【課題】 低温から高温に至る広い温度範囲に亘って高い耐久性を有しており、信頼性の高い電極構造を提供する。
【解決手段】 ウエハ保持体用のセラミックス基体１内に埋設されたヒータ回路や高周波電極回路などの電気回路２に接続される電極構造であって、一端が電気回路２に電気的に接続されると共に他端が接地または外部電源に接続された例えば棒状のセラミックス電極４を有しており、該セラミックス電極４の表面にはメタライズ層４ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】静電吸着装置における吸着力又はその分布を容易に調整可能とする。
【解決手段】ウエハＷを吸着して保持する静電チャック２２であって、ウエハＷに対向して配置される支持面３３を有するベース部材３２と、支持面３３に設けられてウエハＷを支持する複数の円柱状の支持部３４と、支持面３３の複数の支持部３４の間に設けられた吸着用の電極３８Ａ，３８Ｂと、電極３８Ａ，３８Ｂの支持面３３に対する高さを調整する複数のアクチュエータ４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】いずれかの装置が基板ホルダに保持力を提供できない。
【解決手段】基板ホルダは、基板が載置される載置面を有する載置部と、前記基板を前記載置面に保持する保持部と、前記載置面の垂直軸の周りの複数の回転位置に配置され、前記保持部への保持力の供給を外部から受ける複数の受給部とを備える。基板貼り合わせ装置は、上記基板ホルダと、前記複数の基板を加圧して貼り合わせる複数の加圧室と、前記基板ホルダに保持された前記複数の基板を前記複数の加圧室に搬送する搬送部とを備え、前記複数の加圧室のそれぞれは、前記複数の受給部のいずれかに接続される接続部を有する。 （もっと読む）

【課題】真空処理室に設けられる基板載置台の表面部の状態の確認や当該表面部の交換を行うことによる真空処理の停止時間を短くすると共に、前記表面部の状態を精度高く管理すること。
【解決手段】基板が搬送される常圧雰囲気の常圧搬送室と、常圧搬送室とロードロック室を介して接続される真空処理室と、前記真空処理室に設けられ、本体部と、当該本体部に対して着脱自在な表面部とを有する基板載置台と、前記ロードロック室または常圧搬送室に設けられ、前記表面部を収納するための保管部と、常圧搬送室からロードロック室を介して真空処理室へ基板を搬送し、また前記保管部と前記真空処理室の本体部との間で前記表面部を搬送するための搬送機構と、を備えるように基板処理装置を構成する。これによって真空処理室の大気開放を防ぐと共に表面部の状態の確認が容易になるので当該表面部を精度高く管理することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数の部品の組み合わせからなる電極部材の信頼性を高めたウェハ保持体を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハ保持体は、内部もしくは表面に導電回路を有するウェハ保持体であって、該導電回路に接続される電極部材が複数の部品の組み合わせからなり、該各部品の表面全面に耐食性被膜が形成されており、該耐食性被膜が形成された各部品を組み合わせて電極部材とした後、該電極部材の表面全面に耐食性被膜が形成されていることを特徴とする。前記電極部材は、前記各部品をネジで螺合されて組み合わされていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】チャックへのＲＦバイアスの適用及び電極の加熱によりセラミックの破壊を引き起こさないセラミック本体を備えた静電チャックを提供する。
【解決手段】多層電極を有する薄層状のセラミック本体を備える装置及びこの装置を製作する方法が開示されている。薄層状のセラミック本体はセラミック材料の層を備え、電導材料の中間層でシルクスクリーンされる一定の層の部分を有している。次の焼結は電導材料層製の多層電極を有する固体のセラミック本体を形成する。装置は前記セラミック本体に部分的に延び、これらの電極の少なくとも１つで交差する電気コネクタをさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】熱サイクル下においてもウエハ設置面の形状が変化することがないセラミックス部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス部材１０は、セラミックス焼結体からなる基体１１と、基体１１の内部に埋設され、タングステン、モリブデン又はこれらを主成分とする合金からなる電極１２と、電極１２と電気的に接続され、基体１１の内部に埋設され、タングステン、モリブデン又はこれらを主成分とする合金からなる金属塊１３と、金属塊１３とビーム溶接によって接合され、ニッケル、チタン、銅又はこれらを主成分とする合金からなる給電端子１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】導電層内での空洞発生、高抵抗化、及び電気的不導通の発生を防止することができ、かつ接合強度を向上させることができ、かつ装置全体の長期信頼性を向上させることのできる静電チャックを提供する。
【解決手段】イットリアを主成分とするセラミックからなる板状の基体２Ａと、この基体の一主面に開口する凹部３Ａと、前記凹部の底面９Ａに露出した、白金とイットリアを主成分とするセラミックとで形成された導電層４Ａと、前記凹部内に立設して配置され、前記導電層と電気的に接続された電極端子５Ａとを有する静電チャック１Ａ装置であって、前記導電層の表面１０Ａと前記電極端子との間に形成された、９３体積％以上の白金を含む接続中間層６Ａを有することを特徴とする静電チャック。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の急速な加熱冷却が可能で、高い絶縁性を維持する静電チャックを提供する。
【解決手段】セラミック基板と、前記セラミック基板の上側に設けられ、被処理基板が載置される第１主面を有するセラミック誘電体と、前記セラミック基板と前記セラミック誘電体との間に設けられた電極と、を備え、前記セラミック誘電体の材質は、セラミック焼結体であり、前記セラミック誘電体の前記第１主面には、複数の突起部と、ガスを供給する溝と、が設けられ、前記溝の底面には、前記第１主面とは反対側の前記セラミック基板の第２主面まで貫通する貫通孔が設けられ、前記電極と前記溝との間の距離は、前記電極と前記第１主面との間の距離と同じか、もしくは大きいことを特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】セラミックス基体中に埋設された導電体に給電するための電極部材の腐蝕をなくし、長期に使用しても信頼性の高いウェハ保持体を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハ保持体は、セラミックス基体中に埋設された導電体に接続された導電端子と、導電端子に接続された変形能を有する電極接続導電体が、ウェハ保持体に接続された筒状セラミックス部材に包囲され、該筒状セラミックス部材の内部が非酸化性雰囲気に封止された構造である。 （もっと読む）

