【課題】現像液を供給するときの基板搬送速度と、現像液を除去するときの基板搬送速度とを制御し、レジストパターンを均一化するレジスト現像装置を提供する。
【解決手段】現像ユニット３０は、露光されたレジスト膜を有する基板Ｓを搬送する第１搬送機構、第１搬送機構で搬送される基板Ｓの表面に現像液を供給する供給ノズル５０を有する現像液供給部３０Ｂ、現像液で表面が覆われた基板Ｓを搬送する第２搬送機構を有する現像部３０Ｃ、気体を吐出して基板Ｓの表面を覆う現像液を吹き切るブローノズル５１、およびそれに向けて基板Ｓを搬送する第３搬送機構を有するブロー部３０Ｄ、現像液が吹き切られた基板Ｓの表面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル５３を有するリンス部３０Ｅ、第１搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度、第３搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度とが異なるように第１および第３の搬送機構を制御する制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、安定して搬送することができ、同時に、搬送する基板の下方に充分なスペースを確保することができる搬送機構を提供することにある。
さらに、係る搬送機構によって基板を安定に搬送しながら効率良く真空処理を行いうる真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、ローラーに接触する金属ベルトを、駆動系でローラーを回転させることにより進行させて、金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構であり、及びそれを備えた真空処理装置である。 （もっと読む）

【課題】小型の空気供給源からの空気の供給で板状体を適切に非接触状態で支持することができる板状体搬送装置を提供する。
【解決手段】板状体の下面に向けて空気を供給して板状体を非接触状態で支持する送風式支持手段を、搬送方向に沿って備えられて空気供給源から供給された空気を上方に向けて噴出する空気噴出部と、空気噴出部に対して横幅方向の両側に隣接する状態で配置された一対の案内板部とを備えて構成し、一対の案内板部の一方における横幅方向の空気噴出部から離れる側の端部に突条部を備え、突条部を、搬送される板状体の下面より下方に位置する高さに案内板部の上面から上方に突出し且つ搬送方向に沿って形成する。 （もっと読む）

【課題】水中に積層されたウエハ等の基板を精度良く１枚ずつ分離させてカセットに収納する分離収納装置を提供する。
【解決手段】ウエハ載置部５と、第１噴射ノズル１３と、第２噴射ノズル１４と、第３噴射ノズル２２とを備えたウエハ３の搬送装置１である。ウエハ載置部５に多数枚のウエハ３が水中に積層状態で載置される。ウエハ３の前方側面部と対向して水面下に設けられた第３噴射ノズル２２から水１８を噴射して前記ウエハ３の上位複数枚を１枚ずつ分離させる。ウエハ載置部５は上下動自在に構成され、第３噴射ノズル２２からの水１８をウエハ３の上位複数枚に当たるようにウエハ載置部５を上下させる。分離されたウエハ３を第１噴射ノズル１３と第２噴射ノズル１４とで分離させて前方に搬送する。分離されたウエハ３は、水中内で１枚ずつ搬送され、カセット７４へと収納される。 （もっと読む）

【課題】
ファンフィルタユニットの風量を上げることなくダウンフローの流れを維持し、異物の巻き上げ等を抑えて高い局所クリーン性能を発揮する局所クリーン化搬送装置の提供。
【解決手段】
基板搬送ロボット１０３は往復移動することができ、実線２０２の位置へ移動した場合、局所クリーン化搬送装置１０１の側面に設けられた開口量調節機構Ａの開口量調節板４０２を作動して開口部４０２を開ことで、基板搬送ロボット１０３により押された空気が側面にぶつかって巻き上がらないようし、矢印４０３、４０４、４０５、４０６の様に外部へ排出する。
また、基板搬送ロボット１０３が遠ざかる場合は、開口部４０１が閉じ、外部からの空気の流入を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】平板状の基板をステージ上面から浮かせ、基板下面の一部を吸着パッドにより把持して所定の方向に移送する基板移送装置において、吸着パッドによる基板の変形を防ぎ、基板表面の歪みを軽減する基板移送装置を提供し、それによって、処理工程の中で基板移送を伴うスピンレス方式の塗布を均一に行う装置を提供すること。
【解決手段】ステージ上と吸着パッド上とを含む基板上の異なる点の高さを測定できる測定器を有しており、高さの測定結果に基いて、吸着パッドの高さを調整することにより、基板表面の歪みを軽減する。 （もっと読む）

