、蓋部を閉めた時に押し込み治具がスライド式基板保持治具を基板の中央方向に押し付ける機構を有する。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】基板９の前端面が高温加熱プレート１１の上流側端部を通過するときに、基板９の前端面近傍の高さを搬送位置（下降位置）より上方である、上方位置に切り替える。その後、基板９を搬送位置にて搬送し、基板９の後端面が高温加熱プレート１１の下流側端部を通過するときに、再び基板９の後端面近傍の高さを上方位置に切り替える。その結果、基板９の前端面および後端面は、高温加熱プレート１１からの熱の影響を受けにくい状態で搬送される。このため、高温加熱プレート１１から基板９の前端面および後端面に与えられる熱量が、抑制される。その結果、基板９の熱均一性が向上する。 （もっと読む）