【課題】酸素系プラズマや腐食性ガスに対する耐性及び耐絶縁性が高く、使用時の放電等による破損の頻度が低く、パーティクルの発生量も少なく、しかもウエハ面内の温度のバラツキが小さく、かつ安価な静電チャック装置を提供する。
【解決手段】セラミック板状体２の上面２ａをウエハＷを載置する載置面とし、下面２ｂに静電吸着用電極３を備えた静電チャック部４と、下面２ｂ側に設けられセラミック板状体２を支持する基台８とを備え、静電吸着用電極３に、シート状またはフィルム状の有機系接着剤層５を介して絶縁層６を接着し、この絶縁層６に、有機系接着剤層７を介して基台８を接着した。 （もっと読む）

【課題】接合対象をより確実に保持すること。
【解決手段】静電チャック１８と活性化装置とを備えている。静電チャック１８は、端子２３−１〜２３−２を介して内部電極２２−１〜２２−２に電圧が印加されることにより接合対象７を保持する。その活性化装置は、静電チャック１８に保持される接合対象７の表面に粒子を照射する。端子２３−１〜２３−２は、静電チャック１８の表面のうちのその粒子が照射されない領域に配置されている。このような接合装置は、その粒子の長時間照射により形成される導体の薄膜が端子２３−１〜２３−２の近傍に形成されることを防止することができ、内部電極２２−１〜２２−２に印加される電圧による火花放電が発生することを防止し、静電チャック１８が接合対象７をより確実に保持することができる。 （もっと読む）

【課題】基材と電極間の密着性を向上させた静電チャック、及びそのような静電チャックの製造に有用な静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】酸化イットリウムからなるセラミック基材１１、この基材に設けられた電極１２とを備えた静電チャック１０であって、前記基材は、粒界相にカルシウム、マグネシウム及びストロンチウムの群から選ばれる少なくとも１種の元素を含む酸化イットリウムを有し、前記電極は、白金と、粒界相にカルシウム、マグネシウム及びストロンチウムの群から選ばれる少なくとも１種の元素を含む酸化イットリウムとを有し、かつ前記基材における前記カルシウム、マグネシウム及びストロンチウムの群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化イットリウムに対する質量割合は、前記電極における前記カルシウム、マグネシウム及びストロンチウムの群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化イットリウムに対する質量割合より小さい。 （もっと読む）