【課題】 印刷エリアに触れずに基板のロードとアンロードを行う。
【解決手段】 真空吸着ステージ２の真空吸着チャック部３を、真空引きと空気供給を切換可能とする。真空吸着ステージ２の側部のハンドフック部２４に先端部を係止させるロボットハンド７の各爪の上面側に、真空引きと空気供給を切換可能とした真空吸着チャック部１９を備える。真空吸着ステージ２とロボットハンド７の上方位置で往復動可能なスライダ１０に、基板１の平面形状を囲む位置に配した係止用爪部材１１を昇降可能に備えてなるワーク移動手段９を設ける。ロボットハンド７上と真空吸着ステージ２上で基板１を移すときは、各々の真空吸着チャック部３と１９に空気供給して基板１を浮上させ、この状態で、ワーク移動手段９の係止用爪部材１１により基板１の外周端を押して移動させる。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から容易に分離することができる積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る積層体は、光透過性の支持体と、上記支持体によって支持される被支持基板と、上記被支持基板における上記支持体によって支持される側の面に設けられている接着層と、上記支持体と上記被支持基板との間に設けられている、無機物からなる分離層とを備えており、上記分離層は、上記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質するようになっており、上記分離層における上記接着層に対向する側の面は、平坦になっている。 （もっと読む）

【課題】ダミーウェハを適切に使用することで生産処理とダミー処理とを効率よく実行する基板処理装置を提供する。
【解決手段】ダミー基板と製品基板とを含む基板に処理を施す複数の処理室と、前記各処理室へ基板を基板保持部に保持して搬送する第一搬送手段を備えた第一搬送室と、大気圧状態で基板を搬送する第二搬送手段を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送室を連結する減圧可能な予備室と、前記搬送室と前記予備室に対して設けられる排気手段と、複数の基板が収納された基板収納手段と前記処理室との間の前記第一搬送手段および前記第二搬送手段の搬送を制御する制御手段とを設けた基板処理装置である。前記制御手段は、複数のダミー基板の使用状態を個別に管理し、ダミー基板の使用状態が予め定められた使用状態に達したか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】 ワークに対するパターン形成を正確に効率良く行いつつ、利便性を高めることができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 保持部１２に保持されたワークｗに対する位置検出手段２０による位置検出および加工手段３０による加工が、保持部１２の異なる割出位置において行われるように、保持テーブル１０が一方向に間欠回転するように構成されたパターン形成装置１であって、制御手段は、位置検出手段２０によるワーク毎の位置検出に基づいて加工座標データを生成し、ワークが装着された保持部１２毎に予め設定された個別補正データにより加工座標データを補正して、補正後の加工座標データに基づき加工手段３０によるパターン形成を行う。 （もっと読む）

【課題】コアンダ効果を活用し、吸着面の全周にわたり高速空気流を包囲することにより、効率的な吸着面を形成する。
【解決手段】ワーク表面と一定の間隙を介して対向する底面を有するとともに、その中央部に該底面に向けて拡開する開口部が形成された本体と、この開口部の内部に配設された中間部材とを有し、中間部材の底面が、開口部の底面より上方に位置して、開口部の内周面との間で全周にわたりスリットを形成する。このスリットを介して、開口部の内周面に沿い、その底面の外周縁の全周に向けて空気を噴出させ、コアンダ効果により、該外周縁の全周から本体の底面に沿って、外周に向かう高速空気流を形成して、中間部材の底面とワークの表面との間で形成される空間を、その全周にわたり包囲して、中間部材の底面を吸着面とする。 （もっと読む）

【課題】リンクアーム機構を有する搬送装置において、特にリンクアーム機構を冷却し、高温状態のワークからの輻射熱の影響を減少させることができる搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置１００は、真空空間内においてワーク２００を搬送するためのリンクアーム機構２と、リンクアーム機構２を鉛直軸周りに回転可能に軸支する旋回軸３と、を備える搬送装置であって、リンクアーム機構２は、下段アーム３１Ｌ・３１Ｒと、下段アーム３１Ｌ・３１Ｒと連結される上段アーム３３Ｌ・３３Ｒと、上段アーム３３Ｌ・３３Ｒの他端と連結されるワーク２００を支持する水平移動部材２２Ｌ・２２Ｒと、を有し、上段アーム３３Ｌ・３３Ｒと水平移動部材２２Ｌ・２２Ｒとの間に冷却板２５Ｌ・２５Ｒを配置した。 （もっと読む）

【課題】空気の噴流によりワークを浮上させ搬送する搬送装置において、ワークを浮上させる浮上装置がワークをほぼ均一な圧力にて傾斜させることなく浮上させるとともに、空気消費量が少ない経済的な搬送装置を提供すること。
【解決手段】
空気箱の上面の浮上させるワークを載置した天板上に前記ワークにほぼ一定の圧力で支持するエアクッション室を形成するように、前記天板の周辺部に気体を噴出する対向して空気を噴出するように形成された細長孔の開口部を設けた。 （もっと読む）

【課題】 基板のロードとアンロードを上面に触れずに行う。
【解決手段】 真空吸着ステージ２の真空吸着チャック部３を、真空引きと空気供給を切換可能とする。真空吸着ステージ２上の基板載置領域に基板１の搬入と搬出を行わせるためのロボットハンド１１に、真空引きと空気供給を切換可能な真空吸着チャック部１２を設ける。真空吸着ステージ２の上方位置に、楔状の爪部７ｂを下端に有する係止爪部材７を基板載置領域１３に近接、離反する方向と昇降方向に動作可能に備えてなるワーク昇降手段６を設ける。真空吸着ステージ２より基板１のアンロードを行う場合は、空気供給する真空吸着チャック部３上で空気浮上させた基板１の外周縁部の下面側に、ワーク昇降手段６の係止爪部材７を係止させてから上昇させることで基板１の外周縁部を持ち上げ、この状態で基板１の下側に挿入させるロボットハンド１１により、基板１を搬出させる。ロードは逆の手順で行う。 （もっと読む）

【課題】カセットにおいて基板間ピッチが狭い状態で載置されている基板であっても、問題なく搬送できる基板搬送用ハンドを提供する。
【解決手段】吸着部３が、基板と接触して基板を吸着するパッド５と、フォーク１とパッド５との間に設けられ、吸着用流体をフォーク１とパッド５との間で連通させる吸着流路７を備えた弾性部材８と、を備え、弾性部材８の一部を変形させてパッド５のフォーク１からの突出量を変更可能なように構成した。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムの短縮を図ることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】第１のチャンバには、基板Ｓを第１の方向で移動可能に支持する第１の支持部材が、所定間隔で上下二段に設けられていると共に、第２のチャンバには、基板Ｓを第１の方向とは直交する第２の方向で移動可能に支持する第２の支持部材が、第１の支持部材とは異なる高さに所定間隔で上下二段に設けられ、搬送室には、基板Ｓを第１の方向で搬送する第１の搬送手段３０と、基板Ｓを第２の方向で搬送する第２の搬送手段３１とのそれぞれが、所定間隔で上下二段に設けられており、第１の搬送手段３０と第２の搬送手段３１とは、相対的に昇降可能に設けられ、これらを相対的に昇降させることによって上段同士又は下段同士の第１の搬送手段３０と第２の搬送手段３１との間で基板Ｓを移動可能に構成されているようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハを非接触状態で持ち上げた際に半導体ウェーハが反ってしまったり自重で外周部が垂れ下がったりする場合にも、半導体ウェーハの水平方向の移動を規制する。
【解決手段】ベース部２０の中心領域２０ａに非接触式吸引保持部２１を備え、ベース部２０の外周領域２０ｂにワークＷの水平方向の移動を規制する規制部２２を備え、ワークＷとの接触面２２３ａを有する規制部２２は、接触面２２３をベース部２０に対して上下方向に移動可能に配設される。接触面２２３ａは、湾曲したワークＷの中央部上面よりも下に位置するワークの外周部上面Ｗ１に接触面２２３ａが接触する下位置と、下位置に位置づけられた接触面２２３ａがワークＷを介してテーブル５上に押し付けられることにより下位置から上方向に逃げる上位置との間で上下動することで、ワークＷを持ち上げた際にワークＷが反ってしまったりした場合でも、板状物の水平方向の移動を規制することができる。 （もっと読む）

【課題】 容易に構成情報を設定する。
【解決手段】 本発明は、搬送チャンバに識別情報を容易に設定可能な識別情報設定装置、および識別情報設定方法を提供する。本発明の一実施形態では、記憶装置５０４は、搬送ロボットを有する搬送チャンバを配置可能な各位置に対し予め設定したフィールド識別情報を格納する。実際に搬送チャンバを配置させる位置及び当該搬送チャンバの情報を指定情報として、受け付ける。実際に配置させる搬送チャンバと識別情報との対応を格納する。
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【課題】基板と吸着パッドとの間の吸着エラーを防止することが可能な処理装置を提供すること。
【解決手段】処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、基板を載置して、基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、搬送ステージは、基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、基板を搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、保持部材を搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を備え、支持手段が基板を支持する支持高さは、処理部が設けられた処理部設置領域において保持部材が基板を保持する保持高さと同じであり、処理部設置領域以外の領域において保持高さより低い。 （もっと読む）