【課題】吸着面の温度分布を均一にすることにより、吸着面に吸着された被吸着物を均一に加熱または冷却することができる静電チャックを提供すること。
【解決手段】静電チャック１は、セラミック絶縁板１０及び金属ベース３０を備え、吸着用電極層５１に電圧を印加させた際に生じる静電引力を用いて被吸着物２を吸着面１１に吸着させる。セラミック絶縁板１０は、ヒータ電極層６１及び冷却用ガス流路４１を内部に有する。冷却用ガス流路４１は、セラミック絶縁板１０の平面方向に延びる横穴４２を備える。吸着用電極層５１は、セラミック絶縁板１０内において横穴４２よりも吸着面１１側に配置され、ヒータ電極層６１は、セラミック絶縁板１０内において横穴４２よりも接合面１２側に配置される。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダーが配置される真空容器内の減圧雰囲気により膨らむことがなく、被処理基板を安定に載置或いは保持することを可能とする基板ホルダーを提供する。
【解決手段】本発明の基板ホルダー１０１は、均熱用の金属性板状部材１２１或いは静電吸着用電極と、被処理基板を載置或いは保持する被処理基板載置面１６１を有し被金属材料からなる第１の母材１１２と、金属性板状部材或いは静電吸着用電極を埋め込む被金属材料からなる第２の母材１１１と、から成る基板ホルダーであって、金属性板状部材１２１或いは静電吸着用電極に複数の貫通穴１８１を厚さ方向に設け、前記貫通穴１８１を介して前記第１の母材１１２と第２の母材１１１とを接合し、金属性板状部材１２１或いは静電吸着用電極を内部に埋め込んだことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】温度センサの経時変化を監視することにより、ウエハ加工精度の再現性を向上したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置の試料載置台１０７は、金属製の基材２０１と、該基材の上面に配置されその上に前記試料が載せられる誘電体製の膜２０２と、該膜内に配置された膜状のヒータ２０４と、前記基材内に配置され内部に冷媒が流れる通路２０３と、前記基材の内部に挿入され前記基材の温度を検知するセンサ２０５とを備え、前記ヒータに所定の電力を供給した際の前記センサからの出力の時間変化をもとに前記センサの異常を検知する。 （もっと読む）

【課題】高い吸着力を持ちながら、脱着時間が短く、製造時に反りが発生しにくく、熱サイクル後の機械的強度の劣化が少ない静電チャックを提供する。
【解決手段】セラミックス製の静電チャックは、誘電体層と、その誘電体層の裏面に接する支持体層とを備え、静電電極が埋設されたものである。誘電体層は、表面にウエハーを載置可能であり、Ｓｍを含む窒化アルミニウム焼結体からなり、室温における体積抵抗率が４×１０⁹〜４×１０¹⁰Ωｃｍである。支持体層は、ＳｍとＣｅを含む窒化アルミニウム焼結体からなり、室温における体積抵抗率は１×１０¹³Ωｃｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】残留吸着作用を低減でき、且つ長寿命の静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】基板（１２）上に１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有する接着剤層（２２）を形成し、接着剤層上に、電極が埋設されるとともに１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有する表面絶縁層（１４）を形成する。或いは、基板上に１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有する接着剤層を形成し、接着剤層上に、電極が埋設されるとともに１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有する表面絶縁層を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】残留吸着作用を低減でき、且つ長寿命の静電チャックを用いた半導体製造装置を提供する。
【解決手段】半導体製造装置は、真空チャンバ内でウエハを保持するための静電チャックを含む。静電チャック（１０）は、基板（１２）と、ウエハが吸着されるとともに、電極を有する表面絶縁層（１４）と、表面絶縁層と基板とを接着する接着剤層（２２）とを備え、電極は該表面絶縁層に埋設してなる。ここで、表面絶縁層は１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有し、接着剤層は１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有する。或いは、表面絶縁層は１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有し、接着剤層は１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上の半導体デバイスにおける絶縁膜の劣化を防止するとともに、容易に製造することができる載置台を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０の載置台１２は、第１の高周波電源２８及び第２の高周波電源２９に接続される下部電極２０と、該下部電極２０の上面中央部分において埋設される誘電体層２１と、該誘電体層２１の上に載置される静電チャック２２と、ウエハＷ及び誘電体層２１の間に配される導電膜４５とを有し、該静電チャック２２は電極膜３７を有し、導電膜４５は条件「δ_１／ｚ_１≧８５」及び条件「ρ_ｓ１≦２．６７×１０^５Ω／□」を満たし、電極膜３７は条件「δ_２／ｚ_２≧８５」を満たす。但し、ｚ_１：導電膜４５の厚さ、δ_１：導電膜４５のスキンデプス、ρ_ｓ１：導電膜４５の表面抵抗率、ｚ_２：電極膜３７の厚さ、δ_２：電極膜３７のスキンデプス。 （もっと読